长区域透明的材料中选择，例如可以使用硼硅酸玻璃、水晶、聚酯树脂、聚烯烃树脂、丙稀酸树脂等。
[0041]另外，在本实施方式中，对遮光膜105是通过溅射法、真空蒸镀法等形成Cr薄膜的情况进行了说明，但并不限定于这样的构成。作为遮光膜105，除了 Cr之外，可以使用Ta(钽)、Mo(钼)、Ni(镍)、Ti(钛)、Cu(铜)、A1(铝)等金属材料。
[0042]另外，在本实施方式中，以将固体摄像元件200的包装300密封的防护玻璃100为例进行了说明，但是本发明同样地也能够适用于从入射到固体摄像元件200的光中除去近红外线的近红外线截止滤光片或从入射到固体摄像元件200的光中除去包含高空间频率的光的光学低通滤波器。应予说明，在适用于近红外线截止滤光片的情况下，可以使用与本实施方式同样的玻璃基材101，优选其厚度为0.1?1.0mm的范围。另外，在适用于光学低通滤波器的情况下，只要使用由水晶、硼硅酸玻璃形成的玻璃基材101即可，优选其厚度为
0.1?3.0mm的范围。
[0043]另外，说明了本实施方式的蚀刻阻挡层103的光学膜厚为λ/2(λ为中心波长(设计波长))的情况，但是只要能够对蚀刻阻挡起作用即可，可以适用任何膜厚。但是，在将蚀刻阻挡层103成膜的情况下，一般产生±10%左右制造上的差异(误差)。因此，从压缩制造上的误差的观点考虑，优选蚀刻阻挡层103的膜厚越薄越好。另外，如果蚀刻阻挡层103的膜厚厚，则担心出现如下问题:其膜应力会导致玻璃基材101翘曲，使得玻璃基材101破损，后续工序(例如功能膜的成膜工序)中的不良率升高。因此，从缓和膜应力的观点考虑，也优选膜厚薄的蚀刻阻挡层103，其物理膜厚为玻璃基材101的板厚的0.3?200.0ppm0更具体而言，例如优选0.1?1.0mm的板厚的玻璃基材101，形成0.3?20.0nm的物理膜厚的蚀刻阻挡层103，更优选相对于0.1?0.3mm的板厚的玻璃基材101，形成
1.0?10.0nm(即3.3?100.0ppm)的物理膜厚的蚀刻阻挡层103。
[0044]图7是本发明的实施方式所涉及的防护玻璃100的第一变形例的构成的说明图。本变形例的防护玻璃100A在玻璃基材101的出射面1lb侧也形成了蚀刻阻挡层103，这一点与本实施方式的防护玻璃100不同。根据这样的构成，在上述的图案化工序中，也防止了玻璃基材101的出射面1lb的粗面化，还防止了出射面1lb侧的散乱，所以能够由固体摄像元件200得到析像度更高的图像。另外，进而作为其他变形例，可以在出射面1lb侧的蚀刻阻挡层103上进一步形成遮光膜105。
[0045]图8是本发明的实施方式所涉及的防护玻璃100的第二变形例的构成的说明图。本变形例的防护玻璃100B以覆盖入射面1la侧的方式形成有防反射膜110，在这方面区别于本实施方式的防护玻璃100。本变形例的防反射膜110由光学膜厚λ/4的Al2O3薄膜、光学膜厚λ /2的ZrO2薄膜、光学膜厚λ /4的MgF 2薄膜构成，它们在上述抗蚀剂剥离工序后通过溅射法、真空蒸镀法等顺次层叠而形成。由此，如果在防护玻璃100Β上设置防反射膜110，则入射到防护玻璃100Β的入射面1la的光的反射被抑制，所以在固体摄像元件200中光的导入效率升高。应予说明，在本变形例中，以覆盖防护玻璃100Β的入射面1la侧整体的方式形成防反射膜110，但是并不限定于这样的构成，只要以至少覆盖透光部T的方式形成防反射膜110即可。另外，作为设置在防护玻璃100Β上的功能膜，并不限定于3层防反射膜110，也不限定于防反射膜。可以形成具有防反射膜、红外线切断膜、紫外线切断膜中的至少I种功能的光学薄膜。
[0046]应予说明，在本变形例中，以在防护玻璃100Β上有光学膜厚λ/2的蚀刻阻挡层103为前提，但是在蚀刻阻挡层103的膜厚不同于此的情况下，只要考虑蚀刻阻挡层103 ( S卩、S12薄膜)的实际膜厚，改变防反射膜110的膜构成即可。
[0047]应予说明，应当认为本次公开的实施方案的所有点均为举例，并非限定。本发明的范围不是由上述说明、而是由权利要求书给出，旨在包含与权利要求书等同含义以及范围内的全部变更。
【主权项】
1.一种光学元件，是内装有固体摄像元件的摄像装置中使用的光学元件，其特征在于:包括: 正反面分别为朝向固体摄像元件的光入射的入射面和入射到该入射面的光透过而朝向所述固体摄像元件出射的出射面的透明基板， 覆盖在入射面以及出射面至少一面上的蚀刻阻挡层， 在所述透明基板的中心部形成的能够透过光的一部分的透光部， 在所述蚀刻阻挡层上形成的呈框状包围在透光部外周的能够遮住光的一部分的遮光部。2.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于:还包括至少覆盖所述透光部的功能膜。3.根据权利要求2所述的光学元件，其特征在于:所述功能膜是具备防反射、切断红外线、切断紫外线中的至少I种功能的光学薄膜。4.根据权利要求2所述的光学元件，其特征在于:所述功能膜是从透明基板顺次层叠Al2O3层、ZrO 2层、MgF 2层而成的防反射膜。5.根据权利要求1?4中的任一项所述的光学元件，其特征在于:所述蚀刻阻挡层由Si02、Al2O3或ZrO 2的薄膜形成。6.根据权利要求1?4中的任一项所述的光学元件，其特征在于:在将所述光的中心波长设定为λ时，所述蚀刻阻挡层的光学膜厚为λ/2。7.根据权利要求1?4中的任一项所述的光学元件，其特征在于:所述蚀刻阻挡层的物理膜厚为透明基板的板厚的0.3?200.0ppm。8.根据权利要求1?4中的任一项所述的光学元件，其特征在于:所述透明基板的板厚为0.1?1.0mm，所述蚀刻阻挡层的物理膜厚为0.3?20.0nm。9.根据权利要求1?4中的任一项所述的光学元件，其特征在于:所述遮光部由至少包含Cr的薄膜形成。10.根据权利要求1?4中的任一项所述的光学元件，其特征在于:所述遮光部通过用光刻法蚀刻而形成。11.根据权利要求1?4中的任一项所述的光学元件，其特征在于:所述透光部的面积比所述固体摄像元件的受光面的面积大。12.根据权利要求1?4中的任一项所述的光学元件，其特征在于:所述光学元件是安装在收纳所述固体摄像元件的包装的前面的防护玻璃。13.根据权利要求1?4中的任一项所述的光学元件，其特征在于:所述透明基板为吸收近红外线区域的波长的光的近红外线吸收玻璃。14.根据权利要求13所述的光学元件，其特征在于:所述近红外线吸收玻璃是由含有Cu2+的氟磷酸盐系玻璃或含有Cu 2+的磷酸盐系玻璃构成的。
【专利摘要】本发明提供一种光学元件，所述光学元件不使玻璃基板的表面粗面化、形成了边缘齐整的遮光板(遮光部)。在内装有固体摄像元件的摄像装置中使用的光学元件，包括：正反面分别为朝向固体摄像元件的光入射的入射面和入射到该入射面的光透过而朝向固体摄像元件出射的出射面的透明基板，覆盖在入射面以及出射面至少一面上的蚀刻阻挡层，在透明基板的中心部形成的能够透过光的一部分的透光部，以及在所述蚀刻阻挡层上形成的呈框状包围在透光部外周的能够遮住光的一部分的遮光部。
【IPC分类】G02B5/20, G02B1/11
【公开号】CN105093371
【申请号】CN201510122107
【发明人】藤井達也, 細田啓次
【申请人】豪雅冠得股份有限公司, 青岛豪雅光电子有限公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年3月19日