br>[0055]将处理好的玻璃基底放于聚四氟乙烯反应内衬中后，向内衬中加入羟基磷灰石悬浊液。
[0056]将高压反应釜放于烘箱中在180°C温度条件下水热反应24h，待反应结束冷却到室温后，样品超声水洗5min洗去表面附着不稳的羟基磷灰石，最后水洗，并且在45°C条件下烘干即可。
[0057]实施案例4
[0058]称取0.1492g四水硝酸钙用去50ml去离子水完全溶解。
[0059]称取0.0449g磷酸氢铵钠同样用50ml去离子水完全溶解。
[0060]将磷酸氢铵钠溶液缓慢加入到硝酸钙溶液中，在加入的过程中通过氨水调节反应的pH = 10，得到的白色悬池液持续搅拌5min。
[0061]将处理好的石英基底放于聚四氟乙烯反应内衬中后，向内衬中加入羟基磷灰石悬浊液。
[0062]将高压反应釜放于烘箱中在180°C温度条件下水热反应24h，待反应结束冷却到室温后，样品超声水洗5min洗去表面附着不稳的羟基磷灰石，最后水洗，并且在50°C条件下烘干即可。
[0063]实施案例5
[0064]称取0.1492g四水硝酸|丐用去50ml去离子水完全溶解。
[0065]称取0.0449g磷酸氢二铵同样用50ml去离子水完全溶解。
[0066]将磷酸二氢铵溶液缓慢加入到硝酸钙溶液中，在加入的过程中通过氨水调节反应的pH = 10，得到的白色悬池液持续搅拌5min。
[0067]将处理好的氟化钙基底放于聚四氟乙烯反应内衬中后，向内衬中加入羟基磷灰石悬浊液。
[0068]将高压反应釜放于烘箱中在180°C温度条件下水热反应24h，待反应结束冷却到室温后，样品超声水洗5min洗去表面附着不稳的羟基磷灰石，最后水洗，并且在55°C条件下烘干即可。
[0069]实施案例1，2，3，4，5在玻璃片上进行不同涂膜厚度的样品及未涂膜基底的透光率检测结果在图1?图3中，图1中的I，II，III，IV分别为未涂膜的玻璃基底和实施案例3，2，I涂膜样品的透光率；图2中的I，II分别为未涂膜的石英基底和实施案例4涂抹样品的透光率；图3中的I，II分别为未涂膜的氟化钙基底和实施案例5涂膜样品的透光率。
[0070]实施案例I所得玻璃片样品表面的红外光谱，拉曼光谱和XRD表征结果展示在图4?图6中。
[0071]实施案例1，2，3所得玻璃片样品表面的羟基磷灰石涂膜的厚度的检测结果展示在图7?图9中。
[0072]实施案例3，4，5中所得样品的表面涂膜形貌表征在图10?图12中。
[0073]实施案例3，4，5中所得不同基底上涂膜样品细胞培养结果的白光观察结果在图13?图15中。
[0074]实施案例3，4，5中得到不同基底上涂膜样品细胞培养结果的荧光观察结果在图16?图18中。
[0075]从图1中可以看出在玻璃基底上不同浓度的涂膜对白光透光率有着很明显的影响。随着涂膜浓度浓度的增高，玻璃基底的白光透光率(II，III，IV)也逐渐变低，涂抹样品的白光透光率在60%?80%之间。同样的在图2石英片涂膜白光透光率，图3中是氟化钙涂膜白光透光率，我们也可以清楚的发现用最低浓度在石英和氟化钙基底上涂膜后，都可以得到80%左右的白光透光率涂膜样品。
[0076]从图4?图6中为实施方案I涂膜样品的红外，拉曼和XRD的材料结构表征结果，在红外图谱中在1030cm 1和563cm 1出现了磷酸根的特征峰，在3570cm 1处出现了轻基的特征峰；XRD图谱中出现了羟基磷灰石的特征峰为(002)，(211)，(222)，(213);拉曼光谱明显在963cm 1处出现了羟基磷灰石的拉曼特征峰。这些表征可以推断出在基底上确实形成了一层羟基磷灰石薄膜。
[0077]通过Nanomap测试了 3个不同浓度在玻璃片上形成的羟基磷灰石薄膜(实施案例1,2, 3)的厚度，实验的厚度结果在图7?图9中，羟基磷灰石薄膜厚度分别为5 μ m，4 μ m和3 μ m0
[0078]相同的反应浓度和条件在玻璃，石英和氟化钙基底上水热得到羟基磷灰石涂膜(实施案例3，4，5)的微观形貌通过扫描电镜进行观察，涂膜形貌在图10?图12中，很明显的可以看出，相同的涂膜条件在玻璃片，石英片和氟化钙基底上会形成形貌完全不同的羟基磷灰石薄膜。
[0079]图13?图15和图16?图18分别是白光和荧光的细胞形貌观察，在两个光路条件下，都可以很清晰的观察到细胞的形貌状态非常好。通过本专利介绍的方法可以合成出新型的涂膜光学材料，这些材料既有不错生物活性，同时也不影响细胞培养过程中的细胞形貌观察。
[0080]以上所述，仅是本发明的较佳实施例，并非对本发明作任何形式上的限制，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，依据本发明的技术实质，对以上实施例所作的任何简单的修改、等同替换与改进等，均仍属于本发明技术方案的保护范围之内。
【主权项】
1.一种在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于:包括步骤如下: 1)取适量可溶性的磷源于烧杯中，在磁力搅拌的作用下，使磷源完全溶解在去离子水中，制成磷源溶液； 2)取一定量的可溶性钙盐在磁力搅拌的作用下完全溶解于去离子水中，制成钙源溶液； 3)将磷源溶液加入钙源溶液中，并且调节混合反应过程中的pH在9?11左右，伴随磁力搅拌持续的搅拌，最终获得白色乳状液，即为羟基磷灰石悬浊液； 4)将光学基底进行前期处理，处理完后放于聚四氟乙烯内衬中，并向内衬中加入步骤3)所得的羟基磷灰石悬浊液；然后放入高压反应釜中，使高压反应釜置于烘箱中以180°C的温度反应12h?36h，反应完成后自然冷却至室温，收集涂膜样品。2.如权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于:步骤I)中的可溶性磷源可以用磷酸二氢铵，或者磷酸氢铵钠。3.如权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于:步骤2)中的可溶性钙盐为硝酸钙。4.如权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于:步骤I)和步骤2)中的钙源和磷源的摩尔量之比为1.67:1。5.如权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于:步骤3)中调剂pH值的试剂为氨水，氨水易挥发，易溶解，方便后期样品洗涤的工作。6.权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于:步骤4)中的光学基底的前期处理主要是通过柔和洗涤剂和纯水的反复冲洗。7.权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于:步骤4)中收集涂膜样品时先通过超声将表面涂膜上的不稳定附着物除去。8.权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于:步骤4)所得的涂膜样品在烘箱中以40°C?55°C进行烘干处理。
【专利摘要】本发明涉及一种在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，包括步骤如下：取磷源完全溶解在去离子水中制成磷源溶液；取可溶性钙盐完全溶解于去离子水中制成钙源溶液；将磷源溶液加入钙源溶液中，并且调节pH在9～11左右，伴随磁力搅拌持续的搅拌，最终获得白色乳状液，即为羟基磷灰石悬浊液；将处理完后的光学基底放于聚四氟乙烯内衬中，并向内衬中加入步骤3)所得的羟基磷灰石悬浊液；然后放入高压反应釜中，置于烘箱中以180℃的温度反应12h～36h，反应完成后自然冷却至室温，收集涂膜样品。本发明的方法获得的涂膜后的基底材料可以用来观察细胞在羟基磷灰石表面生长分化的情况。
【IPC分类】G02B1/10
【公开号】CN105137509
【申请号】CN201510515376
【发明人】朱沛志, 薛才宝
【申请人】扬州大学
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2015年8月20日