光学构件、该光学构件的制造方法以及摄像装置的制造方法
【专利摘要】本发明涉及一种光学构件，包括：催化剂层，其形成于光学功能面；和氧化锌，其由微细凹凸构造形成，所述微细凹凸构造通过在所述催化剂层的表面大致周期性地排列有沿C轴取向而成的钟形状或锥形状的突起构造而成。优选催化剂层含有以从钯、铂、金、银、钌、铑中选出的至少一种元素作为主成分的催化剂材料。由此，能够提供表面形成有微细凹凸构造的光学构件以及能够容易地制造这种光学构件的制造方法。
【专利说明】
光学构件、该光学构件的制造方法以及摄像装置
技术领域
[0001]本发明公开的技术涉及表面形成有微细凹凸构造的光学构件、该光学构件的制造方法以及使用了该光学构件的摄像装置。
【背景技术】
[0002]以往，已知表面形成有微细凹凸构造的光学构件。这种光学构件具有减少光的反射的效果。专利文献I?3中公开了为了减少光的反射而在表面形成有微小的凹凸构造的光学构件(防反射构造体)。
[0003]专利文献I的发明在由玻璃、金属、陶瓷或树脂等构成的基板的表面形成抗蚀剂层，通过使用了电子束或者质子束的光刻法在抗蚀剂层上形成图案从而形成掩膜，通过利用该掩膜进行蚀刻而在基板的表面形成凹凸构造。
[0004]专利文献2的发明在玻璃基板的表面形成抗蚀剂层，在该抗蚀剂层上进行利用双光束干涉的全息曝光来形成由微细形状构成的掩膜，通过利用该掩膜进行蚀刻而在玻璃基板的表面形成凹凸构造。
[0005]专利文献3的发明对由感光性材料形成的光学部件隔开规定的间隔地配置X射线掩膜，通过隔着该X射线掩膜向光学部件照射X射线而在光学部件的表面形成凹凸构造。
[0006]在先技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献I:日本特开2009-128540号公报
[0009]专利文献2:日本特开2006-243633号公报
[0010]专利文献3:日本特开2006-235195号公报
【发明内容】
[0011]当然期望不管在何种光学构件中都能够容易地形成微细凹凸构造。然而，在引用文献I?3的发明中，经由复杂的工序来对各种光学构件形成微细凹凸构造，因此难以对镜筒内表面、显示器表面那样的光学构件等形成微细凹凸构造。这是由于，这些构件或呈曲面、或为筒的内表面、或面积大等，从而难以高精度地控制电子束、光的干涉光、X射线。
[0012]本发明公开的技术是鉴于上述问题点而完成的，其目的在于提供表面形成有微细凹凸构造的光学构件、以及能够容易地制造这种光学构件的制造方法。根据本发明公开的技术，对镜筒内表面、显示器表面那样的光学构件等以往难以形成微细凹凸构造的曲面、筒的内表面、大面积等形状的光学构件也能够形成微细凹凸构造。
[0013]本发明公开的技术涉及一种光学构件，包括:催化剂层，其形成于光学功能面;和氧化锌，其由微细凹凸构造形成，所述微细凹凸构造通过在所述催化剂层的表面大致周期性地排列有沿C轴取向而成的钟形状或锥形状的突起构造而成。优选催化剂层含有以从钯、铂、金、银、钌、铑中选出的至少一种元素作为主成分的催化剂材料。
[0014]在本发明公开的技术中，ZnO结晶的C轴是指，从催化剂层面朝向空气层侧延伸的ZnO的结晶轴。例如，可以沿相对于光轴X倾斜的方向延伸，或者相对于光轴X弯曲地延伸，或者折弯延伸。优选ZnO结晶的C轴从催化剂层面朝向空气层侧向垂直方向延伸。
[0015]另外，本发明公开的技术涉及一种光学构件的制造方法，包括:第一步骤，将光学构件的光学功能面投入含有从钯、铂、金、银、钌、铑中选出的至少一种元素的水溶液中，从而在所述光学功能面上生成以所述至少一种元素作为主成分的催化剂层;第二步骤，将表面生成有所述催化剂层的光学构件的光学功能面投入含有氧化锌的水溶液中，从而在所述催化剂层的表面生成沿C轴取向的六棱柱突起构造的氧化锌；以及第三步骤，通过干式蚀刻或湿式蚀刻，将所述六棱柱突起构造的氧化锌成形为钟形状或锥形状的突起构造。
[0016]或者，本发明公开的技术涉及一种光学构件的制造方法，包括:第一步骤，将光学构件的光学功能面投入含有从钯、铂、金、银、钌、铑中选出的至少一种元素的水溶液中，从而在所述光学功能面上生成以所述至少一种元素作为主成分的催化剂层;和第二步骤，将表面生成有所述催化剂层的光学构件的光学功能面投入含有氧化锌的水溶液中，从而在所述催化剂层的表面生成沿C轴取向的六棱锥形状或钟形状的突起构造的氧化锌。
[0017]根据本发明的技术，能够提供表面设有微细凹凸构造的光学构件以及这种光学构件的制造方法。
【附图说明】
[0018]图1是沿与光轴平行的平面将透镜切断后的简图。
[0019]图2是对透镜的制造工序进行表示的图。
[0020]图3是摄像头的简图。
[0021 ]图4是对实施例1的制造工序进彳丁表不的图。
[0022]图5A是对实施例1的图2的(D)的工序中的透镜的表面的SEM照片进行表示的图。
[0023]图5B是对实施例1的图2的(D)的工序中的反射率的测定结果进行表示的图。
[0024]图6A是对实施例1的图2的(C)的工序中的透镜的表面的SEM照片进行表示的图。
[0025]图6B是对实施例1的图2的(C)的工序中的反射率的测定结果进行表示的图。
[0026]图7是对实施例2的制造工序进行表示的图。
[0027]图8A是对实施例2中的透镜的剖面的SEM照片进行表示的图。
[0028]图SB是对实施例2中的反射率的测定结果进行表示的图。
[0029]图9是对实施例3的制造工序进行表示的图。
[0030]图10是对实施例3的透镜的表面的SEM照片进行表示的图。
【具体实施方式】
[0031 ]以下，参照附图对例示的实施方式进行详细说明。
[0032][1.透镜的简要结构]
[0033]图1是沿与光轴X平行的平面将透镜10切断后的剖视图。
[0034]透镜10具备:透镜主体11、和在透镜主体11的两面设置的防反射层12。透镜10是双凸形状的透镜。透镜10的两面是光学功能面(也称为光学有效面)。透镜10是形成有微细凹凸构造的光学构件的一个例子。
[0035]根据本发明的技术，例如，在透镜主体(也称为光学构件的基板)表面形成有催化剂层，在该催化剂层的表面大致周期性地排列有氧化锌(ZnO)沿C轴取向而成的钟形状或锥形状的关起构造。
[0036]透镜主体11形成透镜1的基本的构造。即，透镜主体11呈双凸形状。透镜主体11的表面lla、llb为了实现要求透镜10达到的光学特性而形成所需的形状。表面lla、llb例如是平滑的弯曲面。例如，表面lla、llb可以形成为球面形状、非球面形状或自由曲面。需要说明的是，表面lla、llb也可以是平面。透镜主体11也可以是通过注射成形制成的塑料成形品。需要说明的是，透镜主体11不局限于塑料成形品，也可以由玻璃形成。
[0037]具有表面Ila的防反射层12与具有表面Ilb的防反射层12的基本结构相同，因此以下对具有表面Ila的防反射层12进行说明。
[0038]防反射层12具有减少光的反射的防反射构造(SWS:SubWavelength Structure)15 JWS15是微细凹凸构造的一个例子。SWS15具有催化剂层13、和在催化剂层13上排列的多个凸部14。
[0039]在催化剂层13的整个表面形成有由ZnO构成的凸部14。因此，由ZnO构成的凸部14无间隙地排列在透镜主体11的表面11a，一个个突起分别与透镜主体11的表面Ila密接。
[0040]这里，“凸部14无间隙地排列”是指多个相邻的凸部14的底部(S卩，凸部14的最低的部分)相互连结，而以不存在平坦部的状态排列(例如，参照图8A)。需要说明的是，如后文所述，相邻的凸部14的顶点间具有规定的间距。
[0041]根据本发明公开的技术，通过在透镜主体11与凸部14之间设置催化剂层13，从而能够避免凸部14从透镜主体11剥离。
[0042]凸部14以规定间距(周期)以下而排列。规定间距设定为比成为防反射层12减少反射的对象的光(以下，称为“对象光”)的波长(以下，称为“对象波长”)小。换言之，多个凸部14至少减少具有规定间距以上的波长的光的反射。凸部14例如呈钟状、圆锥那样的尖细形状。凸部14可以沿相对于光轴X倾斜的方向延伸，或者相对于光轴X弯曲地延伸，或者折弯延伸。即，SWSl 5为从空气层(折射率n0 = I)朝向透镜材料(折射率η I > I)逐渐引起折射率变化而不进行表面反射的防反射构造。
[0043][2.凸部的具体结构]
[0044]通过在防反射层12上排列多个凸部14而形成微细凹凸构造。将连结多个凹部的底部(最低的部分)而形成的假想的面、即催化剂层13的表面设为基面L。基面L与透镜主体11的表面I la、I Ib大致平行地形成。
[0045]这里，凸部14的间距是相邻的凸部14的顶点间的在与光轴X正交的面平行的方向上的距离。另外，凸部14的光轴方向的高度是从凸部14的顶点至基面L的在光轴方向上的距离。
[0046]在摄像光学系统中使用透镜10的情况下，对象光为可见光。在该情况下，对象波长为400nm?700nm，因此优选凸部14的间距为400nm以下。若采用这样的间距，则能够使对对象光(例如，可见光)的反射率在中心波长550nm处为I %以下。
[0047]另外，优选SWS15对对象光(例如，可见光)的反射率在中心波长550nm处为1%以下。从实现较高的防反射效果的角度出发，凸部14的高度优选为对象波长的0.4倍以上。在对象光为可见光的情况下，凸部14的高度优选为280nm以上。凸部14的高度更优选为500nm以上。
[0048]并且，为了不产生衍射光，优选将凸部14的间距设为对象波长除以透镜10的折射率除而得到的值以下。在对象波长为可见光且透镜10的折射率为1.5的情况下，凸部14的间距优选为266nm以下。
[0049]需要说明的是，在透镜10的光学功能面上，优选将反射率抑制得更低、将透射率设置得更高。即，优选通过使凸部14的间距为266nm以下且凸部14的高度为280nm以上，能够使整个可见光区的反射率达到1%以下，能够得到良好的反射抑制效果。需要说明的是，若考虑制造上的容易度，则优选凸部14的间距为50nm?266nm、且凸部的高度为280nm?2000nm。例如，通过使凸部14的间距为230nm且凸部14的高度为350nm，能够使整个可见光区的反射率达到I %以下，能够得到良好的反射抑制效果。
[0050]为了减少光学构件的表面反射，防反射层12包括:凸部14，其由透明的材料即ZnO构成;催化剂层13，其含有从Pd、Pt、Au、Ag、Ru、Rh中选出的至少一种元素，且厚度薄至不会妨碍光的透过的程度。
[0051]像这样，通过以下所示的制造方法能够容易地在透镜10等光学构件表面制造催化剂层13以及由ZnO构成的凸部14。
[0052][3.制造方法]
[0053]以下，对透镜10的制造方法进行说明。图2是对透镜10的制造工序进行表示的图。
[0054]首先，如图2的(A)所示那样，准备透镜主体11。透镜主体11通过注射成形等形成，具有凸状的表面lla、llb。
[0055]接下来，如图2的(B)所示那样，向含有从Pd、Pt、Au、Ag、Ru、Rh中选出的至少一种元素的溶液中浸渍透镜主体11，从而在透镜主体11的表面lla、llb形成催化剂层13。
[0056]该工序中使用的溶液例如是奥野制药株式会社制的Technoclear(商标名)SN溶液、Techno cl ear AG溶液、以及Techno clear I3D 溶液等。
[0057]另外，在透镜主体11的表面IIa、I Ib形成催化剂层13所需的时间为0.5?5分钟，在此期间，优选将溶液的温度保持为室温(例如25°C)。
[0058]此时，为了不损害透射率，催化剂层13的厚度优选为几nm以下。催化剂层13的厚度优选为0.5nm?30nm左右。
[0059]接着，如图2的(C)所示那样，将形成有催化剂层13的透镜主体11浸渍于ZnO非电解镀敷液中，形成由ZnO构成且呈钟形状或锥形状的凸部14。维持该状态而形成SWS15，进而完成在表面形成有防反射层12的透镜10。
[0060]本发明公开的技术中使用的ZnO非电解镀敷液是例如奥野制药株式会社制的Techno clear-Β工艺用溶液。例如，可以使用Techno cIearZN_M_V2、Techno clear ZN-R-V2以及它们的混合物。
[0061]根据此时的镀敷条件以及图2的(B)的催化剂层13的形成条件，有时会形成ZnO单晶沿C轴取向而成的六棱柱形状的凸部14’(图2的(D))。在该情况下，进一步通过湿式蚀刻或者干式蚀刻溶解或者削取六棱柱前端部分而加工成钟形状、锥形状。这样，形成凸部14，从而遍及透镜的表面整体而形成SWS15。这样，在透镜主体11的两方的表面lla、llb形成防反射层12。其结果是，同样地完成透镜10。
[0062]在湿式蚀刻中，例如可以使用0.2M的磷酸溶液。另外，在干式蚀刻中，可以使用照射由Ar离子构成的RF等离子体的方法或者照射使用了F系、Cl系气体的ICP等离子体的方法等。
[0063]这里，能够根据催化剂层13的形成条件以及ZnO非电解镀敷液浓度、镀敷条件来控制凸部14的宽度、高度以及间距。
[0064]例如，若加长ZnO非电解镀敷条件的时间，则能够形成间距大致相同而凸部的高度不同的、即纵横尺寸比不同的SWS15。
[0065]另外，若改变ZnO非电解镀敷液的浓度，则凸部14的密度发生变化，其结果是能够改变间距O大致能够形成I OOnm至几μ??的大小的ZnO结晶。
[0066]另外，无论是催化剂层的赋予工序还是ZnO非电解镀敷工序，均能够仅通过将光学构件浸渍于规定的溶液中来进行，因此无论是何种形状的光学构件(例如镜筒的内表面等)，都能够非常容易地形成SWS15。另外，ZnO非电解镀敷液温度通常为100°C以下，因此也能够对塑料等不具有耐热性的材料形成SWS15。从而，几乎在所有光学构件上都能够形成SffSl5 ο
[0067][4.摄像头]
[0068]接下来，对具备透镜10的摄像头100进行说明。图3表示摄像头100的简要剖视图。
[0069]摄像头100具备:摄像头主体110、和安装在摄像头主体110上的更换镜头120。摄像头100是摄像装置的一个例子。
[0070]摄像头主体110具有摄像元件130。
[0071]更换镜头120构成为相对于摄像头主体110而能够安装拆卸。更换镜头120例如为望远变焦镜头。更换镜头120具有用于使光束聚焦在摄像头主体110的摄像元件130上的成像光学系统140。成像光学系统140具有上述的透镜10、和折射型透镜150、160。透镜10作为透镜元件而发挥功能，由于具有SWS15，因此透镜表面的反射减少，能够减少由透镜表面的反射引起的光斑(f Iare)、重影。
[0072]并且，在更换镜头120的镜筒内表面也能够形成SWS15，因此进一步实现光斑、重影的减少。
[0073][5.效果]
[0074]透镜10的表面设有SWS15，SWS15具有:催化剂层13、和在催化剂层13上排列的多个凸部14。在催化剂层13的整个表面形成有由ZnO构成的凸部14。因此，由ZnO构成的凸部14无间隙地排列在透镜主体11的表面11a，一个个突起分别隔着催化剂层13而与透镜主体11的表面I Ia密接。
[0075]凸部14以规定间距(周期)以下而排列。规定间距设定为比成为防反射层12减少反射的对象的光(以下，称为“对象光”)的波长(以下，称为“对象波长”)小。换言之，多个凸部14至少减少具有规定间距以上的波长的光的反射。凸部14例如呈钟状、圆锥那样的尖细形状。
[0076]在对透镜主体11进行ZnO非电解镀敷的各工序中，只要将透镜主体11浸渍于无ZnO电解溶液中就能够形成这样的凸部14。从而，无论是何种形状的光学构件(例如镜筒的内表面等)，都能够非常容易地形成SWS15。另外，ZnO的镀敷液温度通常为100°C以下，因此也能够对塑料等不具有耐热性的材料形成SWS15。其结果是，能够容易地制造具备SWS15的透镜10。
[0077]需要说明的是，能够根据催化剂层13的形成条件以及ZnO非电解镀敷液浓度、镀敷条件来控制凸部14的宽度、间距以及高度等尺寸。
[0078]例如，若加长ZnO非电解镀敷条件的时间，则能够形成间距大致相同而凸部的高度不同的、即纵横尺寸比不同的SWS15。
[0079]另外，若改变ZnO非电解镀敷液的浓度，则凸部14的密度发生变化，其结果是能够改变间距O大致能够形成I OOnm至几μ??的大小的ZnO结晶。
[0080]由ZnO构成的凸部14是透明的，因此进入SWS15内的光经由多个凸部14进入透镜主体11内部，不会被多个凸部14反射。然后，能够以较高的透射率透过。
[0081 ] 另外，SWS15对可见光的反射率优选在中心波长550nm处为1%以下。
[0082]另外，凸部14的高度例如为500nm以上。
[0083]根据上述的结构，在将多个凸部14用于减少光的反射的情况下，至少能够对可见光发挥较高的反射减少效果。
[0084]〈其他实施方式〉
[0085]如上文所述，作为本发明的技术的例示，对上述实施方式进行了说明。然而，本发明中的技术并不限于此，也能够在适当进行了变更、置换、添加、省略等的实施方式中应用。另外，也能够对上述实施方式中说明的各结构要素进行组合而形成新的实施方式。另外，在附图以及
【发明内容】
所记载的构成要素中，不仅包括必须的构成要素，为了对上述技术进行例示，也会包括非必须的构成要素。因此，不应当根据非必须的构成要素记载于附图、
【发明内容】
中这一事实，便直接将那些非必须的构成要素认定为必须的构成要素。
[0086]上述的实施方式也可以设为如下的结构。
[0087]例如，形成微细凹凸构造的光学构件不限于透镜。也可以应用于透镜以外的光学构件。例如，对具有镜筒内表面、显示器表面那样的光学功能面的光学构件等以往的难以形成防反射膜等的曲面、筒的内表面、大面积等任意形状都能够形成SWS。并且，由于能够在100°C以下的温度下形成微细凹凸构造，因此也能够在不具有耐热性的塑料材料上形成SWS。从而，尤其对利用现有方法的防反射膜等无法实现防反射处理的光学构件可以发挥效果O
[0088]以往，来自透镜周边的光学构件的表面的反射光有时会成为朝向受光部的杂散光。因此，透镜周边的光学构件在表面进行纹理加工求加工)等。但是，纹理加工不会消除杂散光，而是通过反射光的散射来改变反射光的方向，减少杂散光向受光部入射的入射量，从而减少杂散光导致光斑等画质劣化。因此，仅纹理加工无法完全抑制光斑等，也需要进行入射光方向的调节。通过在透镜周边的光学构件形成微细凹凸构造，由此能够大幅度减少向透镜投射的杂散光，因此无需设置光学构件的防反射膜等。
[0089]【实施例】
[0090]以下，对形成有微细凹凸构造的透镜及其制造方法的实施例进行说明。
[0091]-实施例1-
[0092]在实施例1中，在催化剂层的形成、以及ZnO非电解镀敷中使用奥野制药株式会社制的市售的Techno cIear_B工艺用的各种溶液，从而在板玻璃基板上形成微细凹凸构造。
[0093]图4表示其制造工序。
[0094]首先，如图4的(A)所示，清洗玻璃基板41，将其在50°C的Technoclear CL溶液中浸渍5分钟，然后直接从溶液取出，进行水洗。接下来，将该玻璃基板41在25 °C的Technoclear SN溶液中浸渍2分钟后，进行水洗。接下来，将该玻璃基板41在25 °C的Technoc I ear AG溶液中浸渍I分钟后，进行水洗。然后，将该玻璃基板41在2 5 °C的Te chno clear PD溶液中浸渍I分钟，从而如图4的(B)所示，在玻璃基板41表面上致密且密接性良好地形成由Pd与Ag构成的催化剂层43。
[0095]然后，对在表面形成有催化剂层43的玻璃基板41进一步进行水洗，将其在80°C的ZnO非电解链敷液(Techno clear ZN-M-V2与Te chno clear ZN-R-V2的混合溶液，浓度比换算为Techno clear ZN-M-V2: Techno clear ZN-R_V2 = 50mL/L: 20mL/L)中浸渍40分钟。由此，如图4的(C)所示，得到在催化剂层43的表面致密地排列有ZnO的六棱柱单晶的突起的微细凹凸构造45。
[0096]图5A示出了该状态下的表面SEM照片，图5B示出了其反射率的测定结果。根据图5A，Zn0的六棱柱单晶以致密且几乎不存在玻璃基板41的平坦部的方式形成，成为排列有六棱柱的凸构造的构造。在这样的构造中，自空气层侧的表面的折射率变化急剧地发生，因此无法防止反射，而体现与形成ZnO的薄膜时相同的反射率的行为。即，如图5B所示，每λ/4反射率的增减呈正弦波状。若维持该状态不变则无法成为防反射构造，因此将该状态的玻璃基板浸渍于0.2Μ的磷酸溶液中，通过湿式蚀刻，使ZnO的六棱柱单晶溶解直至ZnO的六棱柱单晶的前端部分成为尖细形状。这样，可以得到图4的(D)所示的钟形状的由ZnO构成的凸部44的光学构件。
[0097]图6Α示出了该状态下的表面SEM照片，图6Β示出了其反射率的测定结果。根据图6Α，Ζη0的钟形状的单晶以致密且几乎不存在玻璃基板41的平坦部的方式形成，成为排列有钟形状的凸构造的构造。
[0098]由图6Β可知，若凹凸构造的前端变细，则形成有凹凸的面的折射率变化变得平缓，成为防反射构造，反射率在可见光区内降低，反射率在中心波长550nm处为I %以下。
[0099]-实施例2-
[0100]在实施例2中，在催化剂层的形成、以及ZnO非电解镀敷中使用奥野制药株式会社制的市售的Techno cIear_B工艺用的各种溶液，从而在板玻璃基板上形成微细凹凸构造。
[0101]图7表示其制造工序。
[0102]首先，如图7的(A)所示，清洗玻璃基板71，将其在50°C的Techno clear CL溶液中浸渍5分钟，然后直接从溶液取出，进行水洗。接下来，将该玻璃基板71在25 °C的Technoclear SN溶液中浸渍2分钟后，进行水洗。接下来，将该玻璃基板71在25 °C的Technocl ear AG溶液中浸渍I分钟后，进行水洗。然后，将该玻璃基板71在25 °C的Techno clear PD溶液中浸渍I分钟，从而如图7的(B)所示，在玻璃基板71表面上致密且密接性良好地形成由Pd与Ag构成的催化剂层73。
[0103]然后，对在表面形成有催化剂层73的玻璃基板71进一步进行水洗，将其在70°C的ZnO非电解链敷液(Techno clear ZN-M-V2与Te chno clear ZN-R-V2的混合溶液，浓度比换算为Techno clear ZN-M-V2: Techno clear ZN-R_V2 = 50mL/L: 20mL/L)中浸渍40分钟。由此，如图7的(C)所示得到具有在催化剂层73的表面致密地排列有ZnO的六棱锥单晶的突起的微细凹凸构造45的光学构件。
[0104]图8A示出了该状态下的表面SEM照片，图SB示出了其反射率的测定结果。根据图8A，Zn0的六棱锥形状的单晶以致密且几乎不存在玻璃基板71的平坦部的方式形成，成为排列有六棱锥形状的凸构造的构造。
[0105]由图SB可知，若凹凸构造的前端变细，则表面的折射率变化变得平缓，成为防反射构造，反射率在可见光区内降低，反射率在中心波长550nm处为I %以下。
[0106]-实施例3-
[0107]在实施例3中，在催化剂层的形成、以及ZnO非电解镀敷中使用奥野制药株式会社制的市售的Techno cIear_B工艺用的各种溶液，从而在聚碳酸酯制成的透镜罩上形成微细凹凸构造。
[0108]图9表示其制造工序。
[0109]首先，如图9的(A)所示，清洗通过注射成形得到的聚碳酸酯制成的透镜罩91。接下来，将该透镜罩91在50°C的Techno clear CL溶液中浸渍5分钟后，然后直接从溶液取出，进行水洗。接下来，将该透镜罩91在25°C的Techno clear SN溶液中浸渍2分钟后，进行水洗。接下来，将该透镜罩91在25°C的Techno clear AG溶液中浸渍I分钟后，进行水洗。然后，将该透镜罩91在25°C的Techno clear H)溶液中浸渍I分钟，从而如图9的(B)所示，在透镜罩91表面上致密且密接性良好地形成由Pd与Ag构成的催化剂层93。
[0110]然后，对在表面形成有催化剂层93的透镜罩91进一步进行水洗，将其在80°C的ZnO非电解镀敷液(Techno clear ZN-M-V2与Techno clear ZN-R-V2的混合溶液，浓度比换算为Techno clear ZN-M-V2:Techno clear ZN-R-V2 = 50mL/L:20mL/L)中浸渍40分钟。由此，如图9的(C)所示，得到在催化剂层93的表面致密地排列有ZnO的六棱柱单晶的突起的微细凹凸构造95。若维持该状态不变则无法成为防反射构造，因此进一步将该状态的玻璃基板浸渍于0.2M的磷酸溶液中，通过湿式蚀刻溶解ZnO的六棱柱单晶的突起的前端部分直至成为尖细形状。这样，可以得到图9的(D)所示的钟形状的由ZnO构成的凸部94的光学构件。
[0111]图10示出了该状态下的表面SEM照片。图1O的(A)是比例尺为IOym的SEM照片，图1O的(B)是比例尺为Ιμπι的SEM照片。根据图1O，ZnO的钟形状的单晶以致密且几乎在透镜罩91整面不存在平坦部的方式形成，成为排列有钟形状的凸构造的构造。
[0112]综上可知，即使是透镜罩那样的极难在表面形成微细凹凸构造的构件，并且即使是耐热性比玻璃等弱的聚碳酸酯，也能够容易地形成SWS。
[0113]工业实用性
[0114]如以上说明的那样，本发明公开的技术有利于在光学构件的表面形成微细凹凸构造。
[0115]附图标记说明
[0116]10透镜(光学构件)
[0117]11透镜主体
[0118]Ilaaib 表面
[0119]12防反射层
[0120]13、43、73、93 催化剂层
[0121]14、14，、44、94 凸部
[0122]15、45、75、95 SWS(微细凹凸构造)
[0123]41,71玻璃基板
[0124]91透镜罩
[0125]100摄像头
[0126]HO摄像头主体
[0127]120更换镜头
[0128]130摄像元件
[0129]140成像光学系统
[0130]150、160折射型透镜
[0131]L 基面
[0132]X 光轴
【主权项】
1.一种光学构件，包括: 催化剂层，其形成于光学功能面;和 氧化锌，其由微细凹凸构造形成，所述微细凹凸构造通过在所述催化剂层的表面大致周期性地排列有沿C轴取向而成的钟形状或锥形状的突起构造而成。2.根据权利要求1所述的光学构件，其中， 所述催化剂层含有以从钯、铂、金、银、钌、铑中选出的至少一种元素作为主成分的催化剂材料。3.根据权利要求1所述的光学构件，其中， 所述微细凹凸构造对550nm的波长的反射率为I %以下。4.根据权利要求1所述的光学构件，其中， 所述突起构造的高度为500nm以上。5.根据权利要求1所述的光学构件，其中， 在所述微细凹凸构造中，多个所述突起构造之间以无间隙的状态排列在所述主体部的表面。6.一种光学构件的制造方法，包括: 第一步骤，将光学构件的光学功能面投入含有从钯、铂、金、银、钌、铑中选出的至少一种元素的水溶液中，从而在所述光学功能面上生成以所述至少一种元素作为主成分的催化剂层； 第二步骤，将表面生成有所述催化剂层的光学构件的光学功能面投入含有氧化锌的水溶液中，从而在所述催化剂层的表面生成沿C轴取向的六棱柱突起构造的氧化锌；以及第三步骤，通过干式蚀刻或湿式蚀刻，将所述六棱柱突起构造的氧化锌成形为钟形状或锥形状的突起构造。7.一种光学构件的制造方法，包括: 第一步骤，将光学构件的光学功能面投入含有从钯、铂、金、银、钌、铑中选出的至少一种元素的水溶液中，从而在所述光学功能面上生成以所述至少一种元素作为主成分的催化剂层;和 第二步骤，将表面生成有所述催化剂层光学构件的光学功能面投入含有氧化锌的水溶液中，从而在所述催化剂层的表面生成沿C轴取向的六棱锥形状或钟形状的突起构造的氧化锌。8.—种摄像装置，包括: 摄像部，其具有摄像元件;和 光学构件，其安装于所述摄像部， 所述光学构件包括: 催化剂层，其形成于光学功能面;和 氧化锌，其由微细凹凸构造形成，所述微细凹凸构造通过在所述催化剂层的表面大致周期性地排列有沿C轴取向而成的钟形状或锥形状的突起构造而成。
【文档编号】G02B1/118GK106062585SQ201580011345
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2015年8月25日 公开号201580011345.X, CN 106062585 A, CN 106062585A, CN 201580011345, CN-A-106062585, CN106062585 A, CN106062585A, CN201580011345, CN201580011345.X, PCT/2015/4239, PCT/JP/15/004239, PCT/JP/15/04239, PCT/JP/2015/004239, PCT/JP/2015/04239, PCT/JP15/004239, PCT/JP15/04239, PCT/JP15004239, PCT/JP1504239, PCT/JP2015/004239, PCT/JP2015/04239, PCT/JP2015004239, PCT/JP201504239
【发明人】梅谷诚, 上野岩
【申请人】松下知识产权经营株式会社