行各种修饰或改变。
[0031]请参阅图1。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想，遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
[0032]如图1所示，本实施例提供一种用于掩膜版清洗机台的喷水装置，所述掩膜版清洗机台的内腔上部20具有斜坡通道，所述喷水装置包括:
[0033]输水管道10，所述输水管道10的喷水端102呈一定角度倾斜并通过所述斜坡通道伸入至所述掩膜版清洗机台内部；
[0034]气动阀11，设置于所述输水管道10的进水端101，通过调节所述气动阀11以调整所述输水管道10的水流量；以及
[0035]固定装置12，将所述输水管道10固定于所述掩膜版清洗机台。
[0036]作为示例，本实施例的用于掩膜版清洗机台的喷水装置应用于HamaTech ASC500掩膜清洗机台，该掩膜清洗机台的斜坡通道的直径为350?500mm，一般来说，该掩膜清洗机台的斜坡通道与水平面的夹角为大约45度。
[0037]作为示例，所述输水管道10的材质为聚偏氟乙烯。
[0038]作为示例，所述固定装置12包括夹持于所述输水管道10的夹持板121，以及将所述夹持板121固定于所述掩膜版清洗机台的固定螺丝122。
[0039]作为示例，所述输水管道10的喷水端102的管径为6.35mm(l/4inch标准管)。进一步地，所述输水管道10喷水端102上的喷嘴103的孔径为6.35mm (l/4inch标准管)。在气动阀11开启时，去离子水通过该喷嘴103形成水柱直接冲在光掩膜上，从而有效的降低了混合化学离子的水雾的产生，降低了甩干后的光掩膜与混合化学离子的水滴接触的可能性。与此同时，由于去除了现有技术中的雾状喷嘴103，减少了去离子水流动过程中的阻力，使得水量调节范围更大，可以通过加大去离子水的流量达到更多的水与光掩膜表面接触的目的，以至于更好的在光掩膜清洗过程中去除其表面的化学离子。通过验证，当气动阀11开启时，机台内腔无明显肉眼可视水雾。另外，本实施例的喷水装置的可以将去离子水流量从原来的750毫升每分钟扩大到1400毫升每分钟。
[0040]如上所述，本实用新型提供一种用于掩膜版清洗机台的喷水装置，所述掩膜版清洗机台的内腔上部20具有斜坡通道，所述喷水装置包括:输水管道10，所述输水管道10的喷水端102呈一定角度倾斜并通过所述斜坡通道伸入至所述掩膜版清洗机台内部；气动阀11，设置于所述输水管道10的进水端101，通过调节所述气动阀11以调整所述输水管道10的水流量；以及固定装置12，将所述输水管道10固定于所述掩膜版清洗机台。本实用新型在气动阀11开启时，形成水柱直接冲在光掩膜上，从而有效的降低了混合化学离子的水雾的产生，降低了甩干后的光掩膜与混合化学离子的水滴接触的可能性。与此同时，由于去除了雾状喷嘴103，减少了去离子水流动过程中的阻力，使得水量调节范围更大，可以通过加大去离子水的流量达到更多的水与光掩膜表面接触的目的，以至于更好的在光掩膜清洗过程中去除其表面的化学离子。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
[0041]上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。
【主权项】
1.一种用于掩膜版清洗机台的喷水装置，所述掩膜版清洗机台的内腔上部具有斜坡通道，其特征在于，所述喷水装置包括: 输水管道，所述输水管道的喷水端呈一定角度倾斜并通过所述斜坡通道伸入至所述掩膜版清洗机台内部； 气动阀，设置于所述输水管道的进水端，通过调节所述气动阀以调整所述输水管道的水流量；以及 固定装置，将所述输水管道固定于所述掩膜版清洗机台的斜坡通道。
2.根据权利要求1所述的掩膜版清洗机台的喷水装置，其特征在于:所述斜坡通道的直径为350?50Ctamo
3.根据权利要求1所述的掩膜版清洗机台的喷水装置，其特征在于:所述输水管道的喷水端的管径为6.35mm。
4.根据权利要求3所述的掩膜版清洗机台的喷水装置，其特征在于:所述输水管道喷水端上的喷嘴的孔径为6.35mm。
5.根据权利要求1所述的掩膜版清洗机台的喷水装置，其特征在于:所述输水管道的材质为聚偏氟乙烯。
6.根据权利要求1所述的掩膜版清洗机台的喷水装置，其特征在于:所述固定装置包括夹持于所述输水管道的夹持板，以及将所述夹持板固定于所述掩膜版清洗机台的固定螺丝。
【专利摘要】本实用新型提供一种用于掩膜版清洗机台的喷水装置，所述掩膜版清洗机台的内腔上部具有斜坡通道，所述喷水装置包括：输水管道，所述输水管道的喷水端呈一定角度倾斜并通过所述斜坡通道伸入至所述掩膜版清洗机台内部；气动阀，设置于所述输水管道的进水端，通过调节所述气动阀以调整所述输水管道的水流量；以及固定装置，将所述输水管道固定于所述掩膜版清洗机台的斜坡通道。本实用新型在气动阀开启时，形成水柱直接冲在光掩膜上，从而有效的降低了混合化学离子的水雾的产生，降低了甩干后的光掩膜与混合化学离子的水滴接触的可能性。同时，可以使得水量调节范围更大，以更好地在光掩膜清洗过程中去除其表面的化学离子。
【IPC分类】G03F1-82
【公开号】CN204331286
【申请号】CN201420854542
【发明人】马志平
【申请人】上海凸版光掩模有限公司
【公开日】2015年5月13日
【申请日】2014年12月26日