一种四峰值滤光片的制作方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种光学领域，更具体的说，涉及一种四峰值滤光片。
【背景技术】
[0002] 目前很多光电仪器设备采用光学滤光片作为采集信号的单色器，每次能够检测一 个样品特性项目，如果检测其他项目则需要更换相应的滤光片。往往需要备置多组附件或 者需要时间来更换新项目需要的滤光片组。不利于设备向便携式，小型化发展。多峰值滤 光片能够同时检测多组特定光谱信号，与单一的带通或者窄带光学滤光片比较，具有更多 检测通道，同时能够测量多组特征光谱信号。 【实用新型内容】
[0003] 本实用新型要解决的问题是提供一种四峰值滤光片，通过光学薄膜膜系结构的设 计变化，能同时实现在四峰值工作，具有更加广泛的工作范围和更高的集成度。
[0004] 为了解决上述问题，本实用新型采用如下技术方案：一种四峰值滤光片，包括由 熔融石英玻璃制成的透光基片，在所述透光基片的一侧表面上镀制滤光膜，所述滤光膜 由依次镀制的四层薄膜层叠组成，第一层薄膜的厚度为1127. 46nm、第二层薄膜的厚度为 1193. 63nm、第三次薄膜的厚度为1085. 79nm、第四层薄膜的厚度为1058. 84nm，所述薄膜均 为由五氧化二钽和二氧化硅两种不同折射率材料交替镀膜组成的全介质薄膜层。
[0005] 优选的是，在与镀有所述滤光膜的所述透光基片一侧表面相对的另一个表面上镀 有截止膜。
[0006] 本实用新型的有益效果是：通过在同一透光基片上设置四层光学薄膜组成的滤光 膜，能同时实现在四峰值工作，同时能够测量四组特征光谱信号，具有更加广泛的工作范围 和更高的集成度。
【附图说明】
[0007] 图1为本实用新型一种四峰值滤光片的结构示意图。
【具体实施方式】
[0008] 下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步说明：
[0009] 如图1所示，本实用新型提供了一种四峰值滤光片，包括由熔融石英玻璃制成的 透光基片1，在所述透光基片1的一侧表面上镀制滤光膜2,所述滤光膜2由依次镀制的四 层薄膜31、32、33、34层叠组成，第一层薄膜31的厚度为1127. 46nm、第二层薄膜32的厚度 为1193. 63nm、第三次薄膜33的厚度为1085. 79nm、第四层薄膜34的厚度为1058. 84nm，所 述薄膜31、32、33、34均为由五氧化二钽和二氧化硅两种不同折射率材料交替镀膜组成的 全介质薄膜层。
[0010] 本实施例中，薄膜31、32、33、34的膜系初始结构为：HL2HL2HL2HL2HLHL，H表示为 五氧化三钛，L表示为二氧化硅，每个薄膜由五氧化三钛和二氧化硅交替镀膜组成，共12 层。
[0011] 薄膜31、32、33、34的膜层优化结果如下：
[0012]
【主权项】
1. 一种四峰值滤光片，其特征在于：包括由熔融石英玻璃制成的透光基片，在所述透 光基片的一侧表面上镀制滤光膜，所述滤光膜由依次镀制的四层薄膜层叠组成，第一层薄 膜的厚度为1127. 46nm、第二层薄膜的厚度为1193. 63nm、第三次薄膜的厚度为1085. 79nm、 第四层薄膜的厚度为1058. 84nm，所述薄膜均为由五氧化二钽和二氧化硅两种不同折射率 材料交替镀膜组成的全介质薄膜层。
2. 根据权利要求1所述的一种四峰值滤光片，其特征在于：在与镀有所述滤光膜的所 述透光基片一侧表面相对的另一个表面上镀有截止膜。
【专利摘要】本实用新型公开了一种四峰值滤光片，包括由熔融石英玻璃制成的透光基片，在所述透光基片的一侧表面上镀制滤光膜，所述滤光膜由依次镀制的四层薄膜层叠组成，第一层薄膜的厚度为1127.46nm、第二层薄膜的厚度为1193.63nm、第三次薄膜的厚度为1085.79nm、第四层薄膜的厚度为1058.84nm，所述薄膜均为由五氧化二钽和二氧化硅两种不同折射率材料交替镀膜组成的全介质薄膜层。本实用新型的有益效果是：能同时实现在四峰值工作，同时能够测量四组特征光谱信号，具有更加广泛的工作范围和更高的集成度。
【IPC分类】G02B5-20, G02B1-10
【公开号】CN204536584
【申请号】CN201520224560
【发明人】马志亮
【申请人】北京京仪博电光学技术有限责任公司
【公开日】2015年8月5日
【申请日】2015年4月15日