具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法
【专利摘要】本发明提出一种具有抗沾黏膜层的乐器，其包含一乐器本体及一抗沾黏膜层，抗沾黏膜层设置于乐器本体。本发明的乐器具有抗沾黏膜层，使乐器容易清洗。当乐器于清洗时，清洗液体清洗残留于乐器的唾液或其它脏污，又因清洗液体不会附着于抗沾黏膜层，以清洗液体带走含有唾液或其它脏污，而清洗液体不会残留于乐器内，以避免乐器产生锈蚀。
【专利说明】具有抗沾黏膜层的乐器
【技术领域】
[0001]本发明是有关于一种乐器，特别是指一种具有抗沾黏膜层的乐器。
【背景技术】
[0002]习知吹奏类的乐器于演奏过程中，演奏者的嘴部直接接触乐器的吹嘴进行演奏，通常演奏者于演奏过程中残留唾液于吹嘴的内部及外部，而乐器的吹嘴进行清洗时，清洗时虽然可清除残留于吹嘴的唾液，但清洗时所产生的液体容易残留于吹嘴的内部，导致吹嘴的内部产生锈蚀的问题,所以每次清洗必须仔细清除残留于吹嘴的液体,增加清洗乐器的不便性，进而降低清洗乐器的次数。在乐器无法经常清洗下，导致演奏者每次演奏后残留于吹嘴的唾液难以清洗，而且唾液内具有大量的细菌，导致繁衍大量的细菌于吹嘴上，进而使演奏者于每次演奏时接触大量的细菌，以影响演奏者的健康。
[0003]有鉴于上述问题，本发明提供一种具有抗沾黏膜层的乐器，其使乐器易于清洗，以清除使用者的唾液残留于乐器上，且使清洗液体不会附着于乐器，以避免乐器产生锈蚀的问题。
【发明内容】
[0004]本发明的目的，在于提供一种具有抗沾黏膜层的乐器，其于乐器上设有抗沾黏膜层，并使乐器易于清洗，以清除使用者的唾液残留于乐器上，且使清洗液体不会附着于乐器，以避免乐器产生锈蚀的问题。
[0005]本发明提供一种具有抗沾黏膜层的乐器，其包含:一乐器本体；以及一抗沾黏膜层，其设置于该乐器本体上。
[0006]本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中，其中一液体与该抗沾黏膜层的接触角大于100度。
[0007]本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中，其中该抗沾黏膜层的材料为铬金属氧化物、钛金属氧化物、铬金属氮化物、钛金属氮化物及类钻碳中的任意一种。
[0008]本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中，其中该抗沾黏膜层的材料更包含:
[0009]多个抗菌微粒，其参杂于该抗沾黏膜层，该些抗菌微粒于该抗沾黏膜层的重量百分比介于1%与20%之间。
[0010]本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中，其中该些抗菌微粒的材料为银、铜、钴、镍、铁、铝及锌中的任意一种。
[0011]本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中，其中该乐器本体具有一吹嘴部，该吹嘴部具有至少一外表面及至少一内表面，该抗沾黏膜层设置于该外表面或该内表面，或者该抗沾黏膜层设置于该外表面及该内表面。
[0012]本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中，其中该乐器本体具有至少一外表面及至少一内表面，该抗沾黏膜层设置于该外表面或该内表面，或者该抗沾黏膜层设置于该外表面及该内表面。[0013]本发明还提供了一种具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法，其包含:
[0014]提供一乐器本体及至少一靶源于一真空腔体上；
[0015]离子化至少一靶源，并产生多个离子；
[0016]通入一反应气体至该真空腔体；以及
[0017]混合该反应气体与该些离子，并形成一抗沾黏膜层于该乐器本体上。
[0018]本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法中，其中该靶源包含一第一靶源，该第一靶源为一铬金属靶源、一钛金属靶源或一石墨靶，离子化该靶源所产生的该些离子包含多个第一离子，该些第一离子为铬离子、钛离子或碳离子。
[0019]本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法中，其中该靶源更包含一第二靶源，该第二 IE源为一银金属IE源、一铜金属IE源、一钴金属IE源、一镍金属IE源、一铁金属革巴源、一铝金属靶源或一锌金属靶源，离子化该靶源所产生的该些离子更包含多个第二离子，该些第二离子为银离子、铜离子、钴离子、镍离子、铁离子、铝离子或锌离子。
[0020]本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法中，其中离子化该靶源并产生该些离子的步骤更包含利用一程控该些第一离子及该些第二离子的百分比，该些第一离子相对于该些第一离子与该些第二离子总和的重量百分比介于80%与99%之间，该些第二离子相对于该些第一离子与该些第二离子总和的重量百分比介于1%与20%之间。
[0021]本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法中，其中该反应气体为一氮气或一氧气。
[0022]实施本发明产生的有益效果是:本发明有关于一种具有抗沾黏膜层的乐器，其使乐器容易清洗，以清除残留于乐器上的唾液或其它脏污，而清洗液体不附着于乐器，并防止乐器因清洗而产生锈蚀。
[0023]进一步地，本发明的抗沾黏膜层更参杂有抗菌微粒，使抗沾黏膜层具有抗菌效果，并抑制残留于乐器上的唾液或其它脏污所含的细菌于乐器繁衍。
【专利附图】
【附图说明】
[0024]图1为本发明的第一实施例的乐器的示意图；
[0025]图2为本发明的图1的A区域的放大图；
[0026]图3为本发明的第一实施例的乐器的制造流程图；
[0027]图4为本发明的第一实施例的乐器的制造设备的示意图；
[0028]图5为本发明的第二实施例的抗沾黏膜层的示意图；
[0029]图6为本发明的第二实施例的乐器的制造流程图；以及
[0030]图7为本发明的第二实施例的乐器的制造设备的示意图。
[0031]【图号对照说明】
[0032]1 乐器
[0033]10 乐器本体101 吹嘴部
[0034]1011 内表面1012外表面
[0035]11 抗沾黏膜层111 抗菌微粒
[0036]2 靶源20 离子
[0037]21 第一靶源210 第一离子[0038]22 第二靶源210 第二离子
[0039]3 真空腔体31 承载座
[0040]32 电源供应器4 反应气体
【具体实施方式】
[0041]为了使本发明的结构特征及所达成的功效有更进一步的了解与认识，特用较佳的实施例及配合详细的说明，说明如下:
[0042]习知吹奏类的乐器于演奏过程中，演奏者的嘴部直接接触乐器的吹嘴进行演奏，通常演奏者于演奏过程中残留唾液于吹嘴的内部及外部，在乐器无法经常清洗下，导致演奏者每次演奏后残留于吹嘴的唾液难以清洗，而且唾液内具有大量的细菌，导致繁衍大量的细菌于吹嘴上，进而使演奏者于每次演奏时接触大量的细菌，以影响演奏者的健康。
[0043]有鉴于上述问题，本发明提供一种具有抗沾黏膜层的乐器，使清洗液体不会残留于乐器上，不但达到清除残留于乐器上的唾液或其它脏污，更达到容易清洗的目的，如此使用者于每次演奏完即可马上清洗，有效避免乐器因清洗而锈蚀，更避免因无法清洗乐器而产生细菌繁衍的问题。
[0044]请参阅图1及图2，其是本发明的第一实施例的乐器的示意图及图1的A区域的放大图；如图所示，本实施例提供一种具有抗沾黏膜层的乐器1，本实施例的乐器I以口琴为例，其具有一乐器本体10及一抗沾黏膜层11。乐器本体10具有一吹嘴部101，吹嘴部101为使用者于演奏乐器I时会 以嘴部接触的部分，于每次演奏过程中使用者的唾液容易残留于吹嘴部101上。吹嘴部101具有一内表面1011及一外表面1012,而本实施例的抗沾黏膜层11设置于内表面1011，因为于演奏过程中使用者的唾液大部分残留于吹嘴部101的内表面1011，而且吹嘴部101的内表面1011较难清洁。
[0045]当设有抗沾黏膜层11的吹嘴部101进行清洗时，清洗时所使用的清洗液体不会残留于抗沾黏膜层11，因为清洗液体与抗沾黏膜层11的接触角大于100度，即清洗液体与抗沾黏膜层11间的接触面积很小，因此清洗液体不会附着于抗沾黏膜层11上。所以吹嘴部101进行清洗时，因其内表面1011设有抗沾黏膜层11，清洗液体不会残留于抗沾黏膜层11，使清洗液体不会残留于吹嘴部101内而使吹嘴部101产生锈蚀，而且清洗液体可带走残留于吹嘴部101的内表面1011的唾液，并避免唾液中的细菌于吹嘴部101进行繁衍。
[0046]本实施例的抗沾黏膜层11的材料选自铬金属氧化物、钛金属氧化物、铬金属氮化物、钛金属氮化物、类钻碳及其它高疏水性的材料中择其一者。本实施例的抗沾黏膜层11仅设置于吹嘴部101的内表面1011，当然抗沾黏膜层11也可设置于吹嘴部101的外表面1012，甚至扩大抗沾黏膜层11的设置范围，使抗沾黏膜层11可设置于乐器本体101的内表面或外表面，或者同时设置于乐器本体101的内表面及外表面，使乐器本体101可以整个进行清洗，而不是仅清洗吹嘴部101，因抗沾黏膜层11包覆整个乐器本体101，使清洗液体不会残留于乐器本体101上，达到使乐器容易清洗的目的，也改善习知清洗乐器所产生的问题。
[0047]请一并参阅图3及图4，其是本发明的第一实施例的乐器的制造流程图及制造设备的示意图；如图所示，上述抗沾黏膜层11利用真空物理蒸镀制程沉积于乐器本体10上，其制作方法先执行步骤S10，提供乐器本体10及至少一靶源2于一真空腔体3，其中真空腔体3具有一承载座31，承载座31承载乐器本体10，而靶源2设置于真空腔体3的一侧，并对应乐器本体10的一预设置区域，上述说明抗沾黏膜层11设置于乐器本体10的吹嘴部101的内表面1011，所以预设置区域即吹嘴部101的内表面1011。然步骤SlO的靶源2可使用铬金属靶源、钛金属靶源或石墨碳靶源。
[0048]接着执行步骤S12，离子化靶源2并产生多个离子20，其主要利用至少一电源供应器32电性连接靶源2及乐器本体10，电源供应器32提供靶源2蒸发的电源，并施加偏压于乐器本体10，以离子化靶源2而产生该些离子。上述说明靶源2可使用铬金属靶源、钛金属靶源或石墨碳靶源，因此其所产生的该些离子20为铬金属离子、钛金属离子或碳离子。
[0049]然后执行步骤S14，通入一反应气体4至真空腔体3，其中反应气体可使用氮气或氧气。接着执行步骤S16，混合该些离子及反应气体4而形成抗沾黏膜层11于乐器本体10的预设置区域。上述说明该些离子为铬金属离子、钛金属离子或碳离子，反应气体4使用氮气或氧气，当该些离子与反应气体4混合所形成的抗沾黏膜层11为铬金属氧化物、钛金属氧化物、铬金属氮化物、钛金属氮化物或类钻碳。
[0050]请参阅图5，其是本发明的第二实施例的抗沾黏膜层的示意图；如图所示，本实施例的抗沾黏膜层11更参杂多个抗菌微粒111，该些抗菌微粒111的材料选自银、铜、钴、镍、铁、铝、锌及其它具有抗菌特性的金属中择其中一者，而该些抗菌微粒111于抗沾黏膜层11的重量百分比介于1%与20%之间。参杂有该些抗菌微粒111的抗沾黏膜层11具有良好的抗菌效果，以抑制残留于乐器I的唾液中的细菌于乐器I进行繁衍。
[0051]请一并参阅图6及图7，其是本发明的第二实施例的乐器的制造流程图及制造设备的示意图；如图所示，本实施例制造参杂有该些抗菌微粒111的抗沾黏膜层11于乐器本体10上。本实施例的制作方法与第一实施例的制作方法不同在于，本实施例的制作方法使用两个靶源，分别为一第一靶源21及一第二靶源22，第一靶源21用以产生抗沾黏膜层11的材料；第二靶源22用以产生该些抗菌微粒111的材料。本实施例的制作方法先执行步骤S20，提供乐器本体10、第一靶源21及第二靶源22于真空腔体3，而第一靶源21及第二靶源22设置于真空腔体3的同一侧，并对应乐器本体10的预设置区域。然步骤S20的第一靶源21使用铬金属靶源、钛金属靶源或石墨碳靶源，其第二靶源22使用银金属靶源、铜金属靶源、钴金属靶源、镍金属靶源、铁金属靶源、铝金属靶源或锌金属靶源。
[0052]接着执行步骤S22，离子化第一靶源21及第二靶源22并分别产生多个第一离子210及多个第二离子220。第一靶源21使用铬金属靶源、钛金属靶源或石墨碳靶源，所以第一靶源21进行离子化时产生铬金属离子、钛金属离子或碳离子，铬金属离子、钛金属离子或碳离子为第一离子210 ;同理，第二靶源22使用银金属靶源、铜金属靶源、钴金属靶源、镍金属靶源、铁金属靶源、铝金属靶源或锌金属靶源，所以第二靶源22进行离子化时产生银离子、铜离子、钴离子、镍离子、铁离子、铝离子或锌离子，银离子、铜离子、钴离子、镍离子、铁离子、铝离子或锌离子为第二离子220。
[0053]然后执行步骤S24，通入反应气体4至真空腔体3，其中反应气体可使用氮气或氧气。接着执行步骤S26，混合该些第一离子、该些第二离子及反应气体而形成抗沾黏膜层11于乐器本体10的预设置区域。该些第一离子为铬金属离子、钛金属离子或碳离子，反应气体使用氮气或氧气，当该些第一离子与反应气体混合形成抗沾黏膜层11，抗沾黏膜层11为铬金属氧化物、钛金属氧化物、铬金属氮化物、钛金属氮化物或类钻碳，同时该些第二离子与该些第一离子及反应气体混合形成参杂于抗沾黏膜层11内的该些抗菌微粒111，该些抗菌微粒111为银金属微粒、铜金属微粒、钴金属微粒、镍金属微粒、铁金属微粒、铝金属微粒或锌金属微粒。
[0054]上述执行步骤S22时，可利用一程控该些第一离子及该些第二离子的百分比，使该些第一离子相对于该些第一离子与该些第二离子总和的重量百分比介于80%与99%之间，该些第二离子相对于该些第一离子与该些第二离子总和的重量百分比介于I %与20%之间，如此利用本实施例的制作方法所形成的抗沾黏膜层11内的该些抗菌微粒111于抗沾黏膜层11的重量百分比介于1%与20%之间。
[0055]综上所述，本发明是有关于一种具有抗沾黏膜层的乐器，其使乐器容易清洗，以清除残留于乐器上的唾液或其它脏污，而清洗液体不附着于乐器，并防止乐器因清洗而产生锈蚀。然本发明的抗沾黏膜层更参杂有该些抗菌微粒，使抗沾黏膜层具有抗菌效果，并抑制残留于乐器上的唾液或其它脏污所含的细菌于乐器繁衍。
[0056]上文仅为本发明的较佳实施例而已，并非用来限定本发明实施的范围，凡依本发明权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括于本发明的权利要求范围内。
【权利要求】
1.一种具有抗沾黏膜层的乐器，其特征在于，其包含: 一乐器本体；以及 一抗沾黏膜层，其设置于该乐器本体上。
2.如权利要求1所述的具有抗沾黏膜层的乐器，其特征在于，其中一液体与该抗沾黏膜层的接触角大于100度。
3.如权利要求1所述的具有抗沾黏膜层的乐器，其特征在于，其中该抗沾黏膜层的材料为铬金属氧化物、钛金属氧化物、铬金属氮化物、钛金属氮化物及类钻碳中的任意一种。
4.如权利要求3所述的具有抗沾黏膜层的乐器，其特征在于，其中该抗沾黏膜层的材料更包含: 多个抗菌微粒，其参杂于该抗沾黏膜层，该些抗菌微粒于该抗沾黏膜层的重量百分比介于1%与20%之间。
5.如权利要求4所述的具有抗沾黏膜层的乐器，其特征在于，其中该些抗菌微粒的材料为银、铜、钴、镍、铁、铝及锌中的任意一种。
6.如权利要求1所述的具有抗沾黏膜层的乐器，其特征在于，其中该乐器本体具有一吹嘴部，该吹嘴部具有至少一外表面及至少一内表面，该抗沾黏膜层设置于该外表面或该内表面，或者该抗沾黏膜层设置于该外表面及该内表面。
7.如权利要求1所述的具有抗沾黏膜层的乐器，其特征在于，其中该乐器本体具有至少一外表面及至少一内表面，该抗沾黏膜层设置于该外表面或该内表面，或者该抗沾黏膜层设置于该外表面及该内表面。
8.一种具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法，其特征在于，其包含: 提供一乐器本体及至少一靶源于一真空腔体上； 离子化至少一靶源，并产生多个离子； 通入一反应气体至该真空腔体；以及 混合该反应气体与该些离子，并形成一抗沾黏膜层于该乐器本体上。
9.如权利要求8所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法，其特征在于，其中该靶源包含一第一靶源，该第一靶源为一铬金属靶源、一钛金属靶源或一石墨靶，离子化该靶源所产生的该些离子包含多个第一离子，该些第一离子为铬离子、钛离子或碳离子。
10.如权利要求8所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法，其特征在于，其中该靶源更包含一第二靶源，该第二靶源为一银金属靶源、一铜金属靶源、一钴金属靶源、一镍金属靶源、一铁金属靶源、一铝金属靶源或一锌金属靶源，离子化该靶源所产生的该些离子更包含多个第二离子，该些第二离子为银离子、铜离子、钴离子、镍离子、铁离子、铝离子或锌离子。
11.如权利要求10所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法，其特征在于，其中离子化该靶源并产生该些离子的步骤更包含利用一程控该些第一离子及该些第二离子的百分比，该些第一离子相对于该些第一离子与该些第二离子总和的重量百分比介于80%与99%之间，该些第二离子相对于该些第一离子与该些第二离子总和的重量百分比介于1%与20%之间。
12.如权利要求8所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法，其特征在于，其中该反应气体为一氮气或一氧气。
【文档编号】G10D9/00GK103915084SQ201210595587
【公开日】2014年7月9日 申请日期:2012年12月28日 优先权日:2012年12月28日
【发明者】高于迦, 庄道良, 吴政谚, 林昭宪, 黄建龙 申请人:财团法人金属工业研究发展中心