一种球阀的阀座密封结构的加工方法与流程

文档序号:12013392阅读:420来源:国知局
一种球阀的阀座密封结构的加工方法与流程
本发明涉及一种球阀的阀座密封结构的加工方法,特别涉及一种球阀的阀座密封结构的冲压加工方法。

背景技术:
球阀由旋塞阀演变而来,它的启闭件是一个球体,该球体由阀杆带动,并绕阀杆的轴线作旋转运动实现开启和关闭的目的。球阀主要用于截断或接通管路中的介质,亦可用于流体的调节与控制。公开号为CN101338821A,名称为《具有新颖密封结构的全焊接球阀》的中国发明专利申请,公开了一种球阀,该球阀包括阀体和设置在阀体上的定位轴和阀杆座,阀杆座内配接有阀杆,阀体内部设有球体,球体与阀体之间设有可相对于两者运动的阀座。阀座上设有密封槽,该密封槽内设有密封圈,该密封圈的外露部分抵触在球体上。为了使密封槽能够紧密地将密封圈扣在其内,将密封槽的横截面设计为一开口的圆,开口占到整圆的六分之一至四分之一。由于开口小,因此如何将与密封槽内圆匹配的密封圈放入密封槽内,成为影响阀座加工的一个问题。

技术实现要素:
本发明目的是提供一种球阀的阀座密封结构的加工方法。为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种球阀的阀座密封结构的加工方法,包括一阀座半成品,该阀座半成品的环形密封槽的两槽边中的至少之一个槽边为自由边,一密封圈能够自由地放入所述环形密封槽内;所述加工方法的步骤包括:第一步:将上模安装于一压机的冲头上,下模安装于所述压机的工作台上;第二步:将所述密封圈置于所述阀座半成品的环形密封槽内,然后将所述阀座半成品安放于所述下模上,接下来启动所述压机使所述上模作用于所述环形密封槽的自由边,压弯所述自由边使所述自由边扣住所述密封圈并容许部分密封圈凸出至所述环形密封槽外。优选的技术方案为:用一研磨装置的磨头对露出所述环形密封槽外的密封圈进行磨削操作,使所述密封圈露出所述环形密封槽外的部分具有一平面或斜面。由于上述技术方案运用,本发明与现有技术相比具有下列优点和效果:1、本发明采用弯压成形的方法制成阀座的密封槽,使得密封圈和密封槽的配合关系更稳定,阀座的制备工艺自动化程度更高。2、本发明对密封圈露出密封槽的部分进行磨削以形成一个平面或斜面,以该平面紧贴球阀的球体设置,改变现有技术中密封结构与球体的线接触为面接触,使得密封效果更好。附图说明附图1为阀座半成品示意图。附图2为环形密封槽的自由边扣住密封圈后环形密封槽与密封圈之间的关系示意图。附图3为露出部分被磨削成平面后的密封圈示意图。以上附图中;1、阀座;2、自由边;3、环形密封槽;4、密封圈。具体实施方式下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述:须知,本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等,均仅用以配合说明书所揭示的内容,以供熟悉此技术的人士了解与阅读,并非用以限定本发明可实施的限定条件,故不具技术上的实质意义,任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整,在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下,均应仍落在本发明所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时,本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语,亦仅为便于叙述的明了,而非用以限定本发明可实施的范围,其相对关系的改变或调整,在无实质变更技术内容下,当亦视为本发明可实施的范畴。实施例:一种球阀的阀座密封结构的加工方法一种球阀的阀座密封结构的加工方法,包括一阀座半成品,阀座半成品参见附图1所示,在本实施方式中,阀座1的其它部分均已加工完成,仅剩密封圈4没有装配至环形密封槽3内。在其它的实施方式中,阀座1的加工与否可以不做考虑,仅需考虑环形密封槽3是否已经加工成附图1所示的形状。阀座半成品的环形密封槽3的两槽边中的至少之一个槽边为自由边2,一密封圈4能够自由地放入所述环形密封槽3内,也即环形密封槽3的敞口较大,可以容许密封圈4自由地放入环形密封槽3内。所述加工方法的步骤包括:第一步:将上模安装于一压机的冲头上,下模安装于所述压机的工作台上。下模用于固定阀座,因此下模的型腔的形状要与阀座的下半部分的外形匹配以托住阀座并固定阀座。上模的作用是使自由边卷弯,因此其型腔的形状要与加工后的自由边的外形匹配。第二步:将所述密封圈4置于所述阀座半成品的密封槽3内,然后将所述阀座半成品安放于所述下模上,接下来启动所述压机使所述上模作用于所述密封槽3的自由边2,压弯所述自由边2使所述自由边2扣住所述密封圈4并容许部分密封圈4凸出至所述密封槽3外。在另一具体的实施方式中,可以对上述制备好的阀座进行进一步的加工,具体是用一研磨装置的磨头对露出所述环形密封槽3外的密封圈4进行磨削操作,使所述密封圈4露出所述环形密封槽3外的部分具有一平面,在另一具体的实施方式中可以磨削形成斜面。上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施,并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
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