1.一种电化学加工装置，包括
-底座、电解槽以及朝向电解槽的加工电极；
-所述底座上设有驱动所述电解槽X向运动的X向运动平台和Y向运动的Y向运动平台，以及驱动所述加工电极Z向运动的Z向运动平台，其特征在于：
-所述Z向运动平台上连接有驱动所述加工电极三自由度微动的微动平台，所述微动平台包括与所述Z向运动平台连接的X向微动平台、与所述X向微动平台连接的Y向微动平台，以及与所述Y向微动平台连接的Z向微动平台，所述X向微动平台、Y向微动平台与Z向微动平台均包括台体和设置在台体内的动台体，所述动台体的各外侧壁与所述台体的各内侧壁之间均连接有柔性铰链，所述台体上连接有驱动所述动台体直线微动的压电陶瓷。
2.根据权利要求1所述的电化学加工装置，其特征在于：所述电解槽上还连接有检测所述加工电极对所述电解槽施加压力的力传感器，所述力传感器上连接有水平的连接板，所述连接板上设有底板，所述底板通过橡胶垫连接有与其平行的支撑板，所述电解槽设置在所述支撑板上，所述电解槽的侧壁上连接有两弹簧压片，所述弹簧管压片与所述连接板之间连接有第一弹簧，以及调整所述第一弹簧形变量的调整螺钉。
3.根据权利要求1所述的电化学加工装置，其特征在于：所述加工电极上还连接有检测其对工件加工深度的位移传感器。
4.根据权利要求2所述的电化学加工装置，其特征在于：所述底座上还连接有调整所述X向运动平台和Y向运动平台水平高度的活动底盘，所述活动底盘与所述底座之间连接有第二弹簧，所述活动底盘上连接有将其固定在所述底座上、并调整所述第二弹簧形变量的调整旋钮。
5.根据权利要求3所述的电化学加工装置，其特征在于：所述Z向微动平 台的动台体连接有悬挂板，所述悬挂板上悬挂有连接所述加工电极的接筒，所述接筒上连接有连接盘，所述连接盘上沿其圆周方向均匀连接有三个所述位移传感器。
6.根据权利要求4所述的电化学加工装置，其特征在于：所述X向运动平台与Y向运动平台均包括支座、沿支座水平移动的滑块以及设置在平台上驱动滑块水平移动的第一电机，所述X向运动平台的支座设置在所述活动底盘上，所述X向运动平台的支座设置在所述X向运动平台的滑块上，所述Y向运动平台的滑块上连接有台面，所述力传感器设置在所述台面上。
7.根据权利要求1所述的电化学加工装置，其特征在于：所述Z向运动平台包括与所述底座垂直连接的立板、沿所述立板纵向移动的滑板，以及驱动所述滑板纵向移动的第二电机与丝杆。
8.根据权利要求7所述的电化学加工装置，其特征在于：所述X向微动平台通过支座连接在所述滑板上，所述底座上设有两朝向所述支座、限制所述支座随所述滑板纵向移动幅度的限位柱。
9.根据权利要求1-8任一项所述的电化学加工装置，其特征在于：所述底座的两端还设有把手。