专利名称：具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及非晶薄带制造技木，尤其涉及ー种具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置。
背景技术：
金属在熔化后，内部原子处于活跃状态。一旦金属开始冷却，原子就会随着温度的下降，而慢慢地按照一定的晶态规律有序地排列起来，形成晶体。但如果冷却过程很快，原 子还来不及重新排列就被凝固住了，由此就产生了非晶态合金。制备非晶态合金采用的正是ー种快速凝固的エ艺。将处于熔融状态的高温钢水喷射到高速旋转的冷却辊上。钢水以毎秒百万度的速度迅速冷却，仅用千分之一秒的时间就将1300°C的钢水降到200°C以下，形成非晶带材。非晶态合金与晶态合金相比，在物理性能、化学性能和机械性能方面都发生了显著的变化。以铁元素为主的非晶态合金为例，它具有高饱和磁感应强度和低损耗的特点。由于这样的特性，非晶态合金材料在电子、航空、航天、机械、微电子等众多领域中具备了广阔的应用空间。正是因为非晶材料这样一系列优良特性，国内外均对其开展了系统性的理论与应用研究，国内对非晶合金的研究从1976年开始，国家科委一直将非晶合金的研究、开发、产业化列入重大科技攻关项目。在国际上，美日等西方发达国家也开展了大量的基础性研究。经过几十年的科研攻关，非晶材料的产业化应用取得了长足的进步。由于在制作非晶带时，钢水与高速旋转的辊面长时间接触，冷却辊表面的光洁度经过钢水的冲刷及热腐蚀后，光洁度明显下降，并且使冷却辊表面层的品粒逐步长大，从而増加了钢水与辊面的热阻，并使得紧贴辊面的带材表观质量恶化，使得产品质量性能下降。
实用新型内容本实用新型的目的是提供ー种具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置，优化冷却辊的表面光洁度，以保证非晶薄带的质量。本实用新型为解决其技术问题所采用的技术方案是，具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置，由冶炼机构、喷流机构和冷却机构组成，冶炼机构将原料溶融成金属液后输入嗔流机构中，由嗔流机构将金属液嗔至冷却机构表面，还包括一修磨器，该修磨器紧靠冷却机构，对冷却机构表面进行打磨；所述冷却机构具有柱形工作面，所述修磨器为轮形，修磨器的外表面与柱形工作面接触。本实用新型的优点在于，该装置在冷却装置处设置了修磨器，在冷却装置被金属液冲刷的同吋，对其柱形工作面进行打磨，修正柱形工作面的光洁度，从而使其光洁度始終保持在合理的范围内，使制造出的非晶薄带保持品质前后一致。
[0010]图I是本实用新型提出的非晶薄带制取装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合图示与具体实施例，进ー步阐述本实用新型。如图I所示，本实用新型提出的具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置由冶炼机构I、喷流机构2和冷却机构3组成，冶炼机构I将原料熔融成金属液后输入喷流机构2中，由喷流机构2将金属液喷至冷却机构3的表面，还包括修磨器4，该修磨器4紧靠冷却机构3，对冷却机构3的表面进行打磨；进ー步，所述冷却机构3具有柱形工作面，所述修磨器4为轮形，修磨器4的外表面与柱形工作面接触。该装置在冷却装置处设置了修磨器，在冷却装置被金属液冲刷的同时，对其柱形工作面进行打磨，修正柱形工作面的光洁度，从而使其光洁度始终保持在合理的范围内，使制造出的非晶薄带保持品质如后一致。以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
权利要求1.具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置，由冶炼机构、喷流机构和冷却机构组成，冶炼机构将原料熔融成金属液后输入喷流机构中，由喷流机构将金属液喷至冷却机构表面，其特征在于，还包括一修磨器，该修磨器紧靠冷却机构，对冷却机构表面进行打磨。
2.根据权利要求I所述的具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置，其特征在于，所述冷却机构具有柱形工作面，所述修磨器为轮形，修磨器的外表面与柱形工作面接触。
专利摘要本实用新型公开一种具有在位打磨装置的非晶薄带制取装置，由冶炼机构、喷流机构和冷却机构组成，冶炼机构将原料熔融成金属液后输入喷流机构中，由喷流机构将金属液喷至冷却机构表面，还包括一修磨器，该修磨器紧靠冷却机构，对冷却机构表面进行打磨；所述冷却机构具有柱形工作面，所述修磨器为轮形，修磨器的外表面与柱形工作面接触。该装置在冷却装置处设置了修磨器，在冷却装置被金属液冲刷的同时，对其柱形工作面进行打磨，修正柱形工作面的光洁度，从而使其光洁度始终保持在合理的范围内，使制造出的非晶薄带保持品质前后一致。
文档编号B22D11/06GK202387933SQ20112055860
公开日2012年8月22日 申请日期2011年12月28日 优先权日2011年12月28日
发明者卢来发, 姚磊 申请人:上海安泰至高非晶金属有限公司