专利名称：一种mocvd设备的金属粉尘过滤装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种MOCVD设备配件，具体涉及一种MOCVD设备的金属粉尘过滤
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背景技术：
金属有机化合物气相外延沉积(Metal-OrganicChemical Vapor Deposition,简称M0CVD)，是20世纪60年代末期发展起来的利用金属有机化合物进行金属输运的一种化合物半导体单晶薄膜制造设备，广泛应于半导体材料、高速电子器件等领域，目前其主要用于GaN系半导体材料的外延生长及蓝光、绿光、白光或紫外发光二极管芯片的制造。在对MOCVD设备维护时，漂浮在设备运行环境中的金属粉尘会随着排风进入设备加热电源中，容易导致PCB板的烧毁，造成损失，若不进行排风，则会影响散热，会严重影响到设备的使用寿命。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种结构简单、能够有效避免金属粉尘进入设备加热电源的过滤装置。一种MOCVD设备的金属粉尘过滤装置，包括过滤板，所述过滤板固定安装在加热电源上，所述过滤板的板面上可分布开设若干个直径为20um的过滤孔。
本实用新型结构简单，加工方便，在对MOCVD设备维护时，可有效避免漂浮在环境中的金属粉尘进入加热电源中，从而引起电路板烧毁现象的发生，同时也不影响加热电源本身散热。
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合具体实施例，对本发明做进一步说明。应理解，以下实施例仅用于说明本发明而非用于限制本发明的范围。实施例1参见图1，本实用新型提供的一种MOCVD设备的金属粉尘过滤装置，包括过滤板1，所述过滤板I的四个顶角处设有固定脚2，将螺栓旋入固定脚2，使过滤板I固定在加热电源上，由于金属粉尘一般直径都会超过20um，所述过滤板I的板面上可分布开设若干个直径为20um的过滤孔3，将金属粉尘有效的过滤。
权利要求1.一种MOCVD设备的金属粉尘过滤装置，其特征在于:包括过滤板，所述过滤板固定安装在加热电源上，所述过滤板的板面上可分布开设若干个直径为20um的过滤孔。
专利摘要本实用新型公开了一种MOCVD设备的金属粉尘过滤装置，包括过滤板，所述过滤板固定安装在加热电源上，所述过滤板的板面上可分布开设若干个直径为20um的过滤孔。本实用新型结构简单，加工方便，在对MOCVD设备维护时，可有效避免漂浮在环境中的金属粉尘进入加热电源中，从而引起电路板烧毁现象的发生，同时也不影响加热电源本身散热。
文档编号C23C16/44GK203034089SQ20132001190
公开日2013年7月3日 申请日期2013年1月10日 优先权日2013年1月10日
发明者林长军 申请人:合肥彩虹蓝光科技有限公司