专利名称：一种研磨抛光设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种机械设备，特别涉及一种对产品表面进行研磨抛光的研磨抛光设备。
背景技术：
目前，公知的在佛珠木珠加工后所有的珠子均由人力抛光，通过抛光设备进行研磨抛光处理的极其有限。首先，因为现有的抛光设备的容器内最大只可抛光到25MM大小的球珠，所以抛光球珠的大小受到容器限制；其次，在球珠抛光过程中上盖在运转时间较长的情况下容易飞出，造成人员伤亡；最后，抛光设备极其昂贵，应用受到限制。综上，现有人力抛光佛珠木珠等球珠的耗时性、现有抛光设备的局限性和安全性，给广大爱好者带来困扰，并且极大的增加了爱好的购买成本。那么，如何提供一种研磨抛光设备成为亟待解决的问题。
发明内容本实用新型解决的问题是如何提供一种研磨抛光设备，能够克服研磨抛光的延时性、局限性以及安全性。本实用新型一种研磨抛光设备，包括:底座、调速电机、球珠容器、垫板和压盖；其中，所述底座包括:定位板，所述定位板下端垂直所述底座顶部，并与所述底座侧面固定，所述定位板的上端具有定位凹槽；所述调速电机固定于所述底座内，且所述调速电机的主动轴伸出于所述底座顶部；所述球珠容器，通过设置的中心孔与所述主动轴连接，且所述球珠容器的外壁到内壁之间的距离不等；所述垫板与所述球珠容器底部相匹配，并铺设在所述球珠容器内的 底部；所述压盖，设置有与所述定位凹槽相配合的定位件，通过所述定位件与所述定位凹槽的配合，将所述压盖覆盖于所述球珠容器上，并将所述压盖固定于所述底座上。优选地，球珠容器为环状容器，外环内壁与内环外壁之间具有容纳空间，所述中心孔位于所述环状容器外环的中心点上。优选地，本实用新型进一步包括:缓冲垫，位于所述球珠容器上方，并与所述球珠容器相匹配。优选地，本实用新型进一步包括:研磨层，位于所述压盖下方或所述缓冲垫下方。优选地，所述缓冲垫的材质是橡胶或塑料，所述研磨层为砂纸。优选地，所述压盖上设置有与所述主动轴配合的轴承。优选地，本实用新型中所述底座进一步包括:调节所述主动轴转向的正反转开关。优选地，本实用新型中所述底座进一步包括:调节所述调速电机的调速开关。优选地，本实用新型中所述底座进一步包括:便于移动研磨抛光设备的把手。优选地，本实用新型中所述底座进一步包括:缓冲减震地脚，相对设置于所述底座下方边缘。[0016]本实用新型提供的一种研磨抛光设备，可以通过球珠容器对各种材质球状物体进行抛光的同时，由于球珠容器5内壁53到外壁52之间距离不同，也就是说内壁53到中心孔51的距离与外壁52到中心孔51的距离不相同，因此使得球珠容器壁的重量不等，在主动轴的传动下，球珠容器还可以由于容器壁的厚度不同而实现甩动力，进而使球珠100会在球珠容器5内可以进行自身旋转，已达到对球珠容器5内球珠100进行全面抛光；，并且，通过铺设在所述球珠容器内的底部的垫板，可以调整球珠的高度，从而无需更换球珠容器，降低了成本。另外，通过压盖定位于所述底座上，进而避免了意外的发生，保证了安全。
为了更清楚地说明本实用新型实施例和现有技术中的技术方案，下面将对实施例和现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本实用新型提供的一种研磨抛光设备的结构示意图；图2是本实用新型提供的一种研磨抛光设备球珠容器的示意图；图3是本实用新型提供的一种研磨抛光设备球珠容器的剖视图；图4是本实用新型提供的一种研磨抛光设备球珠容器的原理示意图。
具体实施方式
下面将接合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都 属于本实用新型保护的范围。请参考图1所示，图1是本实用新型提供的一种研磨抛光机的结构示意图。本实用新型提供的一种研磨抛光设备，包括:底座1、调速电机2、球珠容器5和压盖7 ;其中，所述底座I包括:定位板4，所述定位板4下端垂直所述底座I顶部，并与所述底座I侧面固定，所述定位板4的上端具有定位凹槽41 ;所述调速电机2固定于所述底座I内，且所述调速电机2的主动轴3伸出于所述底座I顶部；进一步参考图2和图3所示，所述球珠容器5，通过设置的中心孔51与所述主动轴连接，且所述球珠容器的内壁53到外壁52之间的距离不等；所述垫板13与所述球珠容器5底部相匹配并铺设在所述球珠容器5内的底部；所述压盖7，设置有与所述定位凹槽41相配合的定位件8，通过所述定位件8与所述定位凹槽41的配合，将所述压盖7覆盖于所述球珠容器5上，并将所述压盖7固定于所述底座I上。本实用新型提供的一种研磨抛光设备的工作原理是，将后续研磨抛光的球珠放入所述球珠容器5中，通过固定在所述底座I上的定位板4与所述压盖7上的定位件8配合，将所述压盖7固定在所述底座I上，接通电源后，该设备开始运转，球珠容器5中的球珠100随着转动，并且由于球珠容器5内壁53到外壁52之间距离不同，也就是说内壁53到中心孔51的距离与外壁52到中心孔51的距离不相同，因此使得球珠容器壁的重量不等，在主动轴的传动下，球珠容器还可以由于容器壁的厚度不同而实现甩动力，进而使球珠100会在球珠容器5内可以进行自身旋转，已达到对球珠容器5内球珠100进行全面抛光。另外，通过铺设在所述球珠容器5内的底部的垫板13，可以调节球珠容器5内球珠100的高度，使球珠100能够得到全面的研磨抛光，而无需更换球珠容器5，因此，本实用新型提供的研磨抛光设备不受球珠100大小的限制，进而降低了制造成本。本实用新型提供的研磨抛光设备的压盖7与底座1，可以通过所述压盖7上的定位件8与所述底座I上定位板4的凹槽配合，将压盖7固定在底座I上，从而避免压盖7由于旋转而飞出，造成的人员伤亡。参考图4所示，本实用新型提供的一种研磨抛光设备，可以通过球珠容器5对各种材质球状物体进行抛光的同时，内壁53到外壁52之间距离不同，也就是说内壁53到中心孔51的距离与外壁52到中心孔51的距离不相同，因此使得球珠容器壁的重量不等，在主动轴的传动下，球珠容器还可以由于容器壁的厚度不同而实现甩动力，进而使球珠100会在球珠容器5内可以进行自身旋转，已达到对球珠容器5内球珠100进行全面抛光；，并且，通过铺设在所述球珠容器5内的底部的垫板13，可以调整球珠100的高度，从而无需更换球珠容器5，降低了成本。另外，通过压盖7定位于所述底座I上，进而避免了意外的发生，保证了安全。本实用新型所述的球珠容器可以为环状容器，外环内壁与内环外壁之间具有容纳空间，所述中心孔位于所述内环中心上。另外，本实用新型的球珠容器还可以通过采用设置偏心孔，来实现容器内球珠的自转。以上仅为本实用新型实现偏心转动的举例，实质上实现方式并不限于上述内容。所述垫板13可以是橡胶或 塑料等具有弹性的材质。本实用新型提供的一种研磨抛光设备，进一步包括:缓冲垫6，位于所述球珠容器5上方，并与所述球珠容器5相匹配。避免球珠100在转动过程中受力太大而造成的损坏。本实用新型提供的一种研磨抛光设备，进一步包括:研磨层14，位于所述压盖7下方(图未视)或所述缓冲垫6下方。所述研磨层14避免了球珠容器5内的球珠100抛光不到位以及防止球珠100损坏的情况。所述缓冲垫6的材质是橡胶或塑料，所述研磨层14为砂纸。本实用新型提供的一种研磨抛光设备，在所述压盖7上设置有与所述主动轴3配合的轴承(图未视)。减缓所述压盖7与所述主动轴3之间的摩擦，提高设备的使用寿命。本实用新型提供的一种研磨抛光设备，所述底座I进一步包括:调节所述主动轴3转向的正反转开关9。在研磨抛光过程中可以对球珠容器5内球珠100转动的方向进行调整，在球珠100不圆的情况下，机械续长时间运转，可对不圆的球珠100进行修正。本实用新型提供的一种研磨抛光设备，所述底座I进一步包括:调节所述调速电机2的调速开关10。根据球珠材质的油性，调节调速电机2的转速，进而达到更好的抛光效果O为了便于研磨抛光设备的搬运，本实用新型在所述底座I上设置了便于移动研磨抛光设备的把手11。更进一步的，四个减震缓冲地脚，相对设置于所述底座下方边缘，起到减震，缓冲和调节平衡的作用。[0042]综上，本实用新型提供的一种研磨抛光设备，可以对球珠容器5内各种球珠100进行抛光的同时，由于球珠容器5内壁53到外壁52之间距离不同，也就是说内壁53到中心孔51的距离与外壁52到中心孔51的距离不相同，因此使得球珠容器壁的重量不等，在主动轴的传动下，球珠容器还可以由于容器壁的厚度不同而实现甩动力，进而使球珠100会在球珠容器5内可以进行自身旋转，已达到对球珠容器5内球珠100进行全面抛光；，并且通过球珠容器5内设置的垫板13，无需在更换球珠容器5，从而降低了制造成本，进而降低了使用成本。另外，通过压盖7定位件8与底座I定位板4的相互配合，是的压盖7可以固定于所述底座I上，进而避免了由于设备的转动使压盖7飞出而造成的人员伤亡等安全事故。也就是说，本实用新型提供的一种研磨抛光设备，克服了人工抛光的耗时性和现有抛光设备的局限性、安全性。在降低了生产造成成本的同时，还大大降低了人工成本。以上所述仅为本实用新型提供的一种研磨抛光设备的优选实施方式，并不构成对本实用新型保护范围的限定。该实施例中的部件数量并不局限于实施例中所采用的方式，任何在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的权利要求保护范·围之内。
权利要求1.一种研磨抛光设备,其特征在于,包括:底座、调速电机、球珠容器、垫板和压盖；其中，所述底座包括:定位板，所述定位板下端垂直所述底座顶部，并与所述底座侧面固定，所述定位板的上端具有定位凹槽；所述调速电机固定于所述底座内，且所述调速电机的主动轴伸出于所述底座顶部；所述球珠容器，通过设置的中心孔与所述主动轴连接，且所述球珠容器的外壁到内壁之间的距离不等；所述垫板与所述球珠容器底部相匹配，并铺设在所述球珠容器内的底部；所述压盖，设置有与所述定位凹槽相配合的定位件，通过所述定位件与所述定位凹槽的配合，将所述压盖覆盖于所述球珠容器上，并将所述压盖固定于所述底座上。
2.根据权利要求1所述的研磨抛光设备，其特征在于，所述球珠容器为环状容器，外环内壁与内环外壁之间具有容纳空间，所述中心孔位于所述环状容器外环的中心点上。
3.根据权利要求1所述的研磨抛光设备，其特征在于，进一步包括:缓冲垫，位于所述球珠容器上方，并与所述球珠容器相匹配。
4.根据权利要求3所述的研磨抛光设备，其特征在于，进一步包括:研磨层，位于所述压盖下方或所述缓冲 垫下方。
5.根据权利要求4所述的研磨抛光设备，其特征在于，所述缓冲垫的材质是橡胶或塑料，所述研磨层为砂纸。
6.根据权利要求5所述的研磨抛光设备，其特征在于，所述压盖上设置有与所述主动轴配合的轴承。
7.根据权利要求1所述的研磨抛光设备，其特征在于，所述底座进一步包括:调节所述主动轴转向的正反转开关。
8.根据权利要求1所述的研磨抛光设备，其特征在于，所述底座进一步包括:调节所述调速电机的调速开关。
9.根据权利要求1所述的研磨抛光设备，其特征在于，所述底座进一步包括:便于移动研磨抛光设备的把手。
10.根据权利要求1所述的研磨抛光设备，其特征在于，所述底座进一步包括:四个减震缓冲地脚，相对设置于所述底座下方边缘。
专利摘要一种研磨抛光设备，包括底座、调速电机、球珠容器、垫板和压盖；其中，所述底座包括定位板，所述定位板下端垂直所述底座顶部，并与所述底座侧面固定，所述定位板的上端具有定位凹槽；所述调速电机固定于所述底座内，且所述调速电机的主动轴伸出于所述底座顶部；所述球珠容器，通过设置的中心孔与所述主动轴连接，且所述球珠容器的内壁到外壁之间的距离不等；所述垫板与所述球珠容器底部相匹配，并铺设在所述球珠容器内的底部；所述压盖，设置有与所述定位凹槽相配合的定位件，通过所述定位件与所述定位凹槽的配合，将所述压盖覆盖于所述球珠容器上，并将所述压盖固定于所述底座上；进而本实用新型克服了抛光球珠的耗时性、局限性和安全性，并降低了成本。
文档编号B24B37/025GK203109784SQ201320146278
公开日2013年8月7日 申请日期2013年3月28日 优先权日2013年3月28日
发明者孙光明 申请人:孙光明