1.一种用于线型沉积设备的线性源，其包括：
接地单元，所述接地单元设置在所述线性源的中央部以向下喷射前体；
第一等离子体喷嘴单元，所述第一等离子体喷嘴单元以向着所述接地单元倾斜的方式设置在所述接地单元的左侧，且所述第一等离子体喷嘴单元适于通过从外侧供应的电力将工艺气体转变成等离子体，以向下喷射所述等离子体；以及
第二等离子体喷嘴单元，所述第二等离子体喷嘴单元以向着所述接地单元倾斜的方式设置在所述接地单元的右侧，且所述第二等离子体喷嘴单元适于通过从外侧供应的电力将工艺气体转变成等离子体，以向下喷射所述等离子体。
2.根据权利要求1所述的线性源，其中所述第一等离子体喷嘴单元包括：
第一壳体；
第一绝缘体，所述第一绝缘体联接到所述第一壳体的下部；
第一电极，所述第一电极联接到所述第一绝缘体的下侧；
一对第一侧方磁体安装部分，所述一对第一侧方磁体安装部分以彼此面对的方式在所述第一电极下侧的两端上彼此间隔开；
第一中央磁体安装部分，所述第一中央磁体安装部分以将由所述一对第一侧方磁体安装部分形成的空间划分成两个部分的方式设置在所述第一电极的下侧的中央上；
第一侧方磁体，所述第一侧方磁体安装在每个第一侧方磁体安装部分上；
第一中央磁体，所述第一中央磁体安装在所述第一中央磁体安装部分上；以及
第一工艺气体供应部分，所述第一工艺气体供应部分设置在所述第一电极的下侧上，以将所述工艺气体供应到由所述一对第一侧方磁体安装部分和所述第一中央磁体安装部分形成的空间。
3.根据权利要求2所述的线性源，其中所述第一等离子体喷嘴单元进一步包括：
第一电极冷却部分，所述第一电极冷却部分设置在所述第一电极上，以通过在所述第一电极冷却部分中循环的制冷剂使所述第一电极冷却；以及
第二磁体冷却部分，所述第二磁体冷却部分设置在所述第一侧方磁体安装部分的下部上，以通过在所述第二磁体冷却部分中循环的制冷剂使所述第一侧方磁体安装部分和所述第一侧方磁体冷却。
4.根据权利要求2所述的线性源，其中所述第一侧方磁体具有在每个第一侧方磁体安装部分的内部表面上沿上下方向彼此间隔开的N极部和S极部。
5.根据权利要求2所述的线性源，其中所述第一中央磁体具有在所述第一中央磁体安装部分上彼此邻近设置的N极部和S极部。
6.根据权利要求2所述的线性源，其中所述第二等离子体喷嘴单元包括：
第二壳体；
第二绝缘体，所述第二绝缘体联接到所述第二壳体的下部；
第二电极，所述第二电极联接到所述第二绝缘体的下侧；
一对第二侧方磁体安装部分，所述一对第二侧方磁体安装部分以彼此面对的方式在所述第二电极的下侧的两端上彼此间隔开；
第二中央磁体安装部分，所述第二中央磁体安装部分以将由所述一对第二侧方磁体安装部分形成的空间划分成两个部分的方式设置在所述第二电极的下侧的中央上；
第二侧方磁体，所述第二侧方磁体安装在每个第二侧方磁体安装部分上；
第二中央磁体，所述第二中央磁体安装在所述第二中央磁体安装部分上；以及
第二工艺气体供应部分，所述第二工艺气体供应部分设置在所述第二电极的下侧上，以将所述工艺气体供应到由所述一对第二侧方磁体安装部分和所述第二中央磁体安装部分形成的空间。
7.根据权利要求6所述的线性源，其中所述第一壳体和所述第二壳体的上部联接到安装在真空腔的安装孔上的安装板。
8.根据权利要求1所述的线性源，所述线性源进一步包括水平移动单 元，所述水平移动单元适于以一种方式沿一个侧方向水平移动基板，这种方式允许所述基板与所述第一等离子体喷嘴单元、所述第二等离子体喷嘴单元和所述接地单元间隔开一给定距离。