1.配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，该真空处理系统包括：
-一个扩散泵(6)，该扩散泵具有一个本体，该本体包括被配置成被加热的一个热部件(27)和被配置成被冷却的一个冷部件(28)；以及
-一个隔热装置(33)，该隔热装置被安装在所述扩散泵(6)的所述本体(34)的该热部件(27)的大部分上并且被配置成用于减少在所述热部件(27)与所述本体(34)的外部环境之间的热交换。
2.根据权利要求1所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，所述扩散泵(6)被配置成用于连接至所述真空处理系统(1)的一个真空室(4)并且被配置成用于从所述真空室(4)抽吸气体直至所述真空室达到一个预定内部压力，所述扩散泵(6)包括一个本体(34)，该本体具有一个第一部分(35)和一个第二部分(36)，该第一部分位于所述热部件(27)中并且被配置成用于接纳运动流体(9)，该第二部分位于所述冷部件(28)中并且是与所述第一部分(35)分离的，所述真空处理系统(1)进一步包括：
-一个加热装置(30)，该加热装置被配置成用于将存在于所述本体(34)的所述第一部分(35)中的所述运动流体(9)加热，所述本体(34)的所述第二部分(36)被配置成用于接纳从被加热的所述运动流体(9)蒸发的分子并且将其冷却，以及
-一个冷却装置(31)，该冷却装置被配置成用于冷却所述本体(34)的所述第二部分(36)，
并且该隔热装置(33)被安装在所述第一部分(35)的大部分上。
3.根据权利要求2所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，所述加热装置(30)具有最大功率并且能够将所述运动流体(9)加热至最大温度，并且所述真 空处理系统(1)进一步包括一个调节装置(32)，该调节装置被配置成用于控制并命令由所述加热装置(30)递送的加热功率来将所述运动流体(9)加热至低于所述最大温度的一个温度。
4.根据权利要求3所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，所述调节装置(32)包括一个测量构件(18)和一个控制与命令单元(8)，该测量构件被容纳在所述扩散泵(6)的所述本体(34)的所述第一部分(35)内并且被配置成用于测量所述运动流体(9)的温度，该控制与命令单元包括多个系统元件，这些系统元件被配置成用于控制所述运动流体(9)的所述温度并且用于命令所述加热功率。
5.根据权利要求4所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，所述控制与命令单元(8)的所述系统元件被进一步配置成：
-用于命令所述加热装置(30)处于其最大功率，
-用于接收并储存所述运动流体(9)的最大温度值，
-用于接收并储存根据多个预定参数而采取的至少一个特征，该至少一个特征表示所述真空室(4)的最小内部压力，
-用于命令所述加热装置(30)处于低于其最大功率的一个加热功率，
-用于接收并且储存所述运动流体(9)的温度值，
-用于接收并储存根据所述预定参数而采取的至少一个特征，该至少一个特征表示所述真空室(4)的内部压力，
所述控制与命令单元(8)的所述系统元件被进一步配置成用于命令所述加热装置(30)处于低于其最大功率的一个加热功率直至达到所述扩散泵(6)对所述真空室(4)中气体的泵送效率损失，并且用于从其中推断出所述运动流体(9)的临界温度。
6.根据权利要求5所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，所述扩散泵(6)对所述真空室(4)中气体的所述泵送效率损失表示所述真空室(4)的、高于 一个预定阈值的内部压力。
7.根据权利要求5和6之一所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，所述控制与命令单元(8)的所述系统元件被进一步配置成用于从所述临界温度来确定所述运动流体要被加热至的低于所述最大温度的所述温度。
8.根据权利要求7所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，所述临界温度是恰在达到所述泵送效率损失前接收到的所述运动流体(9)的温度，并且所述运动流体要被加热至的低于所述最大温度的所述温度在以下范围内：临界温度+5°；临界温度+15°。
9.根据权利要求5和6之一所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，该真空处理系统进一步包括一个注气装置(7)，该注气装置被配置成连接至所述真空处理系统(1)的所述真空室(4)并且被配置成用于将气体以特定流速注入所述真空室(4)中，并且所述预定参数对应于气体流速。
10.根据权利要求1至6中任一项所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，该真空处理系统包括一个真空室(4)和至少一个处理装置(12，13)。
11.根据权利要求1至6中任一项所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，该真空处理系统被配置成用于将至少一个抗划伤和/或减反射涂层(3)沉积在一个眼镜片(2)上。
12.根据权利要求1至6中任一项所述的配置成用于将至少一个功能涂层沉积在眼镜片上的真空处理系统，其特征在于，该真空处理系统包括一个真空室(4)和至少一个处理装置(12，13)，处理装置用于通过蒸发和/或通过等离子体进行处理。