1.一种CMP后清洗液组合物，其特征在于，包含：2-氨基-2-甲基-1-丙醇(2-Amino-2-methyl-1-propanol)0.01～10wt％、季铵氢氧化物0.1～10wt％、螯合剂0.001～3wt％、哌嗪(Piperazine)0.001～5wt％以及使全部组合物总重量为100wt％的余量的超纯水。
2.一种CMP后清洗液组合物，其特征在于，包含：2-氨基-2-甲基-1-丙醇(2-Amino-2-methyl-1-propanol)0.01～10wt％、四甲基氢氧化铵(TMAH)0.1～10wt％、1,2-环己二胺四乙酸(1,2-cyclohexane diamine tetra acetic acid，CyDTA)0.001～3wt％、哌嗪(Piperazine)0.001～5wt％以及使全部组合物总重量为100wt％的余量的超纯水。
3.根据权利要求1所述的CMP后清洗液组合物，其特征在于，所述季铵氢氧化物为选自四甲基氢氧化铵(TMAH)、四甲基氢氧化铵(TEAH)、四丙基氢氧化铵(TPAH)、四丁基氢氧化铵(TBAH)中的一种以上。
4.根据权利要求1所述的CMP后清洗液组合物，其特征在于，所述螯合剂为选自乙二胺四乙酸(EDTA)、丁二胺四乙酸、1,2-环己二胺四乙酸(CyDTA)、二亚乙基三胺五乙酸(DETPA)、三亚乙基四胺六乙酸(TTHA)、丙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)(DOTP)、氨三乙酸(NTA)、柠檬酸、酒石酸、葡糖酸、甘油酸、草酸、苯二甲酸、马来酸、扁桃酸、丙二酸中的一种以上。
5.根据权利要求1或2所述的CMP后清洗液组合物，其特征在于，所述清洗液组合物的pH为10～14。
6.根据权利要求1或2所述的CMP后清洗液组合物，其特征在于，所述清洗液组合物在化学机械研磨(CMP)工序后用于金属表面清洗，以1：50～1：100的稀释比使用。