1.基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：清洗基片；
步骤二：将基片与靶材置于真空腔内，抽真空；
步骤三：基底加热，充入气氛并调节气体流量与压强；
步骤四：在基片上溅射沉积薄膜；
步骤五：退火处理薄膜。
2.根据权利要求1所述的基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法，其特征在于，步骤一中所用基片为SiO2。
3.根据权利要求1所述的基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法，其特征在于，步骤一中超声清洗SiO2基片依次采用丙酮、异丙醇、去离子水、无水乙醇，超声清洗时间分别为10-15min。
4.根据权利要求1所述的基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法，其特征在于，步骤二所述的靶材为CeYIG靶材，满足化学式CexY3-xFe5O12，0.1≤x≤1，x为Ce3+离子含量。
5.根据权利要求1所述的基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法，其特征在于，靶材与基片之间的距离为4-8cm。
6.根据权利要求1所述的基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法，其特征在于，步骤三所述的SiO2基底的温度为550℃-750℃。
7.根据权利要求1所述的基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法，其特征在于，步骤三所述充入气氛为O2，氧压选择在5-10Pa之间。
8.根据权利要求1所述的基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法，其特征在于，激光能量范围从160mJ到320mJ，激光频率为2-10Hz。
9.根据权利要求1所述的基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法，其特征在于，步骤五中退火气氛选择空气、氩气或氢气。
10.根据权利要求1所述的基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法，其特征在于，步骤五中退火晶化温度为700-850℃，保温时间10-30min。