用于向浇注室中注入熔体的设备和用于向浇注室中注入熔体的方法与流程

本发明涉及一种用于向浇注室中注入熔体以进行压铸的设备，包括具有内部容积的中间容器，该内部容积可被熔体填充。此外，本发明涉及一种用于借助设备向浇注室中注入熔体以进行压铸的方法。

背景技术：

在现代技术中，压铸法通常用于批量或大量生产结构部件。在已知的压铸法中，在此液态熔体首先被注入、尤其是计量地注入浇注室中。随后借助浇注活塞将浇注室中的熔体加速并射入铸模中。在那里熔体凝固成待制造构件。为了计量进入浇注室中的熔体，在现有技术中在此尤其是公开了两种装置。

第一种计量装置是浇包，该浇包尤其是通过沉入而被液态熔体填充。熔体为此例如可位于保温炉中。过多接收的熔体在此例如可通过倾斜浇包而再次流回保温炉中。为了将熔体注入浇注室，浇包定位于浇注室中的注入口上方并且通过倾斜而倒空到浇注室中。

另一种用于计量注入浇注室中的熔体的可能性是封闭的计量炉，液态熔体位于该计量炉中。为了填充浇注室，向计量炉的内腔加载压力。通过位于炉内熔体液位之下的上升管，熔体可上升并且例如通过槽或适合的装置流入浇注室的注入口中。在达到希望的剂量时，降低炉内的压力并且由此终止对浇注室的填充。

已知的用于向浇注室中注入熔体的设备和方法在此具有多个缺点。例如在熔体从浇包流入浇注室中时形成逐渐变细的、抛物线状的熔体束。该熔体束以不可控的角度碰撞到浇注室的内表面上。通过在碰撞时的高脉冲、尤其是基于熔体的高流动速度，可能已在短时间后在浇注室的内表面上产生侵蚀。这种磨损导致浇注室使用寿命缩短。由此产生高维护成本。此外，熔体在浇包和浇注室内表面之间的高下落高度容易在浇注室中碰撞时形成涡流和氧化物。但这种氧化物可不利地影响所制造构件的特性和质量。在使用计量炉时(如上所述)通过炉腔内的过压调节来计量熔体量。这种操作方法非常不准确并且可产生高达+/-2.5％的计量误差。但在浇注室中不同的熔体填充量不利地影响待制造构件的质量，因为在填充量过少时例如用于构件的铸模没有被完全填满并且在填充量过大时压铸残余物过多，其必须被耗费能量和成本地重熔。这导致所制造构件的废品增加和/或因额外所需的熔化过程引起的制造成本增加。此外，这种基于过压的计量系统非常迟缓，从而大大影响制造构件时的生产节拍。

技术实现要素：

因此，本发明的任务在于至少部分消除上面所描述的、已知的、用于向浇注室中注入熔体以进行压铸的设备以及用于向浇注室中注入熔体以进行压铸的方法的缺点。本发明的任务尤其是在于提出一种用于向浇注室中注入熔体以进行压铸的设备以及一种用于向浇注室中注入熔体以进行压铸的方法，它们以简单且低成本的方式改善了熔体为了压铸而向浇注室中的注入，其中尤其是减少了浇注室的磨损并提高了待通过压铸制造的构件的质量。

在本发明的第一方面，上述任务通过一种具有独立权利要求1特征的用于向浇注室中注入熔体以进行压铸的设备来解决。根据本发明的第二方面，所述任务通过一种具有权利要求13特征的用于向浇注室中注入熔体以进行压铸的方法来解决。本发明的其它特征和细节由从属权利要求、说明书和附图给出。在此关于根据本发明的设备所描述的特征和细节当然也适用于根据本发明的方法，反之亦然，从而在公开发明内容方面始终可相互参考各个发明方面。

根据本发明的第一方面，所述任务通过一种用于向浇注室中注入熔体以进行压铸的设备来解决，其包括具有内部容积的中间容器，所述内部容积可被熔体填充。根据本发明的设备的特征在于，所述中间容器在浇注室中可倒退地设置在浇注室的内表面上方，所述中间容器具有用于向浇注室中注入熔体的排出口和用于打开和封闭排出口的封闭体。

根据本发明的设备构造用于向浇注室中注入熔体以进行压铸。作为熔体在此例如可使用熔融铝。为此所述设备包括具有内部容积的中间容器。该内部容积在此可被熔体填充。本发明的重点在于，所述中间容器在浇注室中能够可倒退地设置在浇注室的内表面上方。在此，“设置在浇注室的内表面上方”在本发明意义中尤其是表示：中间容器至少部分地位于浇注室内部并且在中间容器的排出口与浇注室的内表面之间的距离很小。该距离、即所谓的出口间隙在此优选不超过排出口直径的约10％－200％和/或小于约15cm、优选小于约5cm、特别优选小于约1cm。

通过在排出口和浇注室的内表面之间的小的出口间隙能够可靠避免在熔体注入浇注室中时熔体以高碰撞速度落到浇注室的内表面上。由此可防止对浇注室内表面的侵蚀并且总体上减小了浇注室的磨损。从而可延长浇注室的使用寿命。为了向浇注室中注入熔体，首先将熔体注入中间容器的内部容积中。在此尤其是可想到，例如通过适合的激光测量法和/或超声波测量法和/或涡流法监测熔体在中间容器的内部容积中的液位。当然在此所述设备、尤其是中间容器可具有为此所需的传感器和分析装置。通过如此监测在内部容积中的液位尤其是可确保熔体在中间容器的内部容积中的填充量始终相同。由此可实现以相同的熔体量始终相同地填充浇注室。从而一方面能够提高待铸造构件的质量并由此减少因填充量过少引起的缺陷构件废品。另一方面挤压残余物具有所需尺寸。由此可降低构件的制造成本。尤其是例如也可规定，内部容积作为表面材料至少区段地具有陶瓷和/或涂层金属、尤其是涂有涂料的金属。由此熔体可完全流入浇注室中。通过下述方式可进一步提高构件质量，即，当中间容器设置在浇注室内表面附近并且排出口打开之后，中间容器保持在该位置中直至所有熔体从中间容器的内部容积流入浇注室中。由此一旦液位超过出口间隙，排出口就位于熔体在浇注室中的液位以下。由此可避免熔体在注入浇注室中时穿过氧化层，该氧化层形成于浇注室中的熔体表面上。因此可避免该氧化层扬起和由此引起的氧化层向熔体中的分布。从而可提高浇注室中的熔体纯度并且因此又提高了待铸造构件的质量。因此，总体上可通过根据本发明的设备降低所使用浇注室的磨损并且同时提高所制造压铸构件的质量。

此外，在根据本发明的设备中可规定，中间容器和/或内部容积构造成漏斗形。在此“漏斗形”在本发明意义中表示：中间容器和/或内部容积至少区段地构造成锥形。在此特别优选可规定，漏斗形的中间容器朝向排出口方向逐渐变细。这种漏斗形的中间容器(尤其是中间容器的外部形状构造成漏斗形)因此至少区段地具有外部锥形形状。该造型可用作在浇注室注入口中的插入辅助和/或对中辅助。由此可简化中间容器在浇注室内表面上方的设置。基于漏斗形的内部容积可实现：位于中间容器的内部容积中的熔体可特别好地经由排出口流出。在此特别优选可规定，内部容积这样构造成漏斗形，使得内部容积的内径朝向排出口方向逐渐变细。由此能够在排出口打开时内部容积已经可仅通过重力完全被动地排空并且没有熔体保留在内部容积中。由此可特别好地计量注入浇注室中的熔体量。

在根据本发明的设备中还可规定，封闭体构造为用于打开和封闭排出口的阀体，所述阀体在第一位置中封闭排出口并且在第二位置中释放排出口。阀体在此可以特别简单的方式提供封闭体。在此特别优选地，阀体可设置在中间容器内部容积的内部或至少基本上设置在其内部。在此阀体可在其第一位置中如塞子那样封闭排出口并且可简单地朝向内部容积内部的方向移动到其第二位置中，以便释放并由此打开排出口。这种设置的优点尤其是在于，熔体基于重力向阀体施加力，该力将阀体压向其在排出口上的第一位置中。由此可特别简单地通过这种阀体实现对排出口的特别密封的封闭。

在根据本发明的设备的一种扩展方案中还可规定，所述阀体具有接触突出部，该接触突出部从中间容器、尤其是从排出口突出并且构造用于接触浇注室的内表面，通过接触，阀体可从其第一位置移动到其第二位置中。该接触突出部在其几何形状方面这样设计，使得其可根据本发明使用，尤其是其构造用于接触浇注室中的内表面。在此尤其是可规定，接触突出部比出口间隙(其在中间容器设置在内表面上方时保留在排出口和浇注室的内表面之间)更加突出于中间容器或排出口。因此接触突出部跨接在所述中间容器和浇注室内表面之间的距离。因此，当中间容器设置在浇注室的内表面上方时，在中间容器于浇注室中占据其最终位置之前接触突出部就已接触到浇注室的内表面。由此阀体被压向中间容器内部并且由此自动打开排出口。这实现了排出口特别简单的打开，因为这在实现中间容器设置在浇注室内表面上方时自动进行。由此可避免用于打开中间容器排出口的复杂控制机构。从而根据本发明的设备可总体上更简单地构造。

另外，可这样构造根据本发明的设备，即设置弹性元件、尤其是弹簧，其力朝阀体的第一位置的方向作用于阀体。因此该弹性元件将阀体压入其第一位置中，在该位置中排出口通过阀体封闭。尤其是当接触突出部未接触浇注室的内表面时，该弹性元件引起排出口的自动关闭。这在中间容器在熔体注入浇注室后再次移出浇注室时尤为有利。这种弹性元件因此可特别简单且有利地实现排出口通过阀体自动关闭。不需要附加的致动器、如马达。因此可进一步简化根据本发明的设备的结构。

在根据本发明的设备的另一种扩展方案中还可规定，所述阀体至少区段地构造成塞状、盘状或凹腔状、尤其是欧米伽状。特别优选在此可规定，阀体的造型设置在阀体的可使熔体流入浇注室中的端部上。当然也可规定，为了接触排出口表面可设置在阀体上的密封面可与这些不同实施方式相关联或者说与这些实施方式匹配。这些不同实施方式在此具有不同优点。阀体的塞状设计允许熔体尤其是层状地流入浇注室中。因此可避免熔体中扰动的涡流。通过阀体的盘状设计，熔体可同心地流入浇注室中。熔体均匀地分布在浇注室中，从而可避免例如在熔体点状碰撞时出现的对浇注室的负荷。通过阀体的凹腔状设计例如可避免熔体在浇注室中的晃荡，这种晃荡可对浇注室造成高局部负荷。通过欧米伽状设计(即凹腔如希腊字母欧米伽成型)尤其是可为熔体在流出中间容器时赋予优选方向，该优选方案通过欧米伽的开口规定。尤其是长形浇注室的填充可通过这种至少部分定向的熔体束改善。

也可这样扩展根据本发明的设备，即：在排出口上设置阀座环，并且阀体具有用于接触阀座环的接触锥体、尤其是角度约为5°的接触锥体。优选在此阀座环和/或接触锥体朝向阀体的第一位置的方向逐渐变细。在此尤其是也可规定，阀座环和接触锥体相互协调一致。由此可实现对排出口的特别好的密封。

在一种扩展方案中也可这样构造根据本发明的设备，使得阀体可线性移动地支承在支承装置中。这种用于线性支承的支承装置在此实现阀体在中间容器内特别简单的可动固定。尤其是在接触突出部和浇注室内表面接触时可通过这种支承装置特别简单地提供阀体的线性移动。在一种扩展方案中还可规定，通过相应的螺旋状凹槽和构造用于嵌入凹槽的销，可为线性运动叠加几度、优选约15°或更少度数的转动运动。在此凹槽可设置在阀体上并且销可设置在支承装置上，或者反过来。由此可进一步改善排出口通过阀体的密封。

根据本发明的设备的一种特别优选的实施方式还可规定，中间容器固定设置在浇注槽上，中间容器可通过浇注槽进行填充并且可与浇注槽一起转动以便设置在浇注室的内表面上方。通过这种浇注槽可特别简单地填充中间容器的内部容积。在根据本发明的设备的该实施方式中，中间容器在浇注室内表面上方的设置也可特别简单地进行。由中间容器和浇注槽构成的系统的转动在此例如可通过简单的、具有凸轮的轴实现。尤其是优选也可想到，耦合中间容器或浇注槽的运动与浇注活塞在浇注室内的运动，在此活塞设置用于在本来的压铸过程中将熔体射入本来的铸模中。由此可特别简单地避免可设置在浇注室内的中间容器与在浇注室内运动的活塞的碰撞。

优选也可这样扩展根据本发明的设备，即：中间容器和/或浇注槽构造成封闭的。通过这种封闭设计例如可防止熔体在内部容积或浇注槽内的热量损失，由此可总体上节约能源。此外这种覆盖物也可用于保护例如传感器，其设置用于测量在内部容积内部的液位高度。

此外，在根据本发明的设备的一种扩展方案中可规定，中间容器和/或浇注槽至少部分地可被保护气体、尤其是氩气填充或至少部分地被保护气体、尤其是氩气填充。通过这种保护气体尤其是可防止熔体与氧气、尤其是空气中的氧气进行反应。由此尤其是可避免熔体表面上氧化层的形成，从而可总体上改善熔体的纯度并且因此提高由熔体制成的构件的质量。

此外，在根据本发明的设备中可规定，中间容器具有用于限制熔体在内部容积中的液位的溢流口。熔体在中间容器内部容积中的液位当然可通过适合的传感器、如激光传感器和/或超声波传感器和/或用于涡流法的传感器来监测，以确保熔体在内部容积中的填充量相同。但在传感器故障和/或没有这种传感器时，仍可通过溢流口来确保在内部容积中不超过一定的熔体填充量。当内部容积填充了过多熔体时，熔体可通过溢流口流出内部容积。当然在此可规定，流出的熔体在中间容器之外被收集并且重新使用。因此，通过这种溢流口也可在没有传感器或传感器故障的情况下确保熔体在中间容器的内部容积中的始终相同和/或定义的填充量。

根据本发明的第二方面，所述任务通过一种用于借助尤其是具有根据本发明第一方面特征的设备向浇注室中注入熔体以进行压铸的方法来解决。根据本发明的方法的特征在于下述步骤：

a)将熔体注入设备的中间容器内部容积中；

b)将中间容器设置在浇注室的内表面上方；

c)通过中间容器的封闭体打开中间容器的排出口以便将熔体注入浇注室中；

d)将熔体注入浇注室中；

e)通过封闭体封闭排出口；

f)使中间容器远离内表面移动。

在根据本发明的方法中特别优选可规定，该方法通过使用根据本发明第一方面的设备来实施。根据本发明第一方面构造的根据本发明的设备的所有优点因此当然也适用于通过使用这种设备实施的根据本发明的方法。

在根据本发明的方法的步骤a)中，将熔体注入中间容器的内部容积中。在此当然尤其是可规定，采取措施来确保熔体在中间容器内部容积中始终相同的填充量。在根据本发明的方法的步骤b)中，中间容器设置在浇注室的内表面上方。在此中间容器这样设置在内表面上方，使得出口间隙、即在中间容器排出口和浇注室内表面之间的距离很小。出口间隙在此优选小于排出口直径的约10％至约200％和/或小于约15cm、优选小于5cm、特别优选小于约1cm。在根据本发明的方法的步骤c)中，通过中间容器的封闭体打开中间容器的排出口，以便允许将熔体注入浇注室中。这在根据本发明的方法的步骤d)中进行。在此在步骤d)中尤其是优选被动地纯粹通过作用于熔体的重力作用向浇注室注入熔体。在此中间容器优选在步骤d)的整个注入过程中保持在其位于浇注室内表面上方的位置中。由此熔体可至少暂时在浇注室中的熔体液位下方注入，因此可避免扬起在浇注室中熔体表面上可能存在的氧化层。在熔体向浇注室中的注入结束后，在步骤e)中通过移动封闭体关闭排出口，并且随后在步骤f)中使中间容器远离浇注室的内表面移动、尤其是完全移出浇注室。当然可想到，不仅在步骤b)和c)中而且在步骤e)和f)中至少暂时同时进行中间容器的移动和排出口的打开或关闭。因此，借助根据本发明的方法在移动时尤其是可通过熔体在排出口和浇注室内表面之间的小的下落高度避免尤其是因侵蚀引起的内表面损伤。通过使用中间容器也可确保用于浇注室的、始终相同的熔体填充量。因此总体上可简化、加速并降低用熔体填充浇注室的成本。

此外，在根据本发明的方法中可规定，在步骤a)中优选通过激光测量法和/或超声波测量法和/或涡流法监测熔体在内部容积中的液位，以便确定在内部容积中的熔体填充量，尤其是在确定填充量时考虑在内部容积中的沉积。当然在此构造用于实施根据本发明的方法的设备可具有为此所需的传感器、如激光传感器和/或超声波传感器和/或用于涡流法的传感器，并且具有对于分析所需的分析装置。通过监测熔体在内部容积中的液位、尤其是通过附加考虑内部容积中的沉积，可特别简单地实现熔体在内部容积中和因此浇注室中的始终相同的填充量。由此可特别简单并且尤其是可再现地实现以正好准确的熔体填充量特别有效地填充浇注室。

也可这样扩展根据本发明的方法，即加热中间容器、尤其是内部容积、和/或浇注槽，和/或在步骤a)之前净化中间容器、尤其是内部容积。通过加热中间容器、尤其是内部容积可避免熔体沉积在内部容积中，因为通过加热熔体可始终保持液态。可能存在的沉积可通过净化被清除出中间容器、尤其是内部容积、和/或浇注槽。因此两种措施可实现无沉积的内部容积，从而可特别简单地确保熔体在内部容积中的始终相同的填充量。

附图说明

本发明的其它优点、特征和细节由下述参考附图对本发明实施例的说明详细给出。在此在权利要求和说明书中提到的特征分别可单独或以任意组合地对本发明而言是重要的。具有相同功能和作用方式的元件在附图中设有相同的附图标记。附图如下：

图1、2、3示出在实施根据本发明的方法时根据本发明的设备的第一种实施方式；

图4、5、6示出在实施根据本发明的方法时根据本发明的设备的第二种实施方式；

图7示出根据本发明的设备的阀体的不同实施方式。

具体实施方式

图1、图2和图3示出在根据本发明的方法的各个阶段中根据本发明的设备10的第一种实施方式。因此下面一起说明图1、图2和图3，在此在适当和必要之处引用各图。根据本发明的设备10构造用于向浇注室50中注入熔体60。为此根据本发明的设备10包括中间容器20。所述中间容器20具有内部容积26，该内部容积可被熔体60填充。通过封闭体27封闭在中间容器20的下端部上的排出口21，所述封闭体在当前实施方式中构造为阀体30并且在图1和图2中位于其第一位置33中。尤其是，阀体30具有接触锥体32，该接触锥体匹配排出口21的阀座环22。由此可实现对中间容器20的内部容积26特别好的密封，从而熔体60可在排出口21封闭时可靠地保留在内部容积26中。在此例如通过激光和/或超声波测量和/或涡流法可监测熔体60在内部容积26中的液位61，以确保熔体60在内部容积26中的始终相同的填充量。

中间容器20在此构造成漏斗形的、即尤其是锥形的，由此在中间容器20设置在浇注室50的内表面51上方时，即在中间容器20通过注入口52至少区段地插入浇注室50内部时，可简化中间容器20向浇注室50中的插入并且例如也可实现中间容器20在注入口中的自动对中。图2示出根据本发明的设备10，其中，中间容器20处于根据本发明的方法的步骤b)中，即在将中间容器20设置在浇注室50的内表面51上方时。尤其是示出了阀体30具有接触突出部31，该接触突出部构造用于接触浇注室50的内表面51。在中间容器20进一步下降到浇注室50中时，接触突出部31防止阀体30随着中间容器20的其余部分继续下降。阀体30相对于中间容器20被压向上方。由此排出口21自动释放并且因此打开。随后熔体60可从同样构造为漏斗形的内部容积26流入浇注室50中。由于中间容器20可设置在浇注室50的内表面51上方，熔体60从中间容器20的排出口21到浇注室50的内表面51的下落高度很小、尤其是优选小于约1cm。由此可避免对内表面51的侵蚀，这种侵蚀可通过熔体60以高速碰撞内表面51产生。图3示出根据本发明的设备10，其完全设置在其于浇注室50内表面51上方的最终位置中。通过接触突出部31的接触，阀体30被顶回中间容器20的内部容积26中。排出口21打开并且熔体60已经从中间容器20流入浇注室50中。在中间容器20向上运动并且因此移出浇注室50时，阀体30例如仅通过重力作用从其在图3中所示的第二位置34返回到其第一位置33(参见图1、图2)中。在中间容器20移出浇注室50后，活塞(未示出)可将处于浇注室50中的熔体60射入铸模(未示出)中，以便完成压铸过程。在射入熔体60时和/或在压铸过程进一步进行时，已经可重新向中间容器20的内部容积26中注入熔体60，由此尤其是也可实现压铸过程的高生产节拍。因此，总的来说，根据本发明的设备10一方面可通过监测熔体60在内部容积26内的填充量来确保浇注室50被熔体60始终相同地填充并且另一方面也可通过熔体60在排出口21和内表面51之间的较小下落高度避免浇注室50损伤。从而总体上可在实施压铸过程时节约成本和时间。

在图4、图5和图6中示出根据本发明的设备10的另一种可能的实施方式，尤其是分别在图1和图4、图2和图5以及图3和图6中示出根据本发明的方法的同一过程时间点。所有关于图1、图2和图3所描述的根据本发明的设备的实施方式的优点因此也类似地适用于在图4、图5和图6中所描述的根据本发明的设备的实施方式。因此下面尤其是说明两种实施方式的区别。例如在图4、图5、图6中所示的根据本发明的设备的实施方式具有浇注槽24，该浇注槽与中间容器20固定连接。因此，为了将中间容器20设置在浇注室50的内表面51上方，只需简单地一同转动中间容器20和浇注槽24。这种转动在此例如可通过具有凸轮的轴实现，该轴作用于浇注槽24(未示出)。此外，中间容器20设有盖28。通过该盖28可减小或甚至完全避免熔体60例如通过热辐射引起的能量损失。由此例如可确保在中间容器20的内部容积26中的熔体60在整个实施根据本发明的方法期间始终保持液态。在盖28中还设有传感器11，该传感器构造用于监测熔体60在中间容器20的内部容积26中的液位61。由此可确保在每次实施根据本发明的方法时在内部容积26中存在始终相同量的熔体60。此外，所示中间容器20具有溢流口25。在传感器11故障的情况下，当液位61超过溢流口25的高度时，熔体60可通过该溢流口流出中间容器20。因此在此情况下也可确保熔体60在内部容积26中始终相同的填充量。从而能够可靠避免以过多的熔体60过度填充浇注室50。在图4、图5和图6中也示出支承装置23，在该支承装置中阀体30可线性移动地支承。通过弹性元件40、尤其是弹簧41，阀体30被压向其第一位置33的方向。由此可确保排出口21通过接触锥体32与阀座环22的接触而可靠封闭。只有通过接触突出部31与浇注室50的内表面51的接触，阀体30才克服弹簧41的力被压向内部容积26的内部并且由此打开排出口21，参见图6。在接下来中间容器20移出浇注室50时，阀体30通过弹簧41自动返回其第一位置33中，在该第一位置中排出口21被阀体30封闭。

图7示出根据本发明的设备10的封闭体27的三种不同实施方式。封闭体27在此分别构造为阀体30。在阀体30的端部上分别设有一个接触突出部31，该接触突出部构造用于接触浇注室50的内表面51(未示出)。阀体30也分别具有一个接触锥体32，该接触锥体构造用于接触在中间容器20中的排出口21的阀座环22(未示出)并且也与之相匹配。由此可实现对排出口21(未示出)的特别密封的封闭。三种示出的阀体30的形状互不相同，由此相应改变熔体60从根据本发明的设备10中流出的流出特性。因此，左侧阀体30构造成塞状。由此可实现熔体60尤其是层状地从排出口21流出。中间阀体在其下端部上构造成盘状。由于盘状成形部设置在接触锥体和接触突出部之间，因此当阀体30设置在根据本发明的设备10中时该盘状成形部位于内部容积26之外。当熔体60从内部容积26流出时，熔体碰撞到盘状成型部上并且因此径向且因而同心地流入浇注室50(未示出)。由此尤其是可避免熔体60点状碰撞到浇注室50的内表面51上。右侧阀体30在其下端部上具有凹腔状成形部。该凹腔状成形部在根据本发明的设备10的组装状态中也设置在内部容积26之外。通过在阀体30端部上的这种凹腔，尤其是可在熔体60注入浇注室50中时防止熔体60晃荡。在此优选可规定凹腔构造成欧米伽状。“欧米伽状”在此意味着凹腔朝向一侧开口。熔体60因此在注入浇注室50时优选朝向凹腔开口方向流出，因此可在填充浇注室50时实现一种优选方向。这在长形的浇注室50的情况下尤为有利。

附图标记列表

10设备

11传感器

20中间容器

21排出口

22阀座环

23支承装置

24浇注槽

25溢流口

26内部容积

27封闭体

28盖

30阀体

31接触突出部

32接触锥体

33第一位置

34第二位置

40弹性元件

41弹簧

50浇注室

51内表面

52注入口

60熔体

61熔体的液位