Mo‑Se‑Ta+TiAlTaN软硬复合涂层刀具及其制备方法与流程

文档序号:14003645阅读:237来源:国知局

本发明属于机械切削刀具制造领域,尤其涉及mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具及其制备方法。



背景技术:

tin涂层作为一种硬质涂层,已广泛应用于切削刀具、刃具及各种模具表面作为耐磨和耐腐蚀层。然而,作为刀具涂层,切削过程中,tin涂层表现出了抗氧化温度低,热硬度低等缺点。为提高tin涂层硬度和热稳定性等,进一步研制出tisin、ticrn及tialn等多种硬涂层。然而,作为刀具涂层,切削过程中,硬涂层刀具与工件摩擦系数较高,切削力大,导致切削温度较高,刀具寿命下降,加工工件表面质量受影响。为降低摩擦系数,减小刀具磨损,开发研制出一系列软涂层刀具,但软涂层硬度较低,易于磨损。软硬复合涂层刀具既硬涂层的高硬度,又具有软涂层的自润滑功效,使涂层刀具寿命得到了较大改善。ta元素作为一种过渡金属元素,具有良好的耐腐蚀性和抗氧化能力([1]pfeilerm.,etal.journalofvacuumscience&technologya:vacuum,surfaces,andfilms,2009,27(3):554-560.[2]rachbauerr.,etal.surfaceandcoatingstechnology,2012,211:98-103.)。因此,ta元素的添加不仅能够提高软、硬涂层的热稳定性、抗氧化能力和耐腐蚀能力,同时能够提高软涂层的硬度。

文献(khetanv.,etal.acsappliedmaterials&interfaces,2014,6(17):15403-15411.)报道了一种altitan硬涂层,该涂层与altin涂层相比表现出较好的抗氧化和热稳定性能,非常适合干加工应用场合。中国专利“申请号:201410263737.2”报道了tisin-ws2/zr-ws2软硬复合涂层刀具,该刀具能够降低摩擦系数,减小刀具磨损。中国专利cn200910256536.9报道了一种mos2/zrn软硬复合涂层刀具,该刀具既具有较低的摩擦系数,又具有较高的硬度,使涂层刀具的性能有了很大提高。中国专利cn201610819057.3报道了一种w-se-zr/zrsin软硬复合涂层刀具,该刀具既具有润滑性能,又具有较高硬度和耐磨性能。以上报道的几种软硬复合涂层刀具热稳定性、抗氧化及耐腐蚀性能等有待于进一步提高。目前国内外未见mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具的报道。



技术实现要素:

发明目的:本发明提供了一种mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具及其制备方法,该涂层刀具提高了现有技术中软硬复合涂层刀具热稳定性、抗氧化及耐腐蚀性能;该制备方法简单、易操作,条件温和、易实现。

技术方案:本发明的mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具,包括刀具基体材料,基体材料为高速钢或硬质合金,由刀具基体到表面涂层依次为ti过渡层、tin过渡层、tialtan硬涂层、zr过渡层和mo-se-ta软涂层。

上述mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具的制备方法,采用多弧离子镀+中频磁控溅射方式,包括以下步骤:

(1)前处理:将刀具基体材料研磨抛光至镜面,依次放入酒精和丙酮中超声清洗各20-30min,去除表面油渍等污染物,采用真空干燥箱充分干燥后迅速放入镀膜机真空室,真空室本底真空为7.0×10-3pa,加热至200-250℃,保温30-40min。

(2)离子清洗:通入工作气体ar2,其压力为0.5-1.5pa,开启偏压电源,电压700-900v,占空比0.2,辉光放电清洗20-30min;偏压降低至300-600v,开启离子源离子清洗20-30min,开启电弧源ti靶,偏压500-600v,靶电流40-70a,离子轰击ti靶1-2min。

(3)沉积ti过渡层:调整ar2气压至0.4-0.6pa,偏压降低至100-300v,电弧镀沉积2-5min。

(4)沉积tin过渡层:调整工作气压为0.5-0.6pa,偏压80-150v,ti靶电流90-110a;开启n2,调整n2流量为150-300sccm,沉积温度为220-260℃,沉积2-10min。

(5)沉积tialtan硬涂层:开启中频al靶电弧电源,电流调至60-90a,开启ta靶电源,电流调制40-60a,电弧镀+中频磁控溅射沉积40-60min。

(6)沉积zr过渡层:关闭ti靶、al靶、ta靶、n2源,调整ar2气压至0.4-0.6pa,开启zr靶,电流调至40-70a,电弧镀沉积3-5min。

(7)沉积mo-se-ta软涂层:关闭zr靶,偏压调至100-200v,开启mose2靶和ta靶,mose2靶电流调至2-4a,ta靶调至20-40a,沉积80-120min。

(8)后处理:关闭mose2靶和ta靶,关闭偏压电源及气体源,保温30-60min,涂层结束,得到所述mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具。

有益效果:1、本发明的涂层刀具综合了硬涂层和软涂层的优点,既具有较高的硬度,又具有良好的润滑性能和低的摩擦系数,同时具有良好的热稳定性、抗氧化性、耐腐蚀性和抗磨损能力;2、可广泛应用于干切削及难加工材料等切削温度较高的切削加工,具有广阔的应用前景;3、制备方法简单、易操作;4、条件温和、易实现;5、刀具使用寿命长。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

具体实施方式

参见图1,本发明一实施例所述的mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具,包括刀具基体材料1,所述基体材料1为高速钢或硬质合金,所述基体材料1表面从内到外依次涂有ti过渡层2、tin过渡层3、tialtan硬涂层4、zr过渡层5和mo-se-ta软涂层6。

实施例1

上述mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具及其制备方法包括以下步骤:

(1)前处理:将刀具基体材料高速钢研磨抛光至镜面,依次放入酒精和丙酮中超声清洗各20min,去除表面油渍等污染物,采用真空干燥箱充分干燥后迅速放入镀膜机真空室,真空室本底真空为7.0×10-3pa,加热至220℃,保温30min;

(2)离子清洗:通入工作气体ar2,其压力为0.8pa,开启偏压电源,电压750v,占空比0.2,辉光放电清洗20min;偏压降低至400v,开启离子源离子清洗20min,开启电弧源ti靶,偏压500v,靶电流50a,离子轰击ti靶2min;

(3)沉积ti过渡层:调整ar2气压至0.5pa,偏压降低至150v,电弧镀沉积2min;

(4)沉积tin过渡层:调整工作气压为0.5pa,偏压100v,ti靶电流90a;开启n2,调整n2流量为180sccm,沉积温度为230℃,沉积5min;

(5)沉积tialtan应涂层:开启中频al靶电弧电源,电流调至70a,开启ta靶电源,电流调制40a,电弧镀+中频磁控溅射沉积50min;

(6)沉积zr过渡层:关闭ti靶、al靶、ta靶、n2源,调整ar2气压至0.5pa,开启zr靶,电流调至50a,电弧镀沉积3min;

(7)沉积mo-se-ta软涂层:关闭zr靶,偏压调至150v,开启mose2靶和ta靶,mose2靶电流调至2a,ta靶调至25a,沉积90min;

(8)后处理:关闭mose2靶和ta靶,关闭偏压电源及气体源,保温40min,涂层结束,得到以高速钢为基体材料的mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具。

实施例2

上述mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具及其制备方法包括以下步骤:

(1)前处理:将刀具基体材料硬质合金研磨抛光至镜面,依次放入酒精和丙酮中超声清洗各30min,去除表面油渍等污染物,采用真空干燥箱充分干燥后迅速放入镀膜机真空室,真空室本底真空为7.0×10-3pa,加热至230℃,保温40min;

(2)离子清洗:通入工作气体ar2,其压力为1.2pa,开启偏压电源,电压900v,占空比0.2,辉光放电清洗30min;偏压降低至500v,开启离子源离子清洗30min,开启电弧源ti靶,偏压580v,靶电流65a,离子轰击ti靶2min;

(3)沉积ti过渡层:调整ar2气压至0.6pa,偏压降低至200v,电弧镀沉积4min;

(4)沉积tin过渡层:调整工作气压为0.6pa,偏压120v,ti靶电流100a;开启n2,调整n2流量为250sccm,沉积温度为250℃,沉积8min;

(5)沉积tialtan硬涂层:开启中频al靶电弧电源,电流调至80a,开启ta靶电源,电流调制60a,电弧镀+中频磁控溅射沉积55min;

(6)沉积zr过渡层:关闭ti靶、al靶、ta靶、n2源,调整ar2气压至0.4-0.6pa,开启zr靶,电流调至65a,电弧镀沉积4min;

(7)沉积mo-se-ta软涂层:关闭zr靶,偏压调至180v,开启mose2靶和ta靶,mose2靶电流调至4a,ta靶调至35a,沉积120min;

(8)后处理:关闭mose2靶和ta靶,关闭偏压电源及气体源,保温50min,涂层结束,得到以硬质合金为基体材料的mo-se-ta+tialtan软硬复合涂层刀具。

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