本实用新型是关于一种冷却装置,尤指一种载具冷却装置及具有载具冷却装置的移动滚轮台。
背景技术:
现有的真空镀膜是一种通过物理方法产生薄膜材料的技术,最先使用于生产光学镜片,后延伸至其他功能的薄膜,如机械刀具镀膜以改变加工硬度等,现有的真空镀膜程序在工件经过表面处理或镀膜后,需经过一冷却装置,将载具或治具进行冷却,使其在制程中产生吸热的作用,以降低制程中对工件产生的热量,确保工件在可容许的温度下进行。
现有的载具冷却装置如中国台湾专利号TW I531671号发明“具有载盘冷却功能的镀膜系统”,前述的载盘冷却功能是通过相变化物质的潜热转换,而该相变化的物质为冷媒,然而,冷媒的冷却温度并不均匀,且冷媒在降温过程中,冷媒中各区域的温度并无法受到监控与调整,因此,现有的载具冷却装置诚有改良的必要。
技术实现要素:
为解决现有的载具冷却装置,利用冷媒做为相变化物质,导致载盘冷却温度不均的不足,本实用新型的主要目的在于提供一种载具冷却装置及具有载具冷却装置的移动滚轮台,本实用新型在致冷板以及散热板之间夹设有多个致冷晶片,通过多个致冷晶片的温度控制,使载具冷却的降温过程能够维持均匀降温。
本实用新型解决先前技术问题所提出的载具冷却装置,其包括:
一散热板;
多个致冷晶片,该多个致冷晶片固接于该散热板的顶面;以及
一致冷板,该致冷板固接于该多个致冷晶片的顶面。
前述的载具冷却装置,其中该多个致冷晶片纵横间隔的设置于该散热板顶面。
前述的载具冷却装置,其中致冷晶片的顶面凹设有四个螺孔,该致冷板通 过锁固的方式固接于该多个致冷晶片的顶面。
本实用新型解决先前技术问题所提出的具有载具冷却装置的移动滚轮台,其包括:
一基座;
多个滚轮,该多个滚轮可滚动的设置于该基座的中段处;
一载具冷却装置,该载具冷却装置设置于该多个滚轮的下方,该载具冷却装置包括一散热板、多个固接于该散热板的顶面的致冷晶片以及固接于该多个致冷晶片顶面的致冷板;以及
两升降装置,该两升降装置分别各接于该基座的前端与后端。
本实用新型的技术手段可获得的功效增进为:本实用新型中该散热板与该致冷板中间夹设有均匀分布的致冷晶片,该多个致冷晶片的温度能够有效控制,相较于现有通过冷媒相变化的方式让该载具降温,因冷媒的各区域降温幅度不固定,而容易有工件温度不均匀的现象,本实用新型通过致冷晶片的降温设计,能够使载具内的工件均匀降温。
附图说明
图1为本实用新型较佳实施例的外观立体图。
图2为本实用新型较佳实施例的外观立体分解图。
图3为本实用新型较佳实施例的剖面侧视图。
图4为本实用新型较佳实施例的操作侧视示意图。
主要组件符号说明:
10散热板 20致冷晶片
21螺孔 30致冷板
具体实施方式
以下配合图式及本实用新型的较佳实施例,进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型目的所采取的技术手段。
本实用新型所提供的载具冷却装置的较佳实施例如图1至图3所示,其包括一散热板10、多个致冷晶片20以及一致冷板30,其中:
该散热板10为一水平设置的金属板体,该多个致冷晶片20纵横间隔的设置于该散热板10顶面,较佳的是,各致冷晶片20的顶面凹设有四个螺孔21,各致冷晶片20为市面上常见的晶片,此处不再赘述。
该致冷板30固接于该多个致冷晶片20的顶面,较佳的是,该致冷板30通过锁固的方式固接于该多个致冷晶片20的顶面。
本实用新型所提供的具有载具冷却装置的移动滚轮台的较佳实施例如图4所示,其包括一基座41、多个滚轮42、一载具冷却装置以及两升降装置43,其中:
该基座41为一矩形的框架,该多个滚轮42可滚动的设置于该基座41的中段处,使得载具冷却装置设置于该多个滚轮42的下方,而该两升降装置43分别各接于该基座41的前端与后端,较佳的是,各升降装置43为气压缸。
如图4所示,本实用新型操作使用时,即于工件完成镀膜程序而将进行冷却程序时,将该载具冷却装置设置于一移动滚轮台40上,而一载具44可横向滚动的设置于该多个滚轮42上,则工件完成镀膜程序后,移动放置于该载具44内,该两升降装置43将本实用新型的致冷板30抬升至与该载具44接触,而能使得该载具44内的工件降温,其中,因该散热板10与该致冷板30中间夹设有均匀分布的致冷晶片20,该多个致冷晶片20的温度能够有效控制,相较于现有通过冷媒相变化的方式使该载具44降温,因冷媒的各区域降温幅度不固定,而容易有工件温度不均匀的现象,本实用新型通过致冷晶片20的降温设计,能够让载具44内的工件均匀降温。
以上所述仅是本实用新型的优选实施例而已,并非对本实用新型做任何形式上的限制,虽然本实用新型已以优选实施例揭露如上,然而并非用以限定本实用新型,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本实用新型技术方案的范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。