技术总结
本实用新型公开一种流体抛光机，其包括：上梁架与下梁架上均设有研磨抛光机构，研磨抛光机构包括磨料缸筒和用以推动磨料缸筒内磨料上、下往复运动的研磨抛光活塞述研磨抛光活塞在驱动装置内部，且伸入磨料缸筒内推动磨料运动，上驱动装置和上磨料缸筒通过第一法兰连接；升降机构，上梁架上具有驱动机构；工件夹持在上梁架和下梁架的两个磨料缸筒之间，包括：设于上磨料缸筒的第一测距仪，第一测距仪测量上研磨抛光活塞的上表面到第一测距仪的距离或速度；本实用新型利用两个相对的磨料缸筒使磨料在这个通道中来回挤动；磨料均匀而渐进地对通道表面或边角进行研磨，产生抛光、倒角作用，可以通达零件复杂而难以进入的部位，使抛光表面均匀、完整。
技术研发人员：蒙敏;陈利胜
受保护的技术使用者：昆山欣峰机械有限公司
技术研发日：2017.12.29
技术公布日：2018.09.21