本实用新型涉及瓷砖磨削领域，特别是一种高平整度的非对称排屑磨头结构。
背景技术：
现有的瓷砖磨抛磨头具有截面呈圆弧形凸起的磨削面，该磨削面如图1所示，是由多个小磨块a1整齐阵列于柔性垫上所组成，小磨块a1之间留有多条成一直线的排屑槽a2。在实际生产的过程中，磨头会沿着与排屑槽a2相垂直方向摆动，而且，由于圆弧形凸起的磨削面与瓷砖为线接触方式，所以在磨头摆动过程中总会出现排屑槽a2正对瓷砖的时刻，即磨头有可能完全脱离与瓷砖的接触。而下一刻磨头又会重新与瓷砖接触并造成冲击，有可能导致瓷砖表面破损或是磨抛程度与周边不一致等不良后果。
技术实现要素：
本实用新型提供一种高平整度的非对称排屑磨头结构，其磨削面由大小不一的磨块组成，从而使得磨头的磨削面能够始终与瓷砖接触，避免出现冲击。
一种高平整度的非对称排屑磨头结构，包括多块磨块，以及位于相邻两块磨块之间留空所形成的排屑槽，所述排屑槽包括主排屑槽和次排屑槽，所述主排屑槽与磨头工作时摆动的方向一致，各条次排屑槽分布于主排屑槽两侧，且关于主排屑槽互不对称。
进一步，所述磨块的投影形状为矩形或正方形，所述条次排屑槽垂直于主排屑槽。
进一步，磨块的投影形状为梯形和平行四边形，位于主排屑槽同一侧的次排屑槽相互平行；又或者，各次排屑槽相互平行。
本实用新型公开的一种高平整度的非对称排屑磨头结构，所述的高平整度是指由其加工的瓷砖表面不会出现因磨抛而引起的表面破损或是磨抛程度与周边不一致等问题。其排屑槽分为主排屑槽和次排屑槽，各条次排屑槽分布于主排屑槽两侧，且关于主排屑槽互不对称，从而避免出现贯穿整个磨削面的次排屑槽，进而使得磨头在摆动过程中的任意时刻始终有磨块与瓷砖接触，防止造成脱离后的冲击。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单说明。显然，所描述的附图只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他设计方案和附图。
图1是现有磨头的磨削面俯视图；
图2是实施例1的磨削面俯视图；
图3是实施例2的磨削面俯视图；
图4是实施例3的磨削面俯视图。
具体实施方式
以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本实用新型的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。另外，文中所提到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本发明创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
实施例1，如图2所示，一种高平整度的非对称排屑磨头结构，包括多块磨块1，以及位于相邻两块磨块1之间留空所形成的排屑槽，所述排屑槽包括主排屑槽2和次排屑槽3，所述主排屑槽2与磨头工作时摆动的方向一致，各条次排屑槽3分布于主排屑槽2两侧，且关于主排屑槽2互不对称，所述磨块1的投影形状为矩形或正方形，所述条次排屑槽3垂直于主排屑槽2。在同等尺寸的磨头上，本技术方案增大了单个磨块的尺寸，既起到增大接触面积的效果,并且改善砖面加工后平整度的作用，又能减少排屑槽的数量。同时，分别位于主排屑槽2两侧的两组次排屑槽3互不对称，所以即使其中一条次排屑槽3刚好正对瓷砖表面，但是位于主排屑槽2另一侧的对应处仍然是磨块1，使得磨头能够一直保持与瓷砖接触。
实施例2，如图3所示，其与实施例1的区别在于所述磨块1的投影形状为梯形和平行四边形，位于主排屑槽2同一侧的次排屑槽3相互平行。其实施效果与实施例1相近似，只是由于梯形或平行四边形相对于矩形会存在锐角，而磨块1的锐角会相对于其他部分消耗得更快。
实施例3，如图4所示，其与实施例2的区别在于所有次排屑槽3均相互平行。
以上对本实用新型的较佳实施方式进行了具体说明，但本发明创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可作出种种的等同变型或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。