柔性产品卷绕式真空镀膜设备的制作方法

本实用新型属于真空镀膜领域，具体地讲，特别涉及一种柔性产品卷绕式真空镀膜设备。

背景技术：

目前，常用的镀膜法有真空镀膜和化学镀膜，其中真空镀膜在高真空度的镀膜腔中实现，主要通过加热镀膜材料或用电子流轰击镀膜材料等方式，使镀膜材料融化，然后蒸发并附着在基片上形成镀膜。

在对柔性产品进行镀膜时，现在主要有以下两种方式：一种是采用在线式溅射成膜，可以连续镀膜，生产效率高，但是只能镀单层膜，层膜厚度不够精确，无法实现镀膜精度较高产品的镀膜加工，只能做大批量生产，且在生产时一旦出现镀膜缺陷，在线连续生产会造成很大的浪费；另外一种是采用锅片式单机成膜系统，将基片排布在锅底，虽然层膜厚度精确性得到提高，但是操作难度大、产能低，单件产品的镀膜面积小，并且镀膜升温易造成产品收缩，影响柔性产品的平整度，镀膜品质仍然有待提高。尤其是光学产品对镀膜品质的要求高，往往需要分多层进行镀膜，现有的在线式溅射成膜系统无法满足光学产品的镀膜要求。

因此，本领域技术人员致力于研发新的柔性产品镀膜设备，以兼顾镀膜效率和镀膜品质。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种柔性产品卷绕式真空镀膜设备，用于提高镀膜效率和镀膜品质。

本实用新型的技术方案如下：一种柔性产品卷绕式真空镀膜设备，包括真空镀膜腔，在所述真空镀膜腔内的底部布置有膜料蒸发系统和能量源，在所述真空镀膜腔内的顶部安装有卷绕式工装，所述卷绕式工装包括下端设有敞口的壳体，在所述壳体内下部安装有两个间隔布置的滚筒，两个所述滚筒之间的间隔正对壳体的敞口，在两个滚筒上套有第一传动带，在至少一个滚筒上连接有驱动装置，在所述驱动装置的作用下，所述第一传动带转动；在所述第一传动带上套有封闭筒状的待镀膜产品。

采用上述结构，将待镀膜产品呈封闭的筒状套在第一传动带上，使待镀膜产品随第一传动带一起转动，由于壳体的防护，只有正对壳体敞口位置的待镀膜产品可以被膜料覆盖进行镀膜，随着待镀膜产品的匀速转动，膜料在待镀膜产品表面均匀覆盖，并且可以分多层进行镀膜，从而显著地提高了镀膜厚度的精确性和镀膜的均匀性；并且，封闭筒状的待镀膜产品尺寸大，可以显著地提高镀膜效率。这种卷绕式真空镀膜设备可用于各种柔性产品的镀膜，通用性强、适用范围广，尤其适用于高品质要求的光学镀膜。

还包括镀膜厚度检测系统，所述镀膜厚度检测系统包括直接光学监测装置、反射式光学监测装置和多头晶控组件三者中的至少一个。通过设置镀膜厚度检测系统，对镀膜的厚度进行实时监测，从而有效地确保镀膜厚度的精确度和镀膜的均匀度，有利于显著地提高镀膜品质。

作为优选，所述镀膜厚度检测系统包括直接光学监测装置、反射式光学监测装置和多头晶控组件。这样在本设备上设置三种不同的监测装置/组件，适用于不同产品、不同精度要求的镀膜厚度检测，有利于进一步提高设备的通用性。

在所述壳体的下端布置有至少一块挡板，所述挡板正对壳体的敞口布置且位于该敞口的下方。挡板可用于调节镀膜的均匀性，有利于进一步提高镀膜品质。

在两个所述滚筒之间布置有正对壳体敞口的冷却装置。这样设置冷却装置，可以在镀膜时对被镀膜产品的另一面进行冷却，从而避免待镀膜产品温度升高造成收缩变形，有利于进一步提高镀膜品质。

所述冷却装置包括冷阱管，在所述真空镀膜腔外布置有深冷机，所述深冷机与冷阱管连通。所述冷却装置的结构简单。

所述深冷机与真空镀膜腔也连通。深冷机同时与真空镀膜腔连通，可用于吸附真空镀膜腔内的水汽，确保优质的真空镀膜氛围。

在所述真空镀膜腔内布置有加热器。设置加热器，一方面可以在真空镀膜腔抽真空时用于水汽烘烤，确保优质的真空镀膜氛围；另一方面可以提供镀膜时所需的热量。

其中一个滚筒与驱动装置传动相连，在该滚筒上还安装有第一张紧机构。设置第一张紧机构，一方面对第一传动带进行张紧，确保第一传动带与滚筒之间的摩擦，确保第一传动带的转动可控；另一方面对主动滚筒的位置进行控制，便于第一传动带的装卸。

在所述壳体内还安装有第二张紧机构，所述第二张紧机构位于两个滚筒之间间隔的上方，用于对待镀膜产品进行张紧。设置第二张紧机构，对待镀膜产品进行张紧，一方面确保待镀膜产品与第一传动带之间的摩擦，确保待镀膜产品随第一传动带转动；另一方面便于待镀膜产品的装卸。

有益效果：本实用新型通过将待镀膜产品呈封闭的筒状套在第一传动带上，使待镀膜产品随第一传动带一起转动，从而提供了一种柔性产品卷绕式真空镀膜设备，显著地提高了镀膜厚度的精确性和镀膜的均匀性，提高了镀膜品质和镀膜效率，具有通用性强、适用范围广、结构简单、生产容易等特点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为卷绕式工装的结构示意图。

图3为驱动装置的传动结构示意图之一。

图4为驱动装置的传动结构示意图之二。

附图标记：真空镀膜腔1、卷绕式工装2、滚筒201、壳体202、第一张紧机构203、冷却装置204、第二张紧机构205、第一传动带206、待镀膜产品207、深冷机3、膜料蒸发系统4、加热器5、挡板6、真空系统7、反射式光学监测装置8、能量源9、多头晶控组件10、直接光学监测装置11、电机12、第二主动带轮13、第三张紧机构14、第三传动带15、第二从动带轮16、第二传动带17。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

如图1所示，本实施例包括真空镀膜腔1，所述真空镀膜腔1的真空环境由真空系统7提供，所述真空系统7连接在真空镀膜腔1的下端，真空系统7的具体方式为本领域技术人员熟知，在此不做限定和赘述。在所述真空镀膜腔1内的底部布置有膜料蒸发系统4和能量源9，本实施例优选所述能量源9位于真空镀膜腔1内底的正中，所述膜料蒸发系统4有两个分布在能量源9的左右两边。所述膜料蒸发系统4用于蒸发膜料，所述能量源9用于清洗待镀膜产品207表面的同时将蒸发到真空镀膜腔1内的膜料打到待镀膜产品207的表面。所述膜料蒸发系统4和能量源9本领域技术人员均可以在市场上采购获得，其具体结构在此不做限定和赘述。在所述真空镀膜腔1内还布置有加热器5，本实施例优选所述加热器5在真空镀膜腔1内左右对称布置有两个。

如图1、图2、图3和图4所示，在所述真空镀膜腔1内的顶部安装有卷绕式工装2，所述卷绕式工装2包括下端设有敞口的壳体202。在所述壳体202内下部安装有两个间隔布置的滚筒201，两个所述滚筒201之间的间隔正对壳体202下端的敞口，并且两个滚筒201左右并排布置。在两个滚筒201上套有第一传动带206，在至少一个滚筒201上连接有驱动装置，在所述驱动装置的作用下，所述第一传动带206转动。本实施例优选其中一个滚筒201与驱动装置传动相连，在与驱动装置传动相连的滚筒201上还安装有第一张紧机构203，所述第一张紧机构203对该滚筒201施加向另一滚筒201远离的力，从而将第一传动带206张紧。

所述驱动装置的结构不做限定，只要能带动对应滚筒201转动即可。如图3和图4所示，本实施例优选所述驱动装置包括位于真空镀膜腔1外的电机12，所述电机12的输出轴上连接有第一主动带轮，在所述壳体202内安装有中间轴，所述中间轴的一端固定有第一从动带轮，在所述第一主动带轮与第一从动带轮之间套有第二传动带17。在所述中间轴的另一端固定有第二主动带轮13。在连接驱动装置的滚筒201的安装轴上固定有第二从动带轮16，在第二主动带轮13与第二从动带轮16之间套有第三传动带15。当电机12转动时，通过第二传动带17和第三传动带15带动对应的滚筒201转动。在所述第三传动带15内设有第三张紧机构14，用于对第三传动带15进行张紧。

如图1和图2所示，在所述第一传动带206上套有封闭筒状的待镀膜产品207。在所述壳体202的下端布置有至少一块挡板6，所述挡板6正对壳体202的敞口布置且位于该敞口的下方。所述挡板6的造型和数量不做限定，实际使用中根据镀膜厚度分布设置即可，并且挡板6的位置是可以灵活调整的。在两个所述滚筒201之间布置有正对壳体202敞口的冷却装置204。所述冷却装置204包括冷阱管，在所述真空镀膜腔1外布置有深冷机3，所述深冷机3与冷阱管连通。所述深冷机3与真空镀膜腔1也连通。

如图1和图2所示，在所述壳体202内还安装有第二张紧机构205，所述第二张紧机构205位于两个滚筒201之间间隔的上方，用于对待镀膜产品207进行张紧。所述第二张紧机构205的结构不做限定。

如图1和图2所示，本实施例还包括镀膜厚度检测系统，所述镀膜厚度检测系统包括直接光学监测装置11、反射式光学监测装置8和多头晶控组件10三者中的至少一个。本实施例优选所述镀膜厚度检测系统包括直接光学监测装置11、反射式光学监测装置8和多头晶控组件10。所述直接光学监测装置11、反射式光学监测装置8和多头晶控组件10为本领域技术人员熟知的镀膜厚度检测装置，其位置和安装结构在此不做限定和赘述。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求和说明书的范围当中。