磁力抛光装置的制作方法

本实用新型涉及抛光领域，特别是一种能够对非规则形状零件的表面进行抛光的磁力抛光装置。

背景技术：

随着CNC加工技术的快速发展，对特殊形状零件的精细加工已经受到业界的关注，例如在医疗卫生/汽车及航空航天/国防等领域中，许多核心零件均包括复杂的曲面。而复杂曲面不能由初等解析曲面组成，因此复杂形状零件的复杂曲面的高效和高质量加工成为业界的一大难题。目前通常采用传统的研磨抛光方式对其进行抛光，该方法的适用性有限，对微细部位，复杂部位的表面抛光质量没有保障。

技术实现要素：

鉴于上述状况，有必要提供一种便于对非规则形状工件的表面进行抛光的磁力抛光装置，以解决上述问题。

一种磁力抛光装置，用于对非规则形状工件的表面进行抛光，所述磁力抛光装置包括基座、抛光盒、工作磁头、辅助磁头及至少一个旋转驱动件，所述抛光盒设置于所述基座上，所述工作磁头与所述辅助磁头设置于所述基座上且其工作端分别位于所述抛光盒的两侧，至少一个所述旋转驱动件设置于所述基座上且其能够驱动所述工作磁头或所述辅助磁头转动以使所述工作磁头与所述辅助磁头之间形成的磁场发生变化，所述抛光盒用于收容抛光液，所述抛光液为磁性磨料，其可在所述工作磁头与所述辅助磁头的磁极上形成用于打磨工件的磨料刷，从而在磁场变化时移动以对放置于所述抛光盒中的工件表面进行抛光。

进一步地，所述基座包括直线运动滑台、工作架及辅助架，所述工作架及所述辅助架均设置于所述直线运动滑台上，所述工作磁头设置于所述工作架上，所述辅助磁头设置于所述辅助架上，所述抛光盒设置于所述工作架与所述辅助架之间。

进一步地，所述工作磁头包括工作基盘、多个第一永磁铁、多个第二永磁铁、多个第三永磁铁及多个镶片，所述工作基盘转动地设置于所述工作架上，多个所述第一永磁铁、多个所述第二永磁铁及多个所述第三永磁铁环绕所述工作基盘的轴线设置于所述工作基盘的表面上，所述第一永磁铁、所述第二永磁铁及所述第三永磁铁分别为N极和S极间隔设置，多个所述镶片设置于所述工作基盘的表面上且分别将相邻的N极和S极分隔。

进一步地，所述第一永磁铁、所述第二永磁铁及所述第三永磁铁按照顺序循环设于所述工作基盘表面上。

进一步地，所述第一永磁铁不设置出水孔，所述第二永磁铁设置下位置出水孔，所述第三永磁铁设置上位置出水孔。

进一步地，所述工作基盘内部设置有冷却油路。

进一步地，所述辅助磁头包括辅助基盘、多个第一永磁铁及多个镶片，所述辅助基盘转动地设置于所述辅助架上，多个所述第一永磁铁环绕所述辅助基盘的轴线设置于所述辅助基盘的表面上，所述第一永磁铁为N极和S极间隔设置，多个所述镶片设置于所述辅助基盘的表面上且分别将相邻的N极和S极分隔。

进一步地，所述直线运动滑台上设置有直线驱动件，所述直线驱动件能够驱动所述工作架与所述辅助架相互靠近。

进一步地，所述磁力抛光装置包括两个所述旋转驱动件，一个所述旋转驱动件设置于所述工作架且能够驱动所述工作磁头转动，另一个所述旋转驱动件设置于所述辅助架上且能够驱动所述辅助磁头转动。

进一步地，所述抛光盒包括收容腔及滑动设置于所述收容腔上的防护盖，所述收容腔用于收容所述抛光液。

上述磁力抛光装置通过在基座上设置相对的工作磁头与辅助磁头，并在工作磁头与辅助磁头之间设置抛光盒，抛光液收容于抛光盒中，在工作磁头和辅助磁头上之间强磁场的作用下，磁性的抛光液沿着磁力线的方向排列起来，在磁极上吸附形成磨料刷，在旋转驱动件的驱动下工作磁头与辅助磁头之间的磁场发生变化，从而使抛光盒中的抛光液在磁场的作用下移动以对放置于抛光盒中的工件表面进行抛光，可对工件的微细或复杂表面进行处理，提高了抛光的精确度及效率。

附图说明

图1是本实用新型的一个实施例中的抛光装置的立体示意图。

图2是图1所示抛光装置的部分分解立体示意图。

图3是图2所示抛光装置的工作磁头的放大立体示意图。

图4是图2所示抛光装置的辅助磁头的放大立体示意图。

主要元件符号说明

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本实用新型。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是，当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中设置的元件。当一个元件被认为是“设置在”另一个元件，它可以是直接设置在另一个元件上或者可能同时存在居中设置的元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请同时参阅图1和图2，本实用新型提供一种磁力抛光装置100。磁力抛光装置100能够对非规则形状工件的表面进行抛光。磁力抛光装置100包括基座10、抛光盒20、工作磁头30、辅助磁头40及至少一个旋转驱动件50。抛光盒20设置于基座10上。抛光盒20中收容有抛光液。工作磁头30与辅助磁头40相对的设置于基座10上且其工作端分别位于抛光盒20的两侧。至少一个旋转驱动件50设置于基座10上且其能够驱动工作磁头30或辅助磁头40转动以使工作磁头30与辅助磁头40之间形成的磁场发生变化，从而使抛光盒20中的抛光液在磁场的作用下移动以对放置于抛光盒20中的工件表面进行抛光。

基座10包括直线运动滑台11、工作架12及辅助架13。工作架12及辅助架13均设置于直线运动滑台11上且可在直线运动滑台11上直线驱动件111的驱动下相互靠近或远离。本实施例中，抛光盒20设置于工作架12上且位于工作架12与辅助架13之间。工作磁头30设置于工作架12上且工作端朝向辅助架13。辅助磁头40设置于辅助架13上且工作端朝向工作架12。

抛光盒20包括收容腔21及滑动设置于收容腔21上的防护盖22。抛光液为磁性磨料，其可在磁极上形成打磨工件的磨料刷。

如图3所示，工作磁头30包括工作基盘31、多个第一永磁铁32、多个第二永磁铁33、多个第三永磁铁34及多个镶片35。工作基盘31转动地设置于工作架12上。工作基盘31内部设置有冷却油路。多个第一永磁铁32、多个第二永磁铁33及多个第三永磁铁34环绕工作基盘31的轴线设置于工作基盘31的表面上。本实施例中，按照第一永磁铁32、第二永磁铁33、第三永磁铁34、第一永磁铁32的顺序环绕设于工作基盘31上。第一永磁铁32、第二永磁铁33及第三永磁铁34分别为N极和S极间隔设置。多个镶片35设置于工作基盘31的表面上且分别将相邻的N极和S极分隔。第一永磁铁32、第二永磁铁33及第三永磁铁34之间的区别为出水孔设置位置不同：第一永磁铁32不设置出水孔，第二永磁铁33设置下位置出水孔，第三永磁铁34设置上位置出水孔。

如图4所示，辅助磁头40包括辅助基盘41、多个第一永磁铁42及多个镶片43。辅助基盘41转动地设置于辅助架13上。多个第一永磁铁42环绕辅助基盘41的轴线设置于辅助基盘41的表面上。第一永磁铁42为N极和S极间隔设置。多个镶片43设置于辅助基盘41的表面上且分别将相邻的N极和S极分隔。

本实施例中，磁力抛光装置100包括两个旋转驱动件50。一个旋转驱动件50设置于工作架12且能够驱动工作基盘31转动，另一个旋转驱动件50设置于辅助架13上且能够驱动辅助基盘41转动。

工作磁头30和辅助磁头40上的第一永磁铁32、第二永磁铁33、第三永磁铁34与第一永磁铁42之间形成强磁场作用，使磁性的抛光液沿着磁力线的方向排列起来，在磁极上吸附形成磨料刷，将工件放入收容腔21内，磨料刷对待加工工件表面产生一定的压力，滑动防护盖22将收容腔21密封，两个旋转驱动件50分别控制工作磁头30和辅助磁头40相对转动以使工作磁头30和辅助磁头40之间形成的磁场发生变化，工作磁头30和辅助磁头40上的磁极旋转带动抛光液形成的磨料刷旋转的同时，保持一定的间隙沿工件的表面移动，从而实现对工件表面的钝化抛光加工。

磁力抛光装置100通过在基座10上设置相对的工作磁头30与辅助磁头40，并在工作磁头30与辅助磁头40之间设置抛光盒20，抛光液收容于抛光盒20中，在工作磁头30和辅助磁头40上之间强磁场的作用下，磁性的抛光液沿着磁力线的方向排列起来，在磁极上吸附形成磨料刷，在旋转驱动件50的驱动下工作磁头30与辅助磁头40之间的磁场发生变化，从而使抛光盒20中的抛光液在磁场的作用下移动以对放置于抛光盒20中的工件表面进行抛光，可对工件的微细或复杂表面进行处理，提高了抛光的精确度及效率。

另外，本领域技术人员还可在本实用新型精神内做其它变化，当然，这些依据本实用新型精神所做的变化，都应包含在本实用新型所要求保护的范围。