一种新型的液刀系统及蚀刻设备的制作方法

文档序号:17747731发布日期:2019-05-24 20:45阅读:469来源:国知局
一种新型的液刀系统及蚀刻设备的制作方法

本实用新型涉及蚀刻技术领域,尤其涉及一种新型的液刀系统及蚀刻设备。



背景技术:

在触摸屏及液晶显示屏的制作过程中,需要对玻璃基板进行蚀刻。蚀刻工艺利用蚀刻液对基板表面的金属膜层进行腐蚀,从而去掉部分金属,以便形成图案,例如走线图案,或者视区的ITO金属网格。

蚀刻工艺中喷淋式蚀刻被广泛的应用,在喷淋式蚀刻时,基板被传送装置沿水平方向传送。在基板上方,设置有多个喷嘴,喷嘴朝基板上垂直地喷淋蚀刻液。在蚀刻过程中的前端,基板进入喷淋段之前,还设置有液刀。液刀的喷口倾斜地向基板上喷出蚀刻液,使从喷嘴喷淋到基板上的蚀刻液更加均匀。

但是不可避免的,经常有蚀刻液的液滴在撞击到基板上后向还未进入蚀刻段的部分基板上飞溅。飞溅的蚀刻液液滴会造成部分基板区域在未进入蚀刻之前就已经有液滴沾染。在之后进入蚀刻时,被液滴沾染的部分再次蚀刻、实际的蚀刻时间会相对延长。由于被液滴沾染部分实际蚀刻时间与其它的基板区域不同,因此提前被液滴沾染的部分会形成明显的液滴状痕迹,造成相对大的反射率差异,视觉明显。特别是对反射率较高的金属膜层蚀刻时,这种现象会造成严重的金属异色。如果金属膜层只是用来做走线,金属异色因为不影响功能,加上走线部分不在视区内,因此不用刻意管控。但是如果金属膜层用来做视区的ITO金属网格团,就会影响到外观质量,造成产品外观不良。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种新型的液刀系统及蚀刻设备,可以改善由于飞溅的蚀刻液液滴而造成的产品金属异色外观不良。

为实现上述目的,本实用新型提供了一种新型的液刀系统,包括主液刀及副液刀;主液刀包括第一喷口,副液刀包括第二喷口;所述第一喷口与基板呈向下倾斜角度设置,第二喷口与基板呈垂直方向角度布置;在相对于基板的传送方向上,第二喷口的液体出口方向与基板的交点位于第一喷口液体出口方向与基板的交点的后方。

本实用新型通过在主液刀旁边设置副液刀,主液刀向基板喷出与基板呈向下倾斜方向的蚀刻液,副液刀向基板喷出与基板呈垂直方向角度的蚀刻液。副液刀向基板喷出的液体与基板形成液帘。在相对于基板的传送方向上,液帘的位置在主液刀喷淋的液体落在基板上的位置之后。液帘的缓冲效果会吸收主液刀喷淋的液体打在基板上而造成液滴飞溅,使液滴平缓的落下。避免了飞溅的蚀刻液液滴溅射到还未进入蚀刻段的部分基板上而造成的产品金属异色外观不良。

进一步地,所述副液刀第二喷口距离基板的距离小于主液刀第一喷口距离基板的距离。

进一步地,在相对于基板的传送方向上,副液刀位于主液刀的后方。

进一步地,所述第一喷口与基板的夹角为30-75°。

进一步地,所述副液刀第二喷口处的液体压力小于主液刀第一喷口处的液体压力。

进一步地,所述液刀系统还包括与主液刀连接的第一液体传输管道,与副液刀连接的第二液传输管道.

进一步地,所述第二液传输管道上还设置有副液刀液体压力控制装置。

进一步地,所述液刀系统还包括副液刀位置调整装置。

进一步地,所述主液刀第一喷口距离基板的距离为10-30cm,副液刀第二喷口距离基板的距离为2-5cm。

进一步地,所述主液刀第一喷口与副液刀第二喷口在水平方向的距离为1-4cm。

本实用新型还提供了一种蚀刻设备,包括基板传送装置、位于传送装置上方的喷淋装置,以及上述任一项所述的一种新型的液刀系统;所述液刀系统的主液刀和副液刀位于蚀刻设备的入口方向。

有益效果:

本实用新型通过在主液刀旁边设置副液刀,主液刀向基板喷出与基板呈向下倾斜方向的蚀刻液,副液刀向基板喷出与基板呈垂直方向角度的蚀刻液。副液刀向基板喷出的液体与基板形成液帘。在相对于基板的传送方向上,液帘的位置在主液刀喷淋的液体落在基板上的位置之后。液帘的缓冲效果会吸收主液刀喷淋的液体打在基板上而造成液滴飞溅,使液滴平缓的落下。避免了飞溅的蚀刻液液滴溅射到还未进入蚀刻段的部分基板上而造成的产品金属异色外观不良。

附图说明

图1为本实用新型实施例所述的一种显示模组的结构示意图。

附图标记:

10-主液刀、11-第一喷口、12-第一液体传输管道、20-副液刀,21-第二喷口、22-第二液体传输管道、30-基板、40-传送装置、50-第一储液箱、60-喷淋头、70-第三液体传输管道、80-第二储液箱。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

图1为本实用新型实施例附图。本实用新型实施例提供了一种新型的液刀系统,包括主液刀10及副液刀20;主液刀10包括第一喷口11,副液刀20包括第二喷口21;所述第一喷口11与基板30呈向下倾斜角度设置,第二喷口21与基板30呈垂直方向角度布置;在相对于基板30的传送方向上,副液刀20第二喷口21的液体出口方向与基板30的交点位于主液刀10第一喷口11的液体出口方向与基板30的交点的后方。

本实用新型通过在主液刀旁边设置副液刀,主液刀向基板喷出与基板呈向下倾斜方向的蚀刻液,副液刀向基板喷出与基板呈垂直方向角度的蚀刻液。副液刀向基板喷出的液体与基板形成液帘,液帘对液体形成液封。在相对于基板的传送方向上,在传送方向的前方,为了简便,称为前方。反之称为后方。液封的位置在主液刀喷淋的液体落在基板上的位置之后。液封的缓冲效果会吸收主液刀喷淋的液体打在基板上而造成液滴飞溅,使液滴平缓的落下。避免了飞溅的蚀刻液液滴溅射到还未进入蚀刻段的部分基板上而造成的产品金属异色外观不良。

为了在相对于基板30的传送方向上,第二喷口21喷射方向与基板30的交点位于第一喷口11喷射方向与基板30的交点的后方。可以有多种方案选择。从第一喷口11喷射出的液体从主液刀10喷出时呈斜线,之后呈抛物线轨迹落向基板30。副液刀20可以设置在主液刀10喷出液体的轨迹之后。因此副液刀20有可能设置在主液刀10的正下方位置处。优选的,在相对于基板30的传送方向上,副液刀20位于主液刀10的后方。这使得技术方案更可靠。更进一步地,主液刀10第一喷口11与副液刀20第二喷口21在水平方向的距离为1-4cm。

副液刀20第二喷口21距离基板30的距离小于主液刀10第一喷口11距离基板30的距离。这有利于从副液刀20流出的液体以较慢的速度流向基板30,以防止流速过快反而使液体在基板30上造成了更加严重的溅射。主液刀10第一喷口11距离基板30的距离为10-30cm,副液刀20第二喷口21距离基板30的距离为2-5cm。第一喷口11与基板30的夹角为30-75°。

因为主液刀10和副液刀20分别具有不同的功能,以及为了防止从副液刀20流出的液体流速过快造成更加严重的溅射。主液刀10和副液刀20的第一喷口11和第二喷口21分别具有不同的液体压力和流速。为了便于对主液刀10和副液刀20进行单独的控制。主液刀10和副液刀20具有不同的液体传输管道,包括与主液刀10连接的第一液体传输管道12,与副液刀20连接的第二液体传输管道22。主液刀10和副液刀20可以共用同一个第一储液箱50。假使主液刀10和副液刀20共用同一液体传输管道,如需分别控制主液刀10和副液刀20的流速控制,需要添加非常复杂的控制装置。

副液刀20第二喷口21处的液体压力小于主液刀10第一喷口处11的液体压力。喷口处的液体压力可以通过液体传输管道的粗细、管道距离、喷口出尺寸大小和形状的设计来控制。优选的,在第二液传输管道22上还设置有单独的副液刀液体压力控制装置(图中未示出),用于对副液刀20进行控制。副液刀20液体压力控制装置可以方便的调节压力,至到副液刀20在基板30上形成液封为止。另外,如果需要,在第一液传输管道12上还可以设置单独的主液刀液体压力控制装置(图中未示出),用于对主液刀10进行控制。例如,液体压力控制装置可以是泵,通过调整泵的功率对液体的压力进行控制。

为了调整副液刀20与基板30的距离,使其保持适当的距离以便在基板形成液帘。所述液刀系统还包括副液刀位置调整装置(图中未示出)。例如,位置调整装置可以是传动链条,副液刀20的联接杆与垂直的传动链条通过转轴连接,当转轴作顺时针和逆时针转动可以控制副液刀20的高度。主液刀10位置一般固定设置,如需要对主液刀10位置进行调整,也可设置位置调整装置。

本实用新型还提供了一种蚀刻设备,包括基板传送装置40、位于传送装置上方的喷淋装置,以及上述任一项所述的一种新型的液刀系统。所述液刀系统的主液刀10和副液刀20位于蚀刻设备的入口方向。喷淋装置包含第二储液箱80、第三液传输管道70、以及多个喷淋头60。蚀刻液可以是草酸(H2C2O4)等。喷淋装置所用的蚀刻液与液刀系统所用的蚀刻液相同。

主液刀10和副液刀20与基板30的距离分别小于喷淋装置与基板30的距离。在传送装置40下方,还可以设置容置槽(图中未示出),用于收集蚀刻液及被蚀刻掉的金属等。

有益效果:

本实用新型通过在主液刀旁边设置副液刀,主液刀向基板喷出与基板呈向下倾斜方向的蚀刻液,副液刀向基板喷出与基板呈垂直方向角度的蚀刻液。副液刀向基板喷出的液体与基板形成液帘。在相对于基板的传送方向上,液帘的位置在主液刀喷淋的液体落在基板上的位置之后。液帘的缓冲效果会吸收主液刀喷淋的液体打在基板上而造成液滴飞溅,使液滴平缓的落下。避免了飞溅的蚀刻液液滴溅射到还未进入蚀刻段的部分基板上而造成的产品金属异色外观不良。

应当理解的是,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,所有这些改进或变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围之内。

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