蚀刻液的处理方法与系统的制作方法

文档序号:3405718阅读:1206来源:国知局
专利名称:蚀刻液的处理方法与系统的制作方法
蚀刻液的处理方法与系统技术领域一种涉及蚀刻液的处理方法,尤其涉及从含碘化钾的金蚀刻液中回收 金与回收碘的处理方法。
背景技术
半导体及光电产业制造工艺中均利用蚀刻法(etching沐进行蚀刻制造 工艺,含有碘化钾(KI, potassium iodide)的溶液为常见的金蚀刻液(gold etchant),当金蚀刻液中的碘化钾浓度或蚀刻能力不符合制造工艺需求时, 此蚀刻液会因无法再度活化使用而被废弃,即为废弃的蚀刻液。因此废弃 的蚀刻液中含有浓度不一的金离子(gold ion),金金属(gold)为经济价值高 昂的贵金属(precious metal),具有高度的回收价值。因此废弃的蚀刻液通 常交由回收厂商进行金回收处理。当含有碘化钾的废弃金蚀刻液进行金回收后,剩余的溶液即为废水 (waste water),由于废水中含有大量碘化钾成分,对水中生物的危害性很 大,因此需要除去毒性后才可排放。目前的废水处理是另外设置处理场, 利用化学分法进行除碘或中和毒性的程序;待废水符合排放标准后予以排 放。上述的现行方法,是高成本且低效率的,无法以一贯化的程序处理含 碘化钾的金蚀刻液。发明内容基于前述公知蚀刻液的处理方法是高成本且低效率的,无法以一贯化 的程序处理含碘化钾的金蚀刻液,本案于是提出一种有效回收蚀刻液成分 的发明,可在一个系统内回收金金属与碘分子,使最终废水降低毒性。本发明的目的是针对含有碘化钾的废弃金蚀刻液进行金回收处理后,并以一个连续的系统接续的进行碘分子回收处理。本发明的蚀刻液处理方法是首先对含有金离子的碘化钾蚀刻液进行 还原反应,从而析出金金属;再使该经处理的碘化钾蚀刻液进行碘离子氧 化反应,从而析出碘分子,此方法可以有效的回收蚀刻液中的金金属与碘 分子成分。


图1蚀刻液处理方法的流程2蚀刻液处理方法的另一流程3含金的碘化钾蚀刻液处理系统流程图主要元件标记说明100金离子还原反应,可析出金金属110碱性条件下,金离子还原反应,可析出金金属200碘离子氧化反应,可析出碘分子210酸性条件下,碘离子氧化反应,可析出碘分子300第一反应槽302第二反应槽304第一通道具体实施方式
本发明所要揭示的是一种蚀刻液处理方法。请参照图1与图3:本发明的一个较佳实施例为,将待处理的碘化钾蚀刻液置于第一反应槽300中。如步骤一 100,将还原剂(例如亚硫酸钠、硫酸亚铁或联胺等)加入待处 理的碘化钾蚀刻液,则碘化钾蚀刻液中的金离子会被还原成金金属;已由第一反应槽300处理的碘化钾蚀刻液通过第一通道302被输送到第二反应 槽304,如步骤二 200,在酸性条件下(酸碱值小于pH=5,尤其是介于pH-l到pH=4之间,更尤其是介于pH=2到pH=3之间),添加碘离子氧化反应 试剂(例如硫酸与氧化剂;氧化剂可以是过硫酸铵、氯酸钠)于第二反应 槽302中,则碘化钾蚀刻液中的碘离子会被氧化成碘分子而析出。参照图2与图3,本发明的另一个较佳实施例为,将待处理的碘化钾 蚀刻液置于第一反应槽300中,将氢氧化钠加入待处理之碘化钾蚀刻液, 如步骤一 110,在碱性环境下(酸碱值大于pH=8,较好是介于pH=9到 pH=14之间,更好是介于pH=10到pH=13之间,最好是介于pH=ll到 pH=12之间),再加入双氧水至待处理之碘化钾蚀刻液,则碘化钾蚀刻液 中的金离子会被还原成金金属;已由第一反应槽300处理之碘化钾蚀刻液 通过第一通道304被输送到第二反应槽302,如步骤二 210,在酸性条件 下(酸碱值小于pH=5,尤其是介于pH=l到pH=4之间,更尤其是介于pH=2 到pH=3之间),添加碘离子氧化反应试剂(例如硫酸与氧化剂;氧化剂 可以是过硫酸铵、氯酸钠)于第二反应槽302中,则碘化钾蚀刻液中的碘 离子会被氧化成碘分子而析出。综合以上所述,本发明有效的由蚀刻液中回收金金属与碘分子,此方 法能够免除前述存在于公知技术中的问题,并且具有以下的优点 一、连 续的回收碘化钾废液中的金金属与碘分子,符合原子经济效益、创造经济 效益;二、降低蚀刻液的毒性,使对环境伤害降至最低。以上,本发明已通过实施例及其相关附图而清楚说明。然而,所属技 术领域的技术人员应当了解的是,本发明的各个实施例在此仅为例示性而 非为限制性,亦即,在不脱离本发明实质精神及范围之内,上述所述的变 化例及修正例均为本发明所涵盖。因此,本发明由权利要求加以界定。
权利要求
1. 一种蚀刻液的处理方法,其中该蚀刻液至少含有碘化钾与金离子,其特征是(1)在碱性环境下添加双氧水使蚀刻液中的金离子化合物进行还原反应,从而析出金金属;(2)接着在酸性环境下添加氧化剂于该蚀刻液中,使该蚀刻液中的碘离子进行氧化反应,析出碘分子,从而回收碘分子。
2. 根据权利要求1所述的蚀刻液处理方法,其特征是该碱性环境形成 方法为添加氢氧化钠。
3. 根据权利要求2所述的蚀刻液处理方法,其特征是该碱性环境的酸 碱值介于pH=9至pH=13之间。
4. 根据权利要求2所述的蚀刻液处理方法,其特征是该碱性环境为酸 碱值介于pH=10至pH=12之间。
5. 根据权利要求1所述的蚀刻液处理方法,其特征是该酸性环境形成 方法为添加硫酸。
6. 根据权利要求1所述的蚀刻液处理方法,其特征是该氧化剂为过硫 酸铵、氯酸钠。
7. 根据权利要求1所述的蚀刻液处理方法,其特征是该酸性环境为酸 碱值约小于pH-5。
8. 根据权利要求1所述的蚀刻液处理方法,其特征是该酸性环境为酸 碱值介于pH=l到pH=4之间。
9. 根据权利要求1所述的蚀刻液处理方法,其特征是该酸性环境为酸 碱值介于pH=2到pH=3之间。
10. —种含金之碘化钾蚀刻液处理系统,包含至少一个第一反应槽,用 以容钠该含金的碘化钾蚀刻液与金离子还原反应试剂;其特征是还包含至少一个第二反应槽以及至少一个第一通道,该含金的碘化钾 蚀刻液在该第一反应槽内进行金离子还原反应,则金离子被还原成金金属 并且析出;接着该第一反应槽内的碘化钾蚀刻液通过该第一通道输送到第二反应槽;在第二反应槽进行碘离子氧化反应,使碘分子析出。
全文摘要
本发明涉及一种蚀刻液的处理方法尤其涉及从含碘化钾的金蚀刻液中回收金与回收碘的处理方法。首先对含有金离子的碘化钾蚀刻液进行还原反应,从而析出金金属;再使该经处理的碘化钾蚀刻液进行碘离子氧化反应,从而析出碘分子,此方法可以有效的连续回收蚀刻液中的金金属与碘分子成分。
文档编号C22B7/00GK101225473SQ200710000980
公开日2008年7月23日 申请日期2007年1月17日 优先权日2007年1月17日
发明者宋宏凯, 萧世旻, 蔡嘉峰 申请人:金益鼎企业股份有限公司
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