蒸发源装置、成膜装置以及电子设备的制造装置的制作方法

本实用新型涉及一种蒸发源装置、成膜装置以及电子设备的制造装置，尤其涉及一种能够均匀性高地加热坩埚的蒸发源装置、成膜装置以及电子设备的制造装置。

背景技术：

有机EL显示器等有机电子设备经由使有机材料或金属材料等蒸镀的蒸镀工序而被制造。在蒸镀工序中使用的蒸发源装置具有一个或多个坩埚，通过加热收纳于坩埚内的蒸镀材料，使蒸镀材料的温度上升而使蒸镀材料蒸发或升华(以下简称为“蒸发”)并附着于基板的表面而进行成膜。一般而言，利用真空容器来收容蒸发源(包含蒸镀材料)并执行蒸镀作业。

一般而言，真空成膜装置具备真空容器。在真空容器的内部的上部设有基板保持单元和掩模台，在真空容器的底面设有蒸发源装置。蒸发源装置包括：用于收纳在基板上成膜的蒸镀材料的坩埚、加热器等。

作为蒸发源加热用的热源，一般使用封装加热器。封装加热器具有在管中穿过电热线的管状构造(后文简称为电热管)，通过粘贴而被固定在板上，电热管露出的面与坩埚相向配置。专利文献1公开了一种真空蒸发源，具有坩埚和由电热管构成的加热部。专利文献1的电热管以在电热管和坩埚壁面之间具有空间的方式卷绕在坩埚的周围。具体而言，加热部的电热管露出，在电热管与坩埚之间不存在其他部件。通过电热线通电发出的热加热坩埚，从而对坩埚中收纳的蒸镀材料进行加热并使之蒸发。由于电热管在固定在板上时，彼此之间存在间隙，因此导致坩埚的被加热面与作为热源的电热管之间的距离不均一，从而存在加热均匀性低的问题。

现有技术：

专利文献1：KR-10-2014-0075382

技术实现要素：

本实用新型是为了解决上述问题而作出的，其目的在于提供一种能够均匀性高地加热坩埚的蒸发源装置、成膜装置以及电子设备的制造装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：

一种蒸发源装置，包括配置在用于收容蒸镀材料的坩埚的外侧，并用于对所述坩埚进行加热的加热部，

其特征在于，

所述加热部具有热辐射面，用于向所述坩埚辐射热量，所述热辐射面的至少一部分与所述坩埚的外壁面的至少一部分相向设置，且所述热辐射面的形状和与之相向的坩埚外壁面的形状一致。

优选的是，所述加热部包括板状部件，所述热辐射面为所述板状部件的一个侧面。

优选的是，所述加热部包括热源部件，所述热源部件设置在所述板状部件的背离所述坩埚的一侧或者设置在所述板状部件的内部。

优选的是，所述热源部件包括迂回排布的线状热源。

优选的是，在所述线状热源中，在相邻部分之间配置有所述板状部件的一部分。

优选的是，所述板状部件的背离所述坩埚的一侧设有沟槽，所述线状热源设置在所述沟槽中。

优选的是，所述沟槽的深度大于或等于所述线状热源的直径。

一种蒸发源装置，包括配置在用于收容蒸镀材料的坩埚的外侧，并用于对所述坩埚进行加热的加热部，

其特征在于，

所述加热部具有板状部件和隔着所述板状部件与所述坩埚相向配置的线状热源，

所述线状热源嵌入所述板状部件。

优选的是，所述板状部件的背离所述坩埚的一侧设有沟槽，所述线状热源设置在所述沟槽中。

优选的是，所述线状热源迂回排布。

优选的是，在所述线状热源中，在相邻部分之间配置有所述板状部件的一部分。

优选的是，所述沟槽的深度大于或等于所述线状热源的直径。

优选的是，所述蒸发源装置还具有坩埚，所述坩埚的上表面设有多个用于喷出蒸镀材料的喷嘴。

优选的是，所述多个喷嘴被设置成垂直于所述坩埚的上表面。

优选的是，所述多个喷嘴被设置成至少最外侧的所述喷嘴朝向外侧倾斜。

优选的是，所述多个喷嘴被设置成越趋向中央其倾斜度越小。

优选的是，所述多个喷嘴被设置成靠向中央的所述喷嘴垂直于所述坩埚的上表面或与朝向外侧倾斜相反地朝向内侧倾斜。

优选的是，所述蒸发源装置还具有坩埚，所述坩埚的上表面设有多个用于喷出蒸镀材料的喷嘴。

优选的是，所述多个喷嘴被设置成垂直于所述坩埚的上表面。

优选的是，所述多个喷嘴被设置成至少最外侧的所述喷嘴朝向外侧倾斜。

优选的是，所述多个喷嘴被设置成越趋向中央其倾斜度越小。

优选的是，所述多个喷嘴被设置成靠向中央的所述喷嘴垂直于所述坩埚的上表面或与朝向外侧倾斜相反地朝向内侧倾斜。

优选的是，所述热辐射面的至少一部分设有黑色涂层或喷镀有黑色材料。

优选的是，所述热辐射面的至少一部分为粗糙面。

优选的是，所述热辐射面的至少一部分由高热放射率材料形成。

优选的是，所述高热放射率材料为陶瓷或不锈钢。

优选的是，所述加热部包括底部加热部和侧部加热部，分别用于对所述坩埚的底壁和侧壁进行加热。

优选的是，所述底部加热部设有贯通孔，用于支承所述坩埚的支承部件穿过所述贯通孔。

本实用新型提供一种成膜装置，包括，

腔室；和配置在所述腔室中的蒸发源装置，

其特征在于，

所述蒸发源装置为上述中任一项所述的蒸发源装置。

本实用新型提供一种电子设备的制造装置，其特征在于，具备上述的成膜装置。

技术效果

根据本实用新型，能够均匀性高地加热坩埚。

附图说明

图1为本实用新型的蒸发源装置的剖视示意图；

图2为具有本实用新型的蒸发源装置的成膜装置的剖视示意图；

图3为图2的A-A向视图；

图4为加热部的底面侧的俯视图；

图5为加热部的侧面侧的侧视图；

图6为具有本实用新型的蒸发源装置的另一实施方式的成膜装置的剖视示意图；

图7是示出有机EL显示装置的构造的图。

附图标记说明

1 成膜装置

10 真空腔室

11 闸阀

20 基板

30 蒸发源装置

31 坩埚

311 喷嘴

32 加热部

321 板状部件

322 热源部件

323 沟槽

40 蒸发源支承部件

401 坩埚支承部件

402 贯通孔

60 有机EL显示装置

70 保护层

具体实施方式

以下，参照附图说明本实用新型的优选实施方式以及实施例。但是，以下的实施方式以及实施例仅是示例性示出本实用新型的优选结构，并未将本实用新型的范围限定于这些结构。

首先，参照图1、3～5详细说明本实用新型的蒸发源装置30。

<蒸发源装置>

参照图1和图5可知，本实用新型的蒸发源装置具备用于收容蒸镀材料的坩埚31和配置在坩埚31的外侧并用于对坩埚进行加热的加热部32。在该实施方式中，加热部32包括板状部件321和热源部件 322。在本实用新型中，热源部件322为前述的电热管。板状部件321 配置在坩埚31和热源部件322之间。板状部件321的面向坩埚31的外壁面的面作为本实用新型的热辐射面，而在背离坩埚31的一侧设有沟槽323，在沟槽323中设有热源部件322。参照图5可知，沟槽 323在板状部件321的背离坩埚31的一侧迂回排布形成。相应地，设置于沟槽323中的热源部件322也为迂回排布。通过这样的设置，能够提高加热部32整体的加热的均匀性。

在本实施方式中，沟槽323的深度大于或等于热源部件322的直径。也就是说，热源部件322以嵌入板状部件321的方式设置于板状部件321。在此处，在相邻的沟槽之间(即相邻的热源部件322)之间配置有板状部件321的一部分。具体而言，在本实施方式中，迂回设置的热源部件322彼此没有接触。

为了进一步提高加热部32的热辐射率，可以对板状部件321的热辐射面进行黑色化加工，比如喷涂或喷镀黑色材料以形成黑色涂层，或者可以对板状部件321的热辐射面进行喷丸加工以将热辐射面形成粗糙面。另外，也可以使板状部件321采用高热辐射率材料，比如可以采用陶瓷或不锈钢等。需要说明的是，采用上述加工或材料的部位既可以是板状部件321的与坩埚31相向的热辐射面的全部，也可以仅是热辐射面的一部分。只要板状部件321的与坩埚31相向的热辐射面的至少一部分采取上述黑色化加工或喷丸加工或采用高热辐射率材料，就能够得到提高加热部32的热辐射率的效果。

需要说明的是，对于加热部32而言，在板状部件321的背离坩埚31的一侧加工沟槽323后，通过以嵌入沟槽323的方式形成热源部件322，能够使面向坩埚31的热辐射面的温度更加均匀。进而，通过将另一平板固定于板状部件321的设有沟槽323的一侧，能够防止热源部件322从沟槽323中脱出，并且能够降低对配置在热源部件322 的外侧的冷却部件(图中未示出)的热影响。

在上述实施方式中，坩埚31为由平板构成的框状，因此，加热部32具有与坩埚31的外壁相向的板状部件321，但在坩埚31不是由平板构成的框状的情况下，只要加热部32的热辐射面的形状和与之相向的坩埚外壁面的形状一致即可。即，确保加热部32的热辐射面和与之相向的坩埚外壁面的距离处处一致即可。另外，在上述实施方式中，加热部32的热辐射面整体与坩埚31的外壁面相向，但只要其一部分与坩埚31的外壁面的至少一部分相向设置，也能够起到提高加热部32的热辐射率的效果。

在上述的实施方式中，热源部件322以嵌入板状部件321的方式设置于板状部件321，但本实用新型并不限定于此。热源部件322也可以设置在板状部件321的背离坩埚31的一侧的表面。在这种情况下，热源部件322也以迂回排布的方式设置。

在上述实施方式中，加热部322的热辐射面处于板状部件321的侧面，但本实用新型不限定于此。如图2、3、4所示，加热部32除了侧部加热部外，还可以包括底部加热部，分别用于对坩埚31的侧壁和底壁进行加热。由图4可知，加热部32为前后左右下均具有板状部件321的盒状构件。在该情况下，底部加热部设有贯通孔402，下述的用于支承坩埚31的支承部件401穿过该贯通孔402。在图4中，虚线围起的区域表示坩埚31。如图4所示，在底部加热部中设有排成两行一行三个共计六个贯通孔402，但本实用新型不限定于此，只要能够稳定地支承坩埚31即可，对坩埚支承部件401以及贯通孔402 的数量和排布方式没有特别限定。

<成膜装置>

本实用新型的蒸发源装置30被用于成膜装置1。下面简要说明成膜装置1。图2是简要示出成膜装置1的结构的剖视图。

成膜装置1具备对进行成膜工序的空间进行定义的真空腔室10。在真空腔室10的壁部设有闸阀11，该闸阀11将设置在真空腔室10 处的开口闭塞，将真空腔室10的内部空间与外部空间分隔。真空腔室10的内部被维持为真空氛围。

在成膜装置1的真空腔室10内的上部设有被基板保持台(图中未示出)保持的基板20，在成膜装置1的真空腔室10内的下部设有收纳蒸镀材料的蒸发源装置30，在蒸发源装置30的下部以支承蒸发源装置30的方式设有蒸发源支承部件40。在蒸发源支承部件40上设有用于支承坩埚31的坩埚支承部件401。蒸发源支承部件40也可以被设置成与驱动机构(图中未示出)连结。由此，能够使蒸发源装置 30相对于真空腔室10或基板20移动。

蒸发源装置30包括用于收容蒸镀材料的坩埚31和配置在坩埚31 的外侧并用于对坩埚31进行加热的加热部32。在坩埚31的面向基板 20的一侧设有用于喷出被蒸发的蒸镀材料的喷嘴311。

如图2所示，坩埚31被支承于坩埚支承部件401。坩埚支承部件 401与蒸发源支承部件40连接，在驱动机构进行驱动时，坩埚支承部件401随同蒸发源支承部件40的驱动而移动。由此，坩埚31能够在驱动机构的驱动下沿与基板20平行且与坩埚31的长度方向垂直的方向(在图2中为与图面垂直的方向)移动。

在进行成膜时，将基板20输入真空腔室10内并将其载置于基板保持台上。由加热部32加热坩埚31中的蒸镀材料并使其蒸发，经由喷嘴311而被蒸镀到基板20上。

需要说明的是，图2所示的喷嘴311被设置成垂直于坩埚31的上表面，且多个喷嘴311之间的间隔均匀。但本实用新型不限定于此，也可以如图6所示那样倾斜设置喷嘴311。具体而言，至少将最外侧的喷嘴朝向外侧倾斜，而越趋向中央的喷嘴，其倾斜度越小，即越靠向外侧的喷嘴越倾斜。另外，靠向中央的内侧的喷嘴的倾斜度可以为零，即可以垂直于坩埚31的上表面，甚至与朝向外侧倾斜相反地朝向内侧倾斜。

由于该成膜装置所使用的加热部32能够均匀地加热坩埚31，从而能够使坩埚31内的蒸镀材料均匀地蒸发，在基板上成膜出更为均匀的膜厚，提高基板的成膜精度。

<电子设备的制造装置>

本实用新型还提供一种使用上述成膜装置的电子设备的制造装置。以下，作为电子设备的示例，例示了有机发光元件以及具备该有机发光元件的有机EL显示装置的结构。

图7的(a)是有机EL显示装置60的整体图，图7的(b)表示 1个像素的剖面构造。

如图7的(a)所示，在有机EL显示装置60的显示区域61呈矩阵状配置有多个具备多个发光元件的像素62。每一个发光元件都具有具备被一对电极夹持的有机层的构造。需要说明的是，此处所说的像素指的是在显示区域61中能够显示所期望的颜色的最小单位。在本实施例的有机EL显示装置的情况下，通过显示相互不同的发光的第一发光元件62R、第二发光元件62G、第3发光元件62B的组合而构成像素62。像素62多由红色发光元件、绿色发光元件、蓝色发光元件的组合而构成，但也可以是黄色发光元件、青色发光元件、白色发光元件的组合，只要是至少1种颜色以上即可，没有特别限定。

图7的(b)是图7的(a)的A－B线处的局部剖面示意图。像素62具有有机EL元件，该有机EL元件在基板20上具有第一电极 (阳极)64、空穴输送层65、发光层66R、66G、66B的任一层、电子输送层67、以及第二电极(阴极)68。其中，空穴输送层65、发光层66R、66G、66B、电子输送层67相当于有机层。另外，在本实施方式中，发光层66R是发红色的有机EL层，发光层66G是发绿色的有机EL层，发光层66B是发蓝色的有机EL层。发光层66R、66G、 66B形成与分别发出红色、绿色、蓝色的发光元件(有时也被记述为有机EL元件)对应的图案。另外，第一电极64按照每一发光元件分离地形成。空穴输送层65、电子输送层67以及第二电极68既可以与多个发光元件62R、62G、62B共同形成，也可以按照每一发光元件形成。需要说明的是，为了防止第一电极64和第二电极68因异物而短路，在第一电极64之间设有绝缘层69。另外，由于有机EL层会因水分、氧而老化，因此设有用于保护有机EL元件免受水分、氧侵蚀的保护层70。

为了将有机EL层形成为发光元件单位，使用具备上述的成膜装置的电子设备的制造装置。

由于该电子设备的制造装置所使用的成膜装置能够提高基板的成膜精度，因此，该电子设备的制造装置能够精度良好地制造有机EL 发光元件等电子设备。

本领域的技术人员容易理解的是，在不冲突的前提下，上述各优选方案可以自由地组合、叠加。并且，上述的实施方式仅是示例性的，而非限制性的，在不偏离本实用新型的基本原理的情况下，本领域的技术人员可以针对上述细节做出的各种明显的或等同的修改或替换，都将包含于本实用新型的权利要求范围内。