一种电子枪蒸发源荧光校准装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及镀膜生产中的电子枪蒸发源，具体涉及一种电子枪蒸发源荧光校准装置。所述装置在熔池上开口处安装荧光棒。所述熔池呈碗装结构，荧光棒为棒状结构，所述荧光棒固定在熔池的上边缘位置。所述荧光棒在电子束的轰击下发光。本实用新型有益效果：本实用新型能够对电子束的工作区域进行校准，荧光棒直观的反映了电子束的中心位置，有效地提高了装置的工作效率，避免由于电子束偏离引起的工作失误。
【专利说明】
一种电子枪蒸发源荧光校准装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及镀膜生产中的电子枪蒸发源，具体涉及一种电子枪蒸发源荧光校准装置。
【背景技术】
[0002]蒸发源是用来加热膜材使之气化蒸发的装置。目前，所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等形式。e型电子枪蒸发源具有聚焦效果好，磁场强度稳定，束斑形状好的特点。中国发明专利CN20072008 1 574.1和CN200610008066.0都对这一技术进行了研究。
[0003]e型电子枪蒸发源的缺点在于，系统需要对电子束进行270度偏转控制，在这一过程中，电子束的偏转经常发生，造成电子束不能准确轰击工作位置。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型为了克服上述技术缺陷，设计了一种电子枪蒸发源荧光校准装置。
[0005]—种电子枪蒸发源荧光校准装置，包括熔池、阴极、屏蔽装置和偏转系统，其特征在于:在恪池上开口处安装焚光棒。
[0006]所述熔池呈碗装结构，荧光棒为棒状结构，所述荧光棒固定在熔池的上边缘位置。
[0007]所述焚光棒在电子束的轰击下发光。
[0008]本实用新型有益效果:本实用新型能够对电子束的工作区域进行校准，荧光棒直观的反映了电子束的中心位置，有效地提高了装置的工作效率，避免由于电子束偏离引起的工作失误。
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型结构图
【具体实施方式】
[0010]如图1所示，电子位于熔池I下面的阴极2发出，这种结构避免了阴极被蒸发材料的污染。阴极2发出的电子经过屏蔽装置3的筛选，再经过偏转系统4的电压作用，轰击熔池I内的材料。所述熔池I呈碗装结构，荧光棒5为棒状结构，所述荧光棒5固定在熔池I的上边缘位置。调节偏转系统4，使荧光棒5中心位置最亮，这时，电子束处于正确的工作区域。
【主权项】
1.一种电子枪蒸发源荧光校准装置，包括熔池(I)、阴极(2)、屏蔽装置(3)和偏转系统(4)，其特征在于:在熔池(I)上开口处安装荧光棒(5)，熔池(I)呈碗装结构，荧光棒(5)为棒状结构，所述荧光棒(5)固定在熔池(I)的上边缘位置，荧光棒(5)在电子束的轰击下发光。
【文档编号】C23C14/30GK205556766SQ201620243405
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2016年3月21日
【发明人】乔宪武
【申请人】中国计量学院