一种卷对卷真空镀膜设备的制作方法

本实用新型涉及的是真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种卷对卷真空镀膜设备。

背景技术：

随着我国电子行业、包装行业的快速发展，国内对高档真空镀膜设备的需求越来越大，随着其自动化程度和复杂程度的不断提高，其工艺要求也越来高，目前卷绕式真空镀膜机的设计和制造不断向大卷、宽幅、高度、多工艺、微机控制自动化方向发展；国内的卷绕镀膜设备，在柔性材料的更换过程中，需要对整个真空镀膜系统破真空，更换完毕重新抽真空镀膜。在破真空抽真空的过程中，耗费大量的生产时间，严重影响生产效率，另外最主要的是目前国内的卷绕设备放磁控溅射阴极的位置和数量有限，也就是说镀膜的工艺有限，很难实现多层镀膜工艺，目前业界对更换柔性材料及多工艺镀膜并没有一个完整的解决方法。

卷绕镀膜设备主要在如PET、PE、PI 、不锈钢带材、铝带材、铜带材等柔性材料，柔性高分子材料、炭质材料等带状基材上镀制功能膜的产品，在现代工业和高技术领域用途广泛，在带状基材上镀覆功能膜多采用卷绕镀膜方式。

综上所述，本实用新型设计了一种卷对卷真空镀膜设备。

技术实现要素：

针对现有技术上存在的不足，本实用新型目的是在于提供一种卷对卷真空镀膜设备，结构设计合理，操作方便可靠，模块化组装，安装简单便捷，实用性强。

为了实现上述目的，本实用新型是通过如下的技术方案来实现：一种卷对卷真空镀膜设备，包括依次相连的放卷室、前张力控制室、进口狭缝室、进口过渡室、前离子清洗室、工艺室、后离子清洗室、出口过渡室、出口狭缝室、后张力控制室和收卷室，所述的放卷室内设置有放卷辊、第一纠偏辊、第二张力辊和第一导向辊，放卷辊与第一纠偏辊、第一张力辊和第一导向辊依次相连，所述的前张力控制室与第一旋片真空泵相连；所述的进口狭缝室与第二旋片真空泵相连；所述的进口过渡室通过第一罗茨真空泵与第二旋片真空泵相连。

作为优选，所述的前离子清洗室通过第一深冷吸附阱与第三旋片真空泵相连，前离子清洗室上还设置有第一阳极层离子源。

作为优选，所述的工艺室包括平面溅射阴极、C-MAG双旋转溅射阴极、磁悬浮真空分子泵组、第二深冷吸附阱、第二罗茨真空泵和第四旋片真空泵，磁悬浮真空分子泵组之间设置有平面溅射阴极、C-MAG双旋转溅射阴极，平面溅射阴极与第二深冷吸附阱相连，第二深冷吸附阱、第二罗茨真空泵和第四旋片真空泵依次相连。

作为优选，所述的后离子清洗室包括第五旋片真空泵、第三深冷吸附阱和第二阳极层离子源，后离子清洗室上设置有第二阳极层离子源，后离子清洗室与第三深冷吸附阱、第五旋片真空泵依次相连。

作为优选，所述的出口过渡室包括第六旋片真空泵和第三罗茨真空泵，出口过渡室与第三罗茨真空泵、第六旋片真空泵依次相连。

作为优选，所述的出口狭缝室与第七旋片真空泵相连。

作为优选，所述的后张力控制室与第八旋片真空泵相连。

作为优选，所述的收卷室内设置有依次相连的收卷辊、第二纠偏辊、第二张力辊和第二导向辊。

本实用新型具有以下有益效果：

1、溅射工艺室可以根据工艺需求，放置多个平面阴极、旋转阴极、分子泵组并且可以任意调换，来镀制多层膜及更复杂的膜系，实现膜层的多元化、产品的多样化；

2、收卷室、放卷室通过优化设计，最小化了腔室的体积，提高抽气速度，节约抽气时间，提高了工作效率；

3、狭缝阀通过优化设计，密封性能好，结构简单；

4、收卷室、放卷室安装柔性材料的部分通过最新的设计，安装和拆卸非常方便，同时保证各项尺寸配合精确；

5、中间的引膜部分通过腔体内部压辊的排布，定位柔性材料，并完成对柔性材料的过渡；

6、简化了柔性镀膜更换柔性材料的工序，只需要对收卷室和放卷室进行破空，即可更换柔性材料，不需要对镀膜部分进行破空，提高生产效率；

7、镀膜系统使用C-MAG双旋转阴极，更换靶材及清理工序之间间隔周期长，不需频繁维修，可使设备长时间高质量运行。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式来详细说明本实用新型；

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

参照图1，本具体实施方式采用以下技术方案：一种卷对卷真空镀膜设备，包括依次相连的放卷室1、前张力控制室2、进口狭缝室3、进口过渡室4、前离子清洗室5、工艺室6、后离子清洗室7、出口过渡室8、出口狭缝室9、后张力控制室10和收卷室11，所述的放卷室1内设置有放卷辊101、第一纠偏辊102、第二张力辊103和第一导向辊104，放卷辊101与第一纠偏辊102、第一张力辊103和第一导向辊104依次相连，所述的前张力控制室2与第一旋片真空泵201相连；所述的进口狭缝室3与第二旋片真空泵301相连；所述的进口过渡室4通过第一罗茨真空泵402与第二旋片真空泵401相连。

所述的前离子清洗室5通过第一深冷吸附阱502与第三旋片真空泵501相连，前离子清洗室5上还设置有第一阳极层离子源503。

所述的工艺室6包括平面溅射阴极601、C-MAG双旋转溅射阴极602、磁悬浮真空分子泵组603、第二深冷吸附阱604、第二罗茨真空泵605和第四旋片真空泵606，磁悬浮真空分子泵组603之间设置有平面溅射阴极601、C-MAG双旋转溅射阴极602，平面溅射阴极601与第二深冷吸附阱604相连，第二深冷吸附阱604、第二罗茨真空泵605和第四旋片真空泵606依次相连。

所述的后离子清洗室7包括第五旋片真空泵701、第三深冷吸附阱702和第二阳极层离子源703，后离子清洗室7上设置有第二阳极层离子源703，后离子清洗室7与第三深冷吸附阱702、第五旋片真空泵701依次相连。

所述的出口过渡室8包括第六旋片真空泵801和第三罗茨真空泵802，出口过渡室8与第三罗茨真空泵802、第六旋片真空泵801依次相连。

所述的出口狭缝室9与第七旋片真空泵901相连。

所述的后张力控制室10与第八旋片真空泵1001相连。

所述的收卷室11内设置有依次相连的收卷辊1101、第二纠偏辊1102、第二张力辊1103和第二导向辊1104。

本具体实施方式的各真空腔室采用积木式结构，不锈钢制成，模块化组装，安装简单便捷；放卷辊主要用于柔性基材的放料；第一纠偏辊用于柔性基材的跑偏的纠正；第一张力辊用于检测和纠正基材的张力，使基材张力稳定；第一导向辊用于基材方向的引导；

本具体实施方式的前张力控制室由旋片真空泵等部件组成；旋片真空泵用于腔体粗抽真空；前张力控制室主要用于检测和调节柔性基片的松弛程度，使基片传送平稳、镀膜均匀稳定；

本具体实施方式的进口狭缝室由旋片真空泵等部件组成；旋片真空泵用于腔体粗抽真空；进口狭缝室内设置由可调节的狭缝挡板，可将通道口调到最佳状态，主要用于阻挡和隔离柔性基片在传送过程中带的气体影响下一道工序的气体压强减小波动；进口过渡室由旋片真空泵、罗茨真空泵等部件组成；旋片真空泵与罗茨真空泵形成真空泵组，使进口过渡室抽至低真空；进口过渡室主要用于低真空到高真空的过渡；前离子清洗室主要由旋片真空泵、深冷吸附阱、阳极层离子源等部件组成；旋片真空泵与深冷吸附阱形成真空泵组，将前离子清洗室抽至中真空，深冷吸附阱可除去柔性基材上的水汽；前离子清洗室主要通过阳极层离子源清洗柔性基材表面的污杂物、增加薄膜的结合力、减少基底缺陷、增加基片表面能。

本具体实施方式的工艺室主要由平面溅射阴极、C-MAG双旋转溅射阴极、磁悬浮真空分子泵组、深冷吸附阱、罗茨真空泵、旋片真空泵等部件组成；磁悬浮真空分子泵组、深冷吸附阱、罗茨真空泵、旋片真空泵形成真空泵组，将工艺室抽至高真空；磁悬浮真空分子泵组可以隔离工艺气体防止相互串气；平面溅射阴极与C-MAG双旋转溅射阴极主要是根据工艺将所需的材料通过磁控溅射将材料溅射到柔性基材上形成膜层；根据工艺可以任意增加平面溅射阴极与C-MAG双旋转溅射阴极，并且可以任意互换。

本具体实施方式的后离子清洗室主要由旋片真空泵、深冷吸附阱、阳极层离子源等部件组成；旋片真空泵与深冷吸附阱形成真空泵组，将前离子清洗室抽至中真空，深冷吸附阱可除去柔性基材上的水汽；前离子清洗室主要通过阳极层离子源将柔性基材表面溅射的膜活化和强化材料表面及消除静电的作用，荷能离子与成膜粒子相互碰撞能将部分能量传递给成膜粒子，载能粒子沉积在基体表面形成致密膜。

本具体实施方式的出口过渡室主要由旋片真空泵、罗茨真空泵等部件组成；旋片真空泵与罗茨真空泵形成真空泵组，使进口过渡室抽至低真空；进口过渡室主要用于高真空到低真空的过渡；出口狭缝室主要由旋片真空泵等部件组成；旋片真空泵用于腔体粗抽真空；进口狭缝室内设置由可调节的狭缝挡板，可将通道口调到最佳状态，主要用于阻挡和隔离柔性基片在传送过程中带的气体影响下一道工序的气体压强减小波动；后张力控制室主要由旋片真空泵等部件组成；旋片真空泵用于腔体粗抽真空；前张力控制室主要用于检测和调节柔性基片的松弛程度，使基片传送平稳、镀膜均匀稳定；收卷室主要由收卷辊、第二纠偏辊、第二张力辊、第二导向辊等部件组成；收卷辊主要用于柔性基材的收料；纠偏辊用于柔性基材的跑偏的纠正；张力辊用于检测和纠正基材的张力，使基材张力稳定；导向辊用于基材方向的引导。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。