技术总结
本实用新型公开了一种带材真空连续镀膜系统及其所用的过渡舱单元，属于真空连续镀膜技术领域，提供一种带材真空连续镀膜用过渡舱单元，用以实现对真空镀膜系统所需的真空要求；还提供一种能够实现对带材进行连续真空镀膜的系统，用以解决先用的镀膜系统中需要将所有工艺设备与舱室需全部置于全封闭的大真空舱体中问题。本实用新型可仅在带材进出真空镀膜区两侧的输送轨迹上设置过渡舱单元，进而实现对带材的输送轨迹所对应的输送通道进行隔离密封，有效地确保了在真空镀膜区内部形成的真空环境；因此本实用新型无需设置全封闭的大真空舱体以将放卷机构、收卷机构、真空镀膜区以及带材的整个输送通道等包围在该大真空舱体内部。
技术研发人员：廖先杰;赖奇;刘翘楚;赵海泉;李俊翰;邹宇;范立男;刘挺
受保护的技术使用者：攀枝花学院;成都天宇坤实机电设备有限公司
技术研发日：2018.12.24
技术公布日：2019.09.24