高效真空镀膜装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种高效真空镀膜装置，包括真空镀膜仓，真空镀膜仓内的底部具有环形滑槽，环形滑槽的底部具有导电金属片，导电金属片与外部电源电连接，真空镀膜仓内具有转盘，转盘的中心具有转轴，转轴与电机连接，转盘上表面靠近其边缘处均布多个干锅放置架，干锅放置架上具有加热电阻，转盘与环形滑槽同轴线；每个干锅放置架的底部均具有电刷体，电刷体的下端限位于环形滑槽中，与导电金属片接触，电刷体与加热电阻电连接。本实用新型的有益效果是能同时对两个以上的基片进行镀膜，离子蒸汽流在镀膜腔中的分布更加均匀，镀膜效果好。
【专利说明】
高效真空镀膜装置
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及一种高效真空镀膜装置。
【背景技术】
[0002]在现有的技术中真空镀膜腔的底部设置一个点位的靶材，对其加热后产生离子或原子蒸汽流，由于靠近靶材的位置蒸汽流中的离子密度较大，远离靶材的位置蒸汽流中离子的密度较小，因此在整个镀膜腔中造成离子分布不均匀，极大的影响了对应基片的镀膜均匀度，因此针对于大片的基片而言，为了保证镀膜的均匀，一次只能对一个基片进行镀膜。
【发明内容】
[0003]本实用新型要解决的问题是提供一种高效真空镀膜装置，克服了现有技术中的不足。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是:高效真空镀膜装置，包括真空镀膜仓，所述真空镀膜仓内的底部具有环形滑槽，所述环形滑槽的底部具有导电金属片，所述导电金属片与外部电源电连接，所述真空镀膜仓内具有转盘，所述转盘的中心具有转轴，所述转轴与电机连接，所述转盘上表面靠近其边缘处均布多个干锅放置架，所述干锅放置架上具有加热电阻，所述转盘与所述环形滑槽同轴线；
[0005]每个所述干锅放置架的底部均具有电刷体，所述电刷体的下端限位于所述环形滑槽中，与所述导电金属片接触，所述电刷体与所述加热电阻电连接。
[0006]进一步，所述转盘为碗状结构，所述真空镀膜仓的底部具有抽气口，所述抽气口位于靠近所述转轴处。
[0007]本实用新型具有的优点和积极效果是:由于采用上述技术方案，能同时对两个以上的基片进行镀膜，离子蒸汽流在镀膜腔中的的分布更加均匀，镀膜效果好。
【附图说明】
[0008]图1是本实用新型的内部结构示意图；
[0009]图中:1-真空镀膜仓;2-转盘;3-转轴;4-环形滑槽;5-干锅放置架;6_电刷体。
【具体实施方式】
[0010]如图1所示，本实用新型提供一种高效真空镀膜装置，包括真空镀膜仓I，真空镀膜仓I内的底部具有环形滑槽4，环形滑槽4的底部具有导电金属片(图中未示)，导电金属片与外部电源电连接，真空镀膜仓I内具有转盘2，转盘2的中心具有转轴3，转轴3与电机(图中未示)连接，转盘2上表面靠近其边缘处均布多个干锅放置架5，干锅放置架5上具有加热电阻(图中未示)，转盘2与环形滑槽4同轴线；
[0011]每个干锅放置架5的底部均具有电刷体6，电刷体6的下端限位于环形滑槽4中，与导电金属片接触，电刷体6与加热电阻电连接。
[0012]多个干锅放置架5上均可放置干锅和靶材，可根据需要选择放置的个数，在转盘2带动下，干锅随之转动，使离子流在仓内的分别更加均匀，多个靶材同时放置可增加靶材离子流的浓度，提高镀膜速度，可同时对多个基片进行镀膜，提高镀膜效率。电流通过导电金属片和电刷体6传递至加热电阻，对干锅进行加热。
[0013]转盘2为碗状结构，真空镀膜仓I的底部具有抽气口(图中未示)，抽气口位于靠近转轴3处，抽气口设置于转盘2的下部可弱化抽气时对仓内气流的干扰。
[0014]以上对本实用新型的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。
【主权项】
1.高效真空镀膜装置，包括真空镀膜仓，其特征在于:所述真空镀膜仓内的底部具有环形滑槽，所述环形滑槽的底部具有导电金属片，所述导电金属片与外部电源电连接，所述真空镀膜仓内具有转盘，所述转盘的中心具有转轴，所述转轴与电机连接，所述转盘上表面靠近其边缘处均布多个干锅放置架，所述干锅放置架上具有加热电阻，所述转盘与所述环形滑槽同轴线； 每个所述干锅放置架的底部均具有电刷体，所述电刷体的下端限位于所述环形滑槽中，与所述导电金属片接触，所述电刷体与所述加热电阻电连接。2.根据权利要求1所述的高效真空镀膜装置，其特征在于:所述转盘为碗状结构，所述真空镀膜仓的底部具有抽气口，所述抽气口位于靠近所述转轴处。
【文档编号】C23C14/26GK205529007SQ201620077134
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年1月27日
【发明人】同建辉, 李卫东, 孙婧
【申请人】天津众伟科技有限公司