1.一种金刚石薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
（1）将预处理过的多孔金属基体置于热丝化学气相沉积装置的反应室中，向所述反应室中充入反应气体，令所述反应气体在所述多孔金属基体表面生长形成金刚石/碳化硅/金属复合薄膜；
其中，所述多孔金属基体为通孔泡沫铜或通孔泡沫镍；所述反应气体的体积组成为：氢气100份、甲烷1~4份、甲硅烷0.01~0.2份和氮气0.05~0.2份；生长过程中，反应气体的流量为300~800ml/min，反应室气压为1~3kpa，热丝温度为1600~2000℃，基体温度为600~800℃；
（2）用稀酸腐蚀步骤（1）中获得的金刚石/碳化硅/金属复合薄膜，除去其中的金属相，得到金刚石/碳化硅复合薄膜；
（3）用酸液腐蚀步骤（2）中获得的金刚石/碳化硅复合薄膜，除去其中的碳化硅相，得到金刚石薄膜；
（4）清洗并干燥步骤（3）中得到的金刚石薄膜后，将其在含氧氛围内煅烧，得到具有多级孔结构的成品金刚石薄膜；
其中，所述含氧氛围的氧气体积含量为10~25%，煅烧温度为500~600℃。
2.根据权利要求1所述的金刚石薄膜的制备方法，其特征在于，所述多孔金属基体的开孔孔隙率≥70%。
3.根据权利要求1所述的金刚石薄膜的制备方法，其特征在于，所述多孔金属基体厚度小于0.5mm。
4.根据权利要求1所述的金刚石薄膜的制备方法，其特征在于，所述预处理的具体步骤为：先将所述多孔金属基体放入含有金刚石-丙酮悬浊液中超声10~30min；再将所述多孔金属基体用乙醇洗净后干燥。
5.根据权利要求1所述的金刚石薄膜的制备方法，其特征在于，所述稀酸选自稀盐酸、稀硫酸和稀硝酸中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的金刚石薄膜的制备方法，其特征在于，所述酸液的体积组成为：1份浓硝酸和1~5份浓氢氟酸；所述酸液的温度不低于50℃。
7.根据权利要求1所述的金刚石薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（4）中煅烧时间为30-60min。