1.一种便于清理的半导体镀膜设备，包括设备主体，其特征在于：所述设备主体的外侧设置有保护罩，所述保护罩内部的底端活动连接有灰尘收集组件，所述保护罩内部两侧的中间位置处皆设置有固定杆，两组所述固定杆相邻的一侧皆活动连接有支撑组件，所述保护罩内部的顶端安装有第一电磁滑轨，所述第一电磁滑轨的底部滑动安装有第二电磁滑轨，所述第二电磁滑轨的底部活动安装有电机，所述电机的输出端安装有电动推杆，所述电动推杆的输出端设置有刷毛。
2.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述灰尘收集组件包括收集板，所述收集板的两侧皆设置有滑条，所述收集板的底部均匀设置有多组活动槽，所述活动槽的内部皆转动连接有滚球，所述活动槽的底部皆设置有缺口，且缺口的内直径大于滚球的外直径，所述收集板的顶部铺设有吸附棉。
3.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：两组所述支撑组件皆包括支撑板，所述支撑板靠近固定杆的一侧皆设置有滑杆，所述支撑板的顶部皆设置有铁条，所述支撑板的顶部均匀设置有多组支撑杆，所述支撑杆的底部均匀设置有多组软垫，每两组所述软垫相邻的一侧皆设置有与铁条相匹配的磁条。
4.根据权利要求3所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：两组所述固定杆相邻的一侧皆设置有与滑杆相匹配的固定槽，所述支撑板皆通过固定槽和滑杆的相互配合与固定杆滑动连接。
5.根据权利要求3所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述支撑杆皆通过磁条和铁条的相互配合与支撑板的顶部磁性连接，所述磁条的高度是软垫高度的三分之二。
6.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述第二电磁滑轨的顶部设置有与第一电磁滑轨相匹配的第一滑块，所述电机的顶部设置有与第二电磁滑轨相匹配的第二滑块。
7.根据权利要求2所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述保护罩内部底端的两侧皆设置有与滑条相匹配的滑槽，所述收集板通过滑条和滑槽的相互配合与保护罩滑动连接。
8.根据权利要求2所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集板顶部的两侧皆设置有斜面，两组所述斜面远离滑条的一侧皆向下倾斜，且斜面向下倾斜的角度为100°。