1.一种纳米涂层探针，其特征在于，包括探针主体、纳米涂层和绝缘涂层，所述纳米涂层包覆于所述探针主体外表面，所述探针主体包括测试部、连接部和固定部，所述绝缘涂层设于所述探针主体连接部对应的纳米涂层上，所述纳米涂层为纳米结构。
2.如权利要求1所述的纳米涂层探针，其特征在于，所述纳米涂层为纳米氮化钛涂层，所述纳米氮化钛涂层包含纳米氮化钛颗粒。
3.如权利要求2所述的纳米涂层探针，其特征在于，所述纳米氮化钛涂层的厚度为2～3μm。
4.如权利要求1所述的纳米涂层探针，其特征在于，所述纳米涂层为纳米类金刚石涂层，所述纳米类金刚石涂层包含纳米类金刚石颗粒。
5.如权利要求4所述的纳米涂层探针，其特征在于，所述纳米类金刚石涂层的厚度为1～3μm。
6.如权利要求1至5任一项所述的纳米涂层探针，其特征在于，所述探针主体由铼钨、钨钢、琴钢中的一种材料制成。
7.如权利要求6所述的纳米涂层探针，其特征在于，还包括金属镀层，所述金属镀层包覆于所述纳米涂层外表面，所述绝缘涂层设于所述探针主体连接部对应的金属镀层上，所述金属镀层为镀镍层或者镀金层。
8.一种应用于如权利要求1至7任一项所述的纳米涂层探针的制备方法，包括以下步骤：
步骤s1：将原材料拉直，裁剪，研磨成设定形状的探针主体；
步骤s2：利用pvd真空镀膜法，在所述探针主体外表面镀上一层纳米涂层；
步骤s3：在所述探针主体连接部对应的纳米涂层上涂覆绝缘涂层。
9.如权利要求8所述的纳米涂层探针制备方法，其特征在于，当所述纳米涂层为纳米氮化钛涂层时，在步骤s2中，包括以下步骤：
步骤s201：将探针主体经超声波清洗并烘干后，放置于反应炉中，并抽真空；
步骤s202：同时开启钛靶、铜基合金靶和金基合金靶的电源，并充入氮气，采用射频或中频辉光放电，对探针主体进行等离子改性；
步骤s203：使靶上蒸发出来的被蒸发物质和气体发生电离，在电场的加速作用下，使被蒸发的铜基合金、金基合金、钛与氮的反应产物氮化钛沉积在探针主体上，形成纳米氮化钛涂层。
10.如权利要求8所述的纳米涂层探针制备方法，其特征在于，当所述纳米涂层为纳米类金刚石涂层时，在步骤s2中，包括以下步骤：
步骤s211：将探针主体经超声波清洗并烘干后，放置于反应炉中，并抽真空；
步骤s212：向反应炉中注入氩气，开启离子源，离子源工作电压2100～2400v，工作时间40～60min，将探针主体表面活化；
步骤s213：关闭氩气，将探针主体和反应炉之间加载负偏压，开启钛电弧源使探针主体表面沉积钛过渡层；
步骤s214：将氮气通入反应炉，并保持真空度的稳定，使探针主体表面沉积氮化钛过渡层；
步骤s215：开启以石墨为阴极电极的脉冲电弧放电，向反应炉内通入碳氢化合物气体，由脉冲放电形成的碳离子和碳的高能中性原子与碳氢化合物气体分子碰撞，生成新的碳离子飞向探针主体表面形成纳米类金刚石涂层。