自适应平参参考面的抛光吸盘的制作方法

1.本实用新型涉及半导体制备技术及制备设备，具体的，其展示一种自适应平参参考面的抛光吸盘。


背景技术：

2.在硅片的制备过程，包括硅片的边缘抛光工序，在加工平参产品时，由于平参面长度较长，寻参仪定位后需要机械手进行传递，硅片传递到加工吸盘时，参考面很难整面和抛光垫贴合均匀，会导致硅片的两边的边抛效果不一致，且重掺产品无法通过目检辨别损伤层异常，导致产品外延后出现白边，影响产品质量。
3.因此，有必要提供一种自适应平参参考面的抛光吸盘来解决上述问题。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的是提供一种自适应平参参考面的抛光吸盘。
5.技术方案如下：
6.一种自适应平参参考面的抛光吸盘，包括装载块，装载块的中部设置有装载槽，装载槽内设置有吸盘设置块，吸盘设置块包括设置于装载槽内的设置块主体，设置块主体上端设置有吸盘承接块，吸盘承接块上设置有吸盘；
7.装载块上对应吸盘承接块设置有调节环台，吸盘承接块对应调节环台设置有调节槽，吸盘推进至抛光垫位进行抛光垫承接，后加压，吸盘承接块以调节环台为基点自适应的进行对应抛光垫调节，使抛光垫表面均匀贴合于用作平参参考面的吸盘表面，形成自适应式高质量硅片抛光加工结构。
8.进一步的，调节环台上设置有调节支槽，调节槽内对应调节支槽设置有调节支柱。
9.进一步的，调节槽内对应调节环台及吸盘承接块设置有辅助支撑块。
10.进一步的，装载槽内对应设置块主体设置有由调心滚子轴承构成的调节式固定块。
11.进一步的，设置块主体下端对应设置有盖体，盖体通过螺丝固定连接装载块。
12.进一步的，装载块的两侧均设置有固定顶持块，通过于固定顶持块上设置由紧钉螺丝构成的固定件，进行装载块的固定。
13.进一步的，吸盘承接块对应设置由吸盘调节辅助结构，吸盘调节辅助结构包括一端连接于吸盘承接块的调节导向板，调节导向板对应设置有转动设置台，转动设置台对应调节导向板另一端的端部设置有转动设置槽，通过于转动设置槽设置与调节导向板配合使用的转动承接体，配合形成以转动承接体为承接点的吸盘承接块微调限位结构。
14.进一步的，装载块设置有底座上。
15.进一步的，底座包括底座主体，底座主体上设置有用于连接吸盘推进机构的连接台。
16.与现有技术相比，本实用新型通过平参硅片参考面抛光的自适应贴合设置，实现
高质量的硅片抛光，保证产品的合格率。
附图说明
17.图1是本实用新型的结构示意图之一。
18.图2是本实用新型的结构示意图之二。
19.图3是图2中a部分的放大图。
具体实施方式
20.实施例：
21.参阅图1-3，本实施例展示一种自适应平参参考面的抛光吸盘，包括装载块1，装载块1的中部设置有装载槽，装载槽内设置有吸盘设置块2，吸盘设置块 2包括设置于装载槽内1的设置块主体21，设置块主体21上端设置有吸盘承接块22，吸盘承接块22上设置有吸盘3；
22.装载块1上对应吸盘承接块设置有调节环台11，吸盘承接块22对应调节环台设置有调节槽221，吸盘推进至抛光垫位进行抛光垫承接，后加压，吸盘承接块22以调节环台11为基点自适应的进行对应抛光垫调节，使抛光垫表面均匀贴合于用作平参参考面的吸盘表面，形成自适应式高质量硅片抛光加工结构。
23.调节环台11上设置有调节支槽111，调节槽221内对应调节支槽111设置有调节支柱222。
24.调节槽221内对应调节环台11及吸盘承接块22设置有辅助支撑块223。
25.装载槽221内对应设置块主体21设置有由调心滚子轴承构成的调节式固定块4。
26.设置块主体21下端对应设置有盖体5，盖体5通过螺丝固定连接装载块1。
27.装载块1的两侧均设置有固定顶持块6，通过于固定顶持块6上设置由紧钉螺丝构成的固定件61，进行装载块1的固定。
28.吸盘承接块22对应设置由吸盘调节辅助结构，吸盘调节辅助结构包括一端连接于吸盘承接块22的调节导向板7，调节导向板7对应设置有转动设置台8，转动设置台8对应调节导向板另一端的端部设置有转动设置槽，通过于转动设置槽设置与调节导向板配合使用的转动承接体81，配合形成以转动承接体81为承接点的吸盘承接块微调限位结构。
29.装载块1设置有底座9上。
30.底座9包括底座主体91，底座主体91上设置有用于连接吸盘推进机构的连接台92。
31.与现有技术相比，本实用新型通过平参硅片参考面抛光的自适应贴合设置，实现高质量的硅片抛光，保证产品的合格率。
32.以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。


技术特征：
1.一种自适应平参参考面的抛光吸盘，其特征在于：包括装载块，装载块的中部设置有装载槽，装载槽内设置有吸盘设置块，吸盘设置块包括设置于装载槽内的设置块主体，设置块主体上端设置有吸盘承接块，吸盘承接块上设置有吸盘；装载块上对应吸盘承接块设置有调节环台，吸盘承接块对应调节环台设置有调节槽，吸盘推进至抛光垫位进行抛光垫承接，后加压，吸盘承接块以调节环台为基点自适应的进行对应抛光垫调节，使抛光垫表面均匀贴合于用作平参参考面的吸盘表面，形成自适应式高质量硅片抛光加工结构。2.根据权利要求1所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘，其特征在于：调节环台上设置有调节支槽，调节槽内对应调节支槽设置有调节支柱。3.根据权利要求2所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘，其特征在于：调节槽内对应调节环台及吸盘承接块设置有辅助支撑块。4.根据权利要求3所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘，其特征在于：装载槽内对应设置块主体设置有由调心滚子轴承构成的调节式固定块。5.根据权利要求4所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘，其特征在于：设置块主体下端对应设置有盖体，盖体通过螺丝固定连接装载块。6.根据权利要求5所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘，其特征在于：装载块的两侧均设置有固定顶持块，通过于固定顶持块上设置由紧钉螺丝构成的固定件，进行装载块的固定。7.根据权利要求6所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘，其特征在于：吸盘承接块对应设置由吸盘调节辅助结构，吸盘调节辅助结构包括一端连接于吸盘承接块的调节导向板，调节导向板对应设置有转动设置台，转动设置台对应调节导向板另一端的端部设置有转动设置槽，通过于转动设置槽设置与调节导向板配合使用的转动承接体，配合形成以转动承接体为承接点的吸盘承接块微调限位结构。8.根据权利要求7所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘，其特征在于：装载块设置有底座上。9.根据权利要求8所述的一种自适应平参参考面的抛光吸盘，其特征在于：底座包括底座主体，底座主体上设置有用于连接吸盘推进机构的连接台。

技术总结
本实用新型自适应平参参考面的抛光吸盘，包括装载块，装载块的中部设置有装载槽，装载槽内设置有吸盘设置块，吸盘设置块包括设置于装载槽内的设置块主体，设置块主体上端设置有吸盘承接块，吸盘承接块上设置有吸盘；装载块上对应吸盘承接块设置有调节环台，吸盘承接块对应调节环台设置有调节槽，吸盘推进至抛光垫位进行抛光垫承接，后加压，吸盘承接块以调节环台为基点自适应的进行对应抛光垫调节，使抛光垫表面均匀贴合于用作平参参考面的吸盘表面，形成自适应式高质量硅片抛光加工结构。形成自适应式高质量硅片抛光加工结构。形成自适应式高质量硅片抛光加工结构。


技术研发人员：陈良臻 沈俊熙 王维师 孙晨光 王彦君 曹锦伟
受保护的技术使用者：中环领先半导体材料有限公司
技术研发日：2021.11.12
技术公布日：2022/6/14