一种实验室用研磨设备的制作方法

1.本技术涉及研磨设备的领域，尤其是涉及一种实验室用研磨设备。


背景技术：

2.研磨机是指用涂上或嵌入磨料的研具对工件表面进行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、内外圆柱面、圆锥面、球面、螺纹面和其他型面。
3.目前实验室内用于半导体研磨加工的研磨机，常常采用6/8/12寸研磨盘，研磨盘上侧设置有供给研磨液的喷液管，且在研磨盘的周侧开设有静水槽或排水口。
4.针对上述中的相关技术，发明人认为，实验室内采用此种研磨机，对小样品进行研磨加工的过程中，样品易被研磨液冲入静水槽或排水口内，从而不易找回遗失的样品。


技术实现要素：

5.为了改善小样品研磨易遗失的问题，本技术提供一种实验室用研磨设备。
6.本技术提供的一种实验室用研磨设备，采用如下的技术方案：
7.一种实验室用研磨设备，包括研磨台和供给研磨液的进水管，所述研磨台上设置有安装座，所述安装座上可拆卸设置有研磨盘，且所述进水管出口位于研磨盘上方；所述安装座上设置有静水槽，所述静水槽底部设置有溢水口，且所述溢水口高于静水槽底面；所述研磨盘上贯穿开设有排水孔，且所述排水孔与静水槽连通。
8.通过采用上述技术方案，当小样品掉至静水槽内，因溢水口高于静水槽底面，从而避免了小样品随研磨液经溢水口流出静水槽的情况；由此设置，拆下研磨盘即可取出小样品，进而有助于提升找回遗失小样品的便捷性。
9.优选的，所述研磨台下侧设置有沉淀水槽；所述溢水口上连通有排水管，且所述排水管远离静水槽的一侧与沉淀水槽连通。
10.通过采用上述技术方案，实际运用中，使用过的研磨液经排水管流入沉淀水槽内，研磨液中的杂质沉淀在沉淀水槽内，去除过杂质的研磨液经排水口排出并再次利用，从而有助于减少研磨液的浪费。
11.优选的，所述排水管内可拆卸设置有过滤片。
12.通过采用上述技术方案，实际运用中，研磨液中的部分杂质会被过滤片过滤，从而减少流入沉淀水槽内杂质的数量，进而减少后续清理沉淀水槽的次数。
13.优选的，所述研磨台上表面沿竖直方向固定设置有导柱，所述安装座底部固定设置有滑柱，且所述滑柱滑移套设在导柱上；所述研磨台上设置有固定组件，所述固定组件用于固定连接导柱和滑柱；所述导柱与滑柱对应研磨台底部四个角落设置有四个。
14.通过采用上述技术方案，实际运用中，沿导柱滑移滑柱并通过固定组件固定两者的位置，即可实现安装座高度的调节；由此设置，使得研磨盘的高度能够适应不同身高的使用人员，从而有助于提高实验室用研磨设备的适用性。
15.优选的，所述固定组件包括电机和丝杆，所述电机固定设置在滑移台上，所述丝杆
同轴固定设置在电机输出轴上，且所述丝杆的轴线方向与竖直方向一致；所述丝杆与安装座之间形成有滚珠丝杠螺母副。
16.通过采用上述技术方案，实际运用中，通过电机驱动安装座进行高度的调节，并借助滚珠丝杠螺母副的自锁功能固定安装座的位置，从而有助于提高实验室用研磨设备的自动化程度。
17.优选的，所述安装座上开设有两条相互平行的滑槽，且两条所述滑槽槽口相对设置；所述研磨盘相对的两侧分别滑移设置在两侧的滑槽内；所述安装座上设置有锁紧件，所述锁紧件用于固定连接研磨盘与安装座。
18.通过采用上述技术方案，实际运用中，小样品掉入静水槽内后，沿滑槽滑移研磨盘，工作人员即可将手伸入静水槽取出小样品，从而有助于进一步提高取出小样品的便捷性。
19.优选的，所述沉淀水槽包括四个侧壁以及固定在两相对侧壁之间的分隔板，所述分隔板顶部与沉淀水槽上侧壁之间形成有过滤口；所述过滤口处设置有过滤网。
20.通过采用上述技术方案，实际运用中，分隔板将沉淀水槽的腔室分为多个沉淀池，而研磨液从靠近进口处的沉淀池流入下个沉淀池的过程中的部分杂质被过滤网阻隔，从而使得流入后续沉淀池的研磨液中杂质的含量减少，进而有助于提升后续沉淀池的沉淀效果。
21.优选的，所述研磨盘呈矩形设置。
22.通过采用上述技术方案，一方面，矩形结构的研磨盘增大了研磨面的面积；另一方面，矩形结构的研磨盘能够适应不同尺寸的研磨垫，并且矩形研磨垫成本比圆形研磨垫成本低。
23.综上所述，本技术包括以下至少一种有益技术效果：
24.通过溢水口的设置，使得掉入静水槽内的小样品不易遗失，从而有助于提升找回遗失的小样品的便捷性；
25.通过可调高度的安装座，有助于提高实验室用研磨设备的适用性；
26.通过沉淀水槽，有助于减少研磨液的浪费。
附图说明
27.图1为本实施例主要体现实验室用研磨设备整体结构的轴测示意图；
28.图2为本实施例主要体现研磨盘连接关系的局部放大图；
29.图3为本实施例主要体现安装座结构的剖视图；
30.图4为本实施例主要体现沉淀水箱结构的剖视图。
31.附图标记：100、研磨台；200、进水管；1、安装座；11、静水槽；111、溢水口；12、滑槽；13、锁紧件；14、滑柱；2、沉淀水槽；21、入水口；22、排水口；23、第一分隔板；24、第二分隔板；25、过滤网；3、研磨盘；31、排水孔；32、研磨垫；4、导柱；5、电机；6、丝杆；7、排水管；71、上管体；72、下管体；73、管接头。
具体实施方式
32.以下结合附图1-4对本技术作进一步详细说明。
33.本技术实施例公开一种实验室用研磨设备。
34.实施例：
35.参照图1和图2，一种实验室用研磨设备包括研磨台100、安装座1以及沉淀水槽2，安装座1沿竖直方向滑移设置在研磨台100上，沉淀水槽2位于研磨台100下侧。安装座1上表面设置有矩形研磨盘3，且研磨盘3上方设置有供给研磨液的进水管200，本实施例中，进水管200为竹节管。研磨盘3上贯穿开设有多个排水孔31，且多个排水孔31均与沉淀水槽2连通。研磨盘3上粘覆有研磨垫32，且研磨垫32对应排水孔31的位置开设有避让孔。
36.参照图2和图3，具体而言，安装座1上表面开设有静水槽11，且静水槽11呈矩形设置。静水槽11沿其长度方向的两侧壁上均开设有滑槽12，两条滑槽12同一侧长度方向的一端均贯穿安装座1，且两条滑槽12槽口相对设置；两条滑槽12均位于自身所在侧壁的上侧，且两条滑槽12位于同一高度上。研磨盘3沿其长度方向的两侧分别滑移设置在两条滑槽12内，安装座1上设置有锁紧件13，本实施例中，锁紧件13为螺栓，螺栓贯穿滑槽12底壁并与研磨盘3螺纹连接，螺栓的数量对应滑槽12的数量设置。
37.参照图1，安装座1底部的四个角落上均沿竖直放置固定设置有滑柱14，研磨台100上表面沿竖直方向固定设置有四根导柱4，四根导柱4对应四根滑柱14设置，且四根滑柱14分别滑移设置在对应自身位置的导柱4上。安装座1上设置有驱动组件，驱动组件包括电机5和丝杆6，电机5固定设置在研磨台100上，且电机5的输出轴的轴线方向与导柱4的轴线方向一致；丝杆6同轴固定设置在电机5输出轴上，且丝杆6上侧与安装座1底部的中心位置螺纹连接。
38.参照图4，沉淀水槽2呈中空长方体设置，沉淀水槽2长度方向的两侧壁上分别贯穿开设有入水口21和排水口22。沉淀水槽2腔室内沿其长度方向间隔设置有两个分隔板，两块分隔板除顶部以外的三个侧壁均与沉淀水槽2内壁固定连接，且其中靠近入水口21一侧的分隔板为第一分隔板23，另一块分隔板为第二分隔板24。两个分隔板顶部与沉淀水槽2上侧内壁之间均形成有过滤口，两个过滤口处均设置有过滤网25，且两个过滤网25的周侧分别与其自身相邻的沉淀水槽2的侧壁或分隔板固定连接。第一分隔板23的上表面低于第二分隔板24的上表面。
39.参照图3和图4，静水槽11与沉淀水槽2之间设置有排水管7，且静水槽11与沉淀水槽2通过排水管7连通。静水槽11底面上设置有溢水口111，溢水口111高于静水槽11底面，且溢水口111与排水管7连通。
40.参照图1和图4，为了减少清洗沉淀水槽2的次数，排水管7包括上管体71、下管体72以及管接头73，且管接头73内设置有过滤片。上管体71与下管体72通过管接头73连通，且上管体71与管接头73以及下管体72与管接头73之间均为螺纹连接。本实施例中，上管体71位于安装座1外侧的部分为波纹伸缩管。实际运用中，使用过的研磨液经溢水口111流入排水管7内，研磨液中的部分杂质会被过滤片过滤并堆积在过滤片上。当过滤片上的滤眼被堵塞时，可拆下堵塞的管接头73进行清理或更换。
41.本技术实施例一种实验室用研磨设备的实施原理为：实际运用中，工作人员手持小样品并将小样品的待加工面与研磨垫32表面来回摩擦，由此完成对小样品的研磨。同时，研磨过程中使用的研磨液会依次经排水孔31、静水管以及排水管7流入沉淀水槽2内，最后使用过的研磨液在沉淀水槽2内与研磨液中携带的杂质分离，从而流出沉淀水槽2的研磨液
可以再次利用。
42.以上均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。