专利名称：在光学基片上蒸镀镀膜的方法
技术领域：
本发明涉及一种在光学基片例如塑料眼镜片表面上蒸镀镀膜的方法，光学基片可以夹紧在支架上，支架本身装在一个可抽成真空的容器内可更换的蒸发源上方或下方。
在所有这类已知的光学基片尤其眼镜片上在真空中蒸镀至少一层镀膜层的方法中，预定数量的这种基片在通常蒸镀多层后，从基片表面在其中经受可更换的蒸发源作用的平面中逐个或成组地移出，并再次将同样数量的基片表面移入此平面中，以便接着同样为它们蒸镀一次或多次，换句话说，首先在基片一侧的基片表面连续蒸镀各个镀膜层，然后回转基片，接着蒸镀另一基片表面。
但是这种方法太麻烦，因为在每个蒸镀过程后要切断蒸发源，并在冷却后为了一层新的镀膜必须置入一个新的蒸发源。在为回转后的基片表面镀膜时所有这一切要再次重复。
此外，由于多次加热蒸发源，这些蒸发源例如可以是电子束蒸发器或电阻加热蒸发器，所以存在着蒸发材料分解和生成低氧化物以及由此造成折射值改变的危险。
因此本发明的目的是提供一种上述类型的方法，这种方法可以避免上述缺点。
在光学基片如塑料眼镜片的表面上蒸镀镀膜的方法中，光学基片可被夹紧在支架上，支架本身装在一个可抽成真空的容器内可更换的蒸发源上方或下方，对于这种方法按本发明为达到上述目的，在一个为生成一层镀膜的蒸镀过程内，首先蒸镀夹紧在支架上的基片面朝蒸发源的那些表面，然后，在不关闭蒸发源的情况下，支架带着基片迅速回转，这时同样蒸镀基片面朝蒸发源的那些表面，之后进行周期性的更换蒸发源，以便在一个新的蒸镀过程中在基片表面分别镀上另一层镀膜。
采取这些措施后，现在周期性更换蒸发源减少了一半并因而也减少了蒸发源加热次数，从而显著减少使蒸发材料分解和生成低氧化物以及由此造成折射值改变的危险。
最好全部基片同时和在不中断蒸发流的情况下回转。
然而，在要回转的基片例如装在半球形回转架上的情况下，在回转期间蒸镀电子束暂时对准可摆动的挡板，因此带有基片的回转中的支架与蒸发流隔开。
下面借助于附图表示的作为举例的真空镀膜设备的实施形式详细说明按本发明的方法。其中
图1用于蒸镀多个在回转架装置上的光学基片的真空镀膜设备简化示意的纵剖面图；以及图2按图1设备的设计改型。
图1中举例表示的用于在光学基片例如塑料眼镜片10上蒸镀镀膜的真空镀膜设备，包括一个用真空泵2可抽成真空的容器1。
在此容器1上部腔室内装有按本发明的回转架装置3，它有多个(图中可看到2个)沿径向围绕一块圆形支承板23设置的回转架21，它们分别支承在一根可临时旋转180°的转轴22上，其中，每一个回转架21包括用于夹紧地固定一个要双面镀膜的基片的装置，或用于固定两个要单面镀膜的基片的装置(图中未表示)。
在容器1下部表示了一个蒸发源100，在这里它包括一个带加热丝15的所谓电子枪，它在加热后射出的电子在聚焦器16中聚合成射线束。电子束例如可以由一个处于负高压下的钨丝阴极产生，并可通过一个成型的文纳尔电极预聚焦。现在此电子束通过偏转磁场13可转入一个坩埚17中，蒸发材料便置于此坩埚内。
为了操纵要在真空容器1内运动的器具，例如挡板14等，需要一些从外部伸入真空腔内的操纵构件(图中未表示)。因为这种真空蒸镀设备的结构和工作方式其他方面总的来说是众所周知的，所以对结构作详细的介绍便是多余的了。
在这里重要之点首先是，在回转架21或转轴22上连接有用于同时回转全部回转架的回转机构。为此，回转机构包括一个从支承板23圆周凸起的齿环25，在齿环25中各啮合有一个传动齿轮24，传动齿轮24与回转架21的转轴22以及另一个可临时旋转的相配齿环26在工作上连接起来。
因此，可以在适当的时刻使相配齿环26相对于齿环25旋转，直至使回转架21带着它的基片通过各自的传动齿轮24旋转180°。这一工作在不到一秒钟的时间内完成，也就是迅速到无需中断蒸镀的电子束99。
这样一种设备允许按本发明总是在一个形成一层镀膜的蒸镀过程内，首先蒸镀夹紧在支架上的基片面朝蒸发源的那些表面，接着，在蒸发源不关闭的情况下，支架带着基片迅速回转，现在同样蒸镀基片面朝蒸发源的那些表面，然后，进行周期性的更换蒸发源，以便在一个新的蒸镀过程中在基片上镀上另一层镀膜。
通过这些措施，现在周期性更换蒸发源减少了一半并因而也减少了蒸发源加热次数，从而显著减少了使材料分解和生成低氧化物以及由此造成折射值改变的危险。
最好同时并在不中断蒸发流99的情况下回转全部基片。然而，在要回转的基片例如按图2所示装在半球形回转架上的情况下，在带有基片10的球形罩33借助于回转机构19回转期间，蒸镀电子束暂时对准可摆动的挡板14，因此带有基片的回转中的支架与蒸发流99隔开。
权利要求
1.在光学基片例如塑料眼镜片表面上蒸镀镀膜的方法，光学基片可以被夹紧在支架上，支架本身装在一个可抽成真空的容器内可更换的蒸发源上方或下方，其特征为总是在一个形成一层镀膜的蒸镀过程内，首先蒸镀夹紧在支架上的基片面朝蒸发源的那些表面，接着，在蒸发源不关闭的情况下，支架带着基片迅速回转，现在同样蒸镀基片面朝蒸发源的那些表面，然后，进行周期性的更换蒸发源，以便在一个新的蒸镀过程中在基片上镀上另一层镀膜。
2.按照权利要求1所述的方法，其特征为全部基片同时和在不中断蒸发流的情况下回转。
3.按照权利要求1所述的方法，其特征为在回转期间蒸镀电子束暂时对准可摆动的挡板，因此带有基片的回转中的支架与蒸发流隔开。
全文摘要
在用于在光学基片例如塑料眼镜片的表面上蒸镀镀膜的方法中,光学基片可以被夹紧在支架上,支架本身装在一个可抽成真空的容器内可更换的蒸发源上方或下方,按此方法,总是在一个形成一层镀膜的蒸镀过程内,首先蒸镀夹紧在支架上的基片面朝蒸发源的那些表面,接着,在蒸发源不关闭的情况下,支架带着基片迅速回转,现在同样蒸镀基片面朝蒸发源的那些表面,然后,进行周期性的更换蒸发源,以便在一个新的蒸镀过程内在基片上镀上另一层镀膜。
文档编号C23C14/24GK1169477SQ9711150
公开日1998年1月7日 申请日期1997年5月9日 优先权日1997年5月9日
发明者R·苏特 申请人:萨蒂斯真空工业销售股份公司