的砂纸痕，用去离子水清洗制件的打磨边缘；
[0030]步骤三、精磨抛光
[0031 ]调整氧化铝抛光液的酸碱度，使pH = 5~6.5，使用圆形花瓣状微孔抛光垫沾取氧 化铝抛光液在打磨处精磨抛光，至表面透亮，且无划伤和光学畸变；
[0032] 如图1所示，所述圆形花瓣状微孔抛光垫外围的花瓣数量为4个，花瓣沿径向的最 大尺寸R为76mm;
[0033] 所述精磨抛光采用低速气动打磨方式，打磨的载荷小于等于20N，氧化铝抛光液中 氧化铝颗粒的直径小于等于1.5μπι;
[0034] 步骤四、超声清洗与除静电
[0035]对精磨抛光后的制件进行超声清洗，清洗水的温度为30~40°C，超声频率为30~ 70KHz，然后对制件进行等离子去除静电处理，消电距离为25mm，处理时间为1~lOmin，达到 表面静电〈0.2V。
[0036]舷窗制件研抛前和研抛后的光学性能如表1所示： LUUE」 买施例2:呆透明角窗
[0039] 本实施例所采用的材料为聚甲基丙烯酸甲酯，依据制件所需外形在2.5mm厚的聚 甲基丙烯酸甲酯上画线，用手锯切割板材并在四周钻孔，使用夹具将原板材定位于热成形 模具工装上，在烘箱内加热至115°C，恒温1.5小时后人工强压使板材贴合于工装成型面上， 并通过螺钉固定孔位。程序控温定型后打开烘箱门，自然冷却后用手锯切除制件边缘的无 效区域。
[0040] 表面研抛方法的具体工艺如下：
[00411步骤一、打磨缺陷
[0042]使用600#水砂纸对制件的表面褶皱痕、缩痕缺陷进行粗化打磨，然后使用1200#水 砂纸打磨600#水砂纸在制件表面形成的砂纸痕，再使用3000#水砂纸打磨1200#水砂纸在制 件表面形成的砂纸痕，用去离子水清洗制件的打磨面；
[0043]步骤二、去除机械划痕
[0044]使用刮刀钝化和去除制件边缘的切割痕，使用600#水砂纸打磨制件边缘使之光 顺，然后使用1200#水砂纸打磨600#水砂纸在制件边缘形成的砂纸痕，再使用3000#水砂纸 打磨1200#水砂纸在制件边缘形成的砂纸痕，用去离子水清洗制件的打磨边缘；
[0045]步骤三、精磨抛光
[0046] 调整氧化铝抛光液的酸碱度，使pH = 6.5~7,使用圆形花瓣状微孔抛光垫沾取氧 化铝抛光液在打磨处精磨抛光，至表面透亮，且无划伤和光学畸变；
[0047] 如图1所示，所述圆形花瓣状微孔抛光垫外围的花瓣数量为4个，花瓣沿径向的最 大尺寸R为100mm;
[0048] 所述精磨抛光采用手动打磨方式，打磨的载荷小于等于20N，氧化铝抛光液中氧化 铝颗粒的直径小于等于1.5μπι;
[0049] 步骤四、超声清洗与除静电
[0050] 对精磨抛光后的制件进行超声清洗，清洗水的温度为30~40°C，超声频率为30~ 70KHz，然后对制件进行等离子去除静电处理，消电距离为25mm，处理时间为1~lOmin，达到 表面静电〈0.2V。
[0051 ]舷窗制件研抛前和研抛后的光学性能如表2所示：
【主权项】
1. 一种航空有机透明制件的表面研抛方法，所述航空有机透明制件（以下简称制件)是 采用聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯材料制成的，该制件的制备过程是将航空级聚甲基丙烯 酸甲酯或者聚碳酸酯板材进行机械切割、钻孔，使用夹具固定于热成形模具工装上，在烘箱 内加热至材料的软化温度点附近，通过吸塑或者吹塑成型制件后冷却定型，再切除制件边 缘，其特征在于:对制件的表面研抛方法的步骤如下： 步骤一、打磨缺陷 使用600#水砂纸对制件的表面褶皱痕、缩痕缺陷进行粗化打磨，然后使用1200#水砂纸 打磨600#水砂纸在制件表面形成的砂纸痕，再使用3000#水砂纸打磨1200#水砂纸在制件表 面形成的砂纸痕，用去离子水清洗制件的打磨面； 步骤二、去除机械划痕 使用刮刀钝化和去除制件边缘的切割痕，使用600#水砂纸打磨制件边缘使之光顺，然 后使用1200#水砂纸打磨600#水砂纸在制件边缘形成的砂纸痕，再使用3000#水砂纸打磨 1200#水砂纸在制件边缘形成的砂纸痕，用去离子水清洗制件的打磨边缘； 步骤三、精磨抛光 针对聚甲基丙烯酸甲酯材料制备的制件采用以下方法进行精磨抛光： 调整氧化铝抛光液的酸碱度，使pH = 6.5~7,使用圆形花瓣状微孔抛光垫沾取氧化铝 抛光液在打磨处精磨抛光，至表面透亮，且无划伤和光学畸变； 针对聚碳酸酯材料制备的制件采用以下方法进行精磨抛光： 调整氧化铝抛光液的酸碱度，使pH=5~6.5,使用圆形花瓣状微孔抛光垫沾取氧化铝 抛光液在打磨处精磨抛光，至表面透亮，且无划伤和光学畸变； 所述圆形花瓣状微孔抛光垫外围的花瓣数量为4~12个，花瓣沿径向的最大尺寸R为50 ~100mm; 所述精磨抛光的载荷小于等于20N; 步骤四、超声清洗与除静电 对精磨抛光后的制件进行超声清洗，清洗水的温度为30~60°C，超声频率为30~ 70KHz，然后对制件进行等离子去除静电处理，消电距离为25~100mm，处理时间为1~ 1〇111；[11，达到表面静电〈0.2￥。2. 根据权利要求1所述的航空有机透明制件的表面研磨方法，其特征在于，精磨抛光步 骤中所用的氧化铝抛光液中氧化铝颗粒的直径小于等于1.5μπι。
【专利摘要】本发明是一种航空有机透明制件的表面研抛方法，所述航空有机透明制件是采用聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯材料制成的，该方法使用了手动或者低速气动打磨的方式，利用水砂纸和花瓣状的微孔抛光垫以及弱酸性氧化铝抛光液进行了制件的表面研磨与抛光，消除了制件表面的机加工痕迹和成型褶皱痕等缺陷，最后经过超声清洗和等离子去静电完成了航空有机透明制件的表面处理。与现有技术相比，本发明具有高效率和低成本等优点。
【IPC分类】B08B3/12, B24B1/00
【公开号】CN105538047
【申请号】CN201510920886
【发明人】王韬, 颜悦, 吕杰, 厉蕾
【申请人】中国航空工业集团公司北京航空材料研究院
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2015年12月11日