，此时磨头与工件表面的接触压力正好达到预设的压力值，当缸内的气力值超过设定值时，控制器通过开启第二单向高频阀68排气，在抛光过程中，托架4带动磨头61以及气缸整体上下定长运动，当磨头61与工件表面接触时气缸内压力发生变化，压力传感器将压力信号变化值传给控制器66，控制器66控制第一单向高频阀67或第二单向高频阀68，使气缸内压力维持在恒定值，从而保持缸内压力恒定，从而保证既能将工件雕花的飞边与毛刺磨除，同时又不会破坏雕花图案。
[0030]在本实施方式中，所述压力传感器64优选为应变片压力传感器。
[0031]在另一实施方式中，所述自动测距式抛光机还包括打磨模组，所述打磨模组可用于对工件进行粗抛处理，所述机床基座上设置有横跨所述工作台的龙门架，打磨模组与抛光模组设置于龙门架的两侧。
[0032]所述打磨模组设置于工件前进方向的前端，抛光模组设置于打磨模组的后方，工作放置于工作台上先经过打磨模组快速去除大平面以及一些凹凸处的飞边和毛刺，然后再由抛光模组进行仿形抛光，使雕花后的工件经一道操作即可实现打磨片与抛光处理，进一步提尚了古典家具的打磨、抛光效率。
[0033]结合上一实施方式，请参阅图3，在一实施方式中，所述打磨模组包括多组打磨头16，所述打磨头16包括轴承和设置于轴承上的整体式砂布或片状式砂布轮，其中，不同打磨头上设置不同的粗精度的砂布或砂布轮；所述多组打磨头16设置于两相对设置的回转盘20之间，回转盘20连接于转位驱动电机15，打磨头16的轴承传动连接于打磨头驱动装置。优选的，所述转位驱动电机15为步进电机，所述回转盘20设置于回转轴上，回转轴设置于机架19上，回转轴的一端通过减速机构连接于转位驱动电机，回转轴的另一端设置有制动器18，所述两回转盘上设置有多对轴承座17，所述打磨头16的轴承的两端分别设置于两回转盘的轴承座17上，打磨头由打磨头驱动装置驱动可在两转盘间自由旋转，回转盘由驱动电机按程序驱动，使打磨头可绕中轴旋转并定位，从而切换不同的打磨头进行打磨。
[0034]在上述打磨头采用主、从动摩擦轮配合驱动打磨头旋转，在所述打磨头16的轴承上设置有从动摩擦轮14，所述打磨头驱动装置设置有主动摩擦轮12，主动轮12连接于主动摩擦轮驱动电机13，所述主动摩擦轮12由推动装置11控制压紧或离开所述从动摩擦轮14。所述推动装置11可以为气缸或液压缸等，所述主动摩擦轮12及主动摩擦轮驱动电机13可摆动的设置于机架19上，气缸或液压缸的一端固定于机架，另一端连接于主动摩擦轮，通过控制气缸或液压缸伸缩即可控制主动摩擦轮与从动摩擦轮的压紧与分离。
[0035]因此，通过推动装置与打磨头转位装置相配合控制，可使主动摩擦轮与不同的打磨对传动连接，从而可以根据需要快速切换不同的打磨头对工件进行打磨。
[0036]以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效形状或结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种基于压力控制的抛光机，其特征在于，包括: 机床基座、工作台和进行抛光处理的抛光模组，所述工作台可移动地设置于机床基座上，抛光模组设置于工作台上方； 所述抛光模组包括多组抛光头组，所述抛光头组设置于以定长上下运动的托架上； 其中，每个抛光头组包括气缸、压力传感器和设置于气缸推杆末端的磨头，所述压力传感器设置于气缸缸套内，用于检测气缸内部压力，每个抛光头组的压力传感器和气缸均连接于用于控制气缸压力恒定的气压平衡装置。2.根据权利要求1所述的基于压力控制的抛光机，其特征在于，所述气压平衡装置包括控制器、以及分别与控制器连接的第一单向高频阀和第二单向高频阀； 所述第一单向高频阀设置于气缸进气口，用于控制气缸进气； 所述第二单向高频阀设置于气缸排气口，用于控制气缸排气； 所述控制器通过控制每个气缸的第一单向高频阀和第二单向高频阀调节每个气缸内恒定压力。3.根据权利要求1所述的基于压力控制的抛光机，其特征在于，所述压力传感器为应变片压力传感器。4.根据权利要求1所述的基于压力控制的抛光机，其特征在于，还包括打磨模组，所述机床基座上设置有横跨所述工作台的龙门架，打磨模组与抛光模组设置于龙门架的两侧。5.根据权利要求4所述的基于压力控制的抛光机，其特征在于，所述打磨模组包括多组打磨头，所述打磨头包括轴承和设置于轴承上的整体式砂布或片状式砂布轮； 所述多组打磨头设置于两相对设置的回转盘之间，回转盘连接于转位驱动电机，打磨头的轴承上设置有从动摩擦轮，打磨头驱动装置设置有连接于驱动电机的主动摩擦轮，所述主动摩擦轮由推动装置控制压紧或离开所述从动摩擦轮。6.根据权利要求5所述的基于压力控制的抛光机，其特征在于，所述转位驱动电机为步进电机。
【专利摘要】本实用新型公开了一种基于压力控制的抛光机，包括：机床基座、工作台和进行抛光处理的抛光模组，所述工作台可移动地设置于机床基座上，抛光模组设置于工作台上方；所述抛光模组包括多组抛光头组，抛光头组设置于以定长上下运动的托架上；其中，每个抛光头组包括气缸、压力传感器和设置于气缸推杆末端的磨头，压力传感器设置于气缸缸套内，用于检测气缸内部压力，每个抛光头组的压力传感器和气缸均连接于用于控制气缸压力恒定的气压平衡装置。本实用新型基于压力控制的抛光机可精确控制抛光时磨头与工件表面的接触压力，从而实现雕花机械抛光，提高抛光效率。
【IPC分类】B24B29/02
【公开号】CN204686629
【申请号】CN201520371153
【发明人】翁强, 刘清建, 尤涛, 王太勇
【申请人】福建省天大精诺信息有限公司
【公开日】2015年10月7日
【申请日】2015年6月2日