以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法

文档序号:3458432阅读:1021来源:国知局
专利名称:以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法
技术领域
本发明涉及一种太阳能级多晶硅的生产方法,特别涉及 以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法。
技术背景随着能源危机的到来,绿色能源、光伏产业迅猛发展, 太阳能电池用多晶硅材料已成为新能源产业的基石。我国多晶硅的自主供货存在严重缺口, 95%以上依赖进口,近年多 晶硅市场售价的暴涨已经危及到我国多晶硅下游产业的正 常运营,并成为制约我国光伏产业发展的瓶颈。因此,研究 开发低成本太阳能级多晶硅的工艺技术,具有非常重要的意 义。世界先进的多晶硅生产技术过去一直由美、日、德三国 垄断,其生产线工艺技术的产品质量定位几乎均为电子级多晶硅,其生产方法可分为三类1. 以氯气、氢气冶金级工业硅为原料制取三氯氢硅, 再将三氯氢硅氢还原生产多晶硅。2. 以四氯化硅、冶金级硅、氢气为原料制取高纯硅烷,而后硅烷热分解生成多晶硅的工艺技术。3.以氟硅酸、钠、铝、氢为原料制取高纯硅垸,然后 分解的生产技术。这些方法普遍存在生长速率低、 一次转换效率低、产量 低、还原温度高、耗能高, 一次性投资大、建设周期长、投 入产出率低、生产成本高等的问题。并且副产品不能形成产 业链,造成严重的环境危机。 发明内容本发明的目的是要解决现有技术存在的上述问题,提供 一种以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法,该方 法利用高纯石墨还原高纯石英砂,再经过等离子提纯、定向 凝固,可得6N级的太阳能级多晶硅,具有投资少,建设周 期短、生产成本低、工艺简单、无污染、适合产业化的特点。本发明的技术解决方案是(1) 、选择Si02的含量在99。/o以上的硅石料,进行水淬、粉碎、筛分、酸洗、磁选< 高压电离,筛分时保证粉碎的颗 粒度大小为50 120目,筛分掉不符合要求的硅石颗粒; 酸洗时间为48 60小时;高压电离的电压为1 2万伏,使 硅石颗粒纯度达到99. 99%以上,得到高纯石英砂;(2) 、把碳质还原剂和矿热炉中的石墨电极在氯化炉中 高温氯化,氯化温度为1200 1800度,氯化时间20 40小 时,使碳质还原剂的纯度达到99, 9999%以上(3) 、在矿热炉中用碳质还原剂还原高纯石英砂生产硅, 还原前把硅石颗粒烧结成4 10mm大小的颗粒,从矿热炉中 定期放出熔硅;(4) 、把得到的硅液注入到保温炉中,在非氧化气氛下 对产品直接进行高频等离子吹炼除杂,得到粗产品,高频磁 场的电压为8000 12000万伏,频率为1 3. 5兆,同时向熔 硅中添加氧化性气体,以除去硼及镁、铝、钙等金属杂质;(5)、得到的粗产品注入定向凝固炉中进行定向凝固,通 过控制结晶速度和结晶方向,进一步提纯硅,可得到6N级 的多晶硅。上述以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法, 酸洗时按照重量比采用由10 20%氢氟酸,10 25%浓盐酸、 0 10%浓硝酸和余量水组成的混合酸。.上述以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法, 所述的碳质还原剂采用石油焦、炭黑、木炭中任意一种或任 意组合。上述以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法, 还原时从矿热炉中每隔4 10小时放出熔硅。上述以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法, 所述的氧化性气体是指氧气、水汽、氯气、四氯化硅中的一 种或任意组合。上述以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方 法,所述的非氧化气氛是指氢气和氩气的混合气体或氮气,混合气体中按照体积比H2 20 30%、 Ar 80 70%。 本发明的优点(1) 投资少、建设周期短、生产成本低。 设备制造容易,物料循环简单,耗电量低,每公斤约耗电180千瓦时,所以成本低。(2) 工艺简单、适合产业化生产流程短,反应设备为分体结构,易于控制,便于推广。(3) 低排放,无污染。酸洗的废液,通过中和处理达到排放标准在排放。其他 的生产过程没有污染物排放。
具体实施方式
实施例1:(1)、选择Si02的含量在99y。以上的硅石料,进行水淬、 粉碎、筛分、酸洗、磁选、高压电离,筛分时保证粉碎的颗 粒度大小为50 120目,筛分掉不符合要求的硅石颗粒; 酸洗时可采用按照重量比由10 20%氢氟酸,10 25%浓盐 酸、0 10%浓硝酸和余量水组成的混合酸,酸洗时间为48 60小时;高压电离的电压为1 2万伏,使硅石颗粒纯度达 到99.99%以上,得到高纯石英砂。(2) 、把碳质还原剂和矿热炉中的石墨电极在氯化炉中 高温氯化,所述的碳质还原剂可采用石油焦、炭黑、木炭中 任意一种或任意组合,组合时各组份配比不限。氯化温度为 1200 1800度,氯化时间20 40小时,使碳质还原剂的纯 度达到99. 9999%以上。(3) 、在矿热炉中用碳质还原剂还原高纯石英砂生产硅, 还原前把硅石颗粒烧结成4 10mm大小的颗粒,从矿热炉中 定期放出熔硅,定期是指每隔4 10小时。(4) 、把得到的硅液注入到保温炉中,在非氧化气氛下 对产品直接进行高频等离子吹炼除杂,得到粗产品,所述的 非氧化气氛是指氢气和氩气的混合气体或氮气,混合气体中 按照体积比H2 20 30%、 Ar 80 70%;高频磁场的电压为 8000 12000万伏,频率为1 3. 5兆,同时向熔硅中添加氧化 性气体,所述的氧化性气体是指氧气、水汽、氯气、四氯化 硅中的一种或任意组合,组合时各组份配比不限,以除去硼 及镁、铝、钙等金属杂质。(5 )、得到的粗产品注入定向凝固炉中进行定向凝固, 通过控制结晶速度和结晶方向,进一步提纯硅,可得到6N 级的多晶硅。 实施例2:(1)、选择Si02的含量在99。/。以上的硅石料,进行水淬、 粉碎、筛分、酸洗、磁选、高压电离,筛分时保证粉碎的颗粒度大小为50 120目,筛分掉不符合要求的硅石颗粒; 酸洗时可釆用按照重量比由10 20%氢氟酸(浓度40%), 10 25%浓盐酸(浓度36-37%)、 0 10%浓硝酸(浓度60%以上) 和余量水组成的混合酸,酸洗时间为48 60小时;高压电 离的电压为1. 2 1. 8万伏,使硅石颗粒纯度达到99. 99%以 上,得到高纯石英砂。(2)、把碳质还原剂和矿热炉中的石墨电极在氯化炉中 高温氯化,所述的碳质还原剂可采用石油焦、炭黑、木炭中 任意一种或任意组合,组合时各组份配比不限。氯化温度为 1400 1600度,氯化时间28 32小时,使碳质还原剂的纯 度达到99. 9999%以上。(3) 、在矿热炉中用碳质还原剂还原高纯石英砂生产硅, 还原前把硅石颗粒烧结成4 10mm大小的颗粒,从矿热炉中 定期(每隔7 9小时)放出熔硅。(4) 、把得到的硅液注入到保温炉中,在非氧化气氛下 对产品直接进行高频等离子吹炼除杂,得到粗产品,所述的 非氧化气氛是指氢气和氩气的混合气体或氮气,混合气体中 按照体积比H2 20 30%、 Ar 80 70%;高频磁场的电压为 9000 11000万伏,频率为2. 2 2. 5兆,同时向熔硅中添加氧 化性气体,所述的氧化性气体是指氧气、水汽、氯气、四氯 化硅中的一种或任意组合,组合时各组份配比不限,以除去 硼及镁、铝、钙等金属杂质。(5)、得到的粗产品注入定向凝固炉中进行定向凝固,通 过控制结晶速度和结晶方向,进一步提纯硅,可得到6N级 的多晶硅。
权利要求
1. 一种以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法,其特征是1.1、选择SiO2的含量在99%以上的硅石料,进行水淬、粉碎、筛分、酸洗、磁选、高压电离,筛分时保证粉碎的颗粒度大小为50~120目,筛分掉不符合要求的硅石颗粒;酸洗时间为48~60小时;高压电离的电压为1~2万伏,使硅石颗粒纯度达到99.99%以上,得到高纯石英砂;1.2、把碳质还原剂和矿热炉中的石墨电极在氯化炉中高温氯化,氯化温度为1200~1800度,氯化时间20~40小时,使碳质还原剂的纯度达到99.9999%以上;1.3、在矿热炉中用碳质还原剂还原高纯石英砂生产硅,还原前把硅石颗粒烧结成4~10mm大小的颗粒,从矿热炉中定期放出硅液;1.4、把得到的硅液注入到保温炉中,在非氧化气氛下对产品直接进行高频等离子吹炼除杂,得到粗产品,高频磁场的电压为8000~12000万伏,频率为1~3.5兆,同时向熔硅中添加氧化性气体,以除去硼及镁、铝、钙等金属杂质;1.5、得到的粗产品注入定向凝固炉中进行定向凝固,通过控制结晶速度和结晶方向,进一步提纯硅,去除两头杂质高的部分,可得到太阳能级多晶硅。
2.根据权利要求1所述以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法,其特征是酸洗时按照重量比采用由10 20%氢氟酸,10 25%浓盐酸、0 10%浓硝酸和余量水组成 的混合酸。
3、 根据权利要求1所述以高纯石英砂为原料生产太阳 能级多晶硅的方法,其特征是所述的碳质还原剂采用石油 焦、炭黑、木炭中任意一种或任意组合。
4、 根据权利要求1所述以高纯石英砂为原料生产太阳 能级多晶硅的方法,其特征是还原时从矿热炉中每隔4 IO小时放出硅液。
5、 根据权利要求l所述以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法,其特征是所述的氧化性气体是指氧气、水汽、氯气、四氯化硅中的一种或任意组合。
6、根据权利要求l所述以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法,其特征是:所述的非氧化气氛是指氢气和氩气的混合气体承氮气,混合气体中按照体积比H2 20 30%、 Ar 80 70%。
全文摘要
一种以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法,选择SiO<sub>2</sub>的含量在99%以上的硅石料,进行水淬、粉碎、筛分、酸洗、磁选、高压电离,使硅石颗粒纯度达到99.99%以上,得到高纯石英砂;把碳质还原剂和矿热炉中的石墨电极在氯化炉中高温氯化,使碳质还原剂的纯度达到99.9999%以上;在矿热炉中用碳质还原剂还原高纯石英砂生产硅,生产过程中,从矿热炉中定期放出硅液;把得到的硅液注入到保温炉中,在非氧化气氛下对产品直接进行高频等离子吹炼除杂,同时向熔硅中添加氧化性气体;再把硅液注入到定向凝固炉中进行定向凝固,进一步提纯硅,即可得到太阳能级多晶硅。优点是投资少,建设周期短、生产成本低、工艺简单、无污染、适合产业化。
文档编号C01B33/025GK101259963SQ20081001037
公开日2008年9月10日 申请日期2008年2月5日 优先权日2008年2月5日
发明者张守芬, 张海涛, 张海霞, 贺玉凯 申请人:锦州新世纪石英玻璃有限公司
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