专利名称：超净高纯级磷酸提取装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种超净高纯级磷酸提取装置，属于电子化学品生产设备技术领 域。
背景技术：
磷酸(H3P04) —种重要的无机酸，是化肥工业生产中重要的中间产品，用于生产 高浓度磷肥和复合肥料。磷酸还是肥皂、洗涤剂、金属表面处理剂、食品添加剂、饲料添加剂 和水处理剂等所用的各种磷酸盐、磷酸酯的原料。作为磷肥生产的原料，是正磷酸或多磷酸 的水溶液，商品正磷酸的浓度一般为52% 54%。在电子化学品领域，作为酸性腐蚀剂使用。用于电子化学领域的化学产品，要求达 到MOS (金属-氧化物-半导体)标准，即金属杂质含量小于lOOppb，控制1微米粒径粒子 达到SEMI Cl C2标准，适合中小规模集成电路及TFT-IXD等微电子领域的加工工艺。而工 业级磷酸中含有较多的金属杂质和硫，不能满足微电子领域使用要求。
发明内容本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种能降低磷酸中的金属杂质和硫含 量、且可满足微电子领域使用要求的超净高纯级磷酸提取装置。本实用新型的目的是这样实现的一种超净高纯级磷酸提取装置，其特征在于它 包括原料槽、萃取器、溶剂槽、脱硫槽、过滤器、洗涤器、反萃取器、成品槽和碳酸钡溶液槽；所述原料槽和溶剂槽出口分别与萃取器进口相连，所述萃取器出口与脱硫槽进口 相连，所述脱硫槽进口上还连接有碳酸钡溶液槽，所述脱硫槽出口与过滤器进口相连，所述 过滤器出口与洗涤器进口相连，所述洗涤器出口与反萃取器进口相连，所述反萃取器出口 与成品槽相连。本实用新型的有益效果是本实用新型超净高纯级磷酸提取装置，能降低磷酸中的金属杂质和硫含量、且可 满足微电子领域使用要求。生成的超净高纯级磷酸可达到MOS (金属-氧化物-半导体) 标准。
图1为本实用新型超净高纯级磷酸提取装置的结构示意图。其中原料槽1、萃取器2、溶剂槽3、脱硫槽4、过滤器5、洗涤器6、反萃取器7、成品槽8、 碳酸钡溶液槽9。
具体实施方式
参见图1，本实用新型涉及的一种超净高纯级磷酸提取装置，主要由原料槽1、萃取器2、溶剂槽3、脱硫槽4、过滤器5、洗涤器6、反萃取器7、成品槽8和碳酸钡溶液槽9组 成；所述原料槽1和溶剂槽3出口分别与萃取器2进口相连，所述萃取器2出口与脱 硫槽4进口相连，所述脱硫槽4进口上还连接有碳酸钡溶液槽9，所述脱硫槽4出口与过滤 器5进口相连，所述过滤器5出口与洗涤器6进口相连，所述洗涤器6出口与反萃取器7进 口相连，所述反萃取器7出口与成品槽8相连。采用本实用新型装置生产的超净高纯级磷酸，其纯度可达85. 0%以上。
权利要求一种超净高纯级磷酸提取装置，其特征在于它包括原料槽(1)、萃取器(2)、溶剂槽(3)、脱硫槽(4)、过滤器(5)、洗涤器(6)、反萃取器(7)、成品槽(8)和碳酸钡溶液槽(9)；所述原料槽(1)和溶剂槽(3)出口分别与萃取器(2)进口相连，所述萃取器(2)出口与脱硫槽(4)进口相连，所述脱硫槽(4)进口上还连接有碳酸钡溶液槽(9)，所述脱硫槽(4)出口与过滤器(5)进口相连，所述过滤器(5)出口与洗涤器(6)进口相连，所述洗涤器(6)出口与反萃取器(7)进口相连，所述反萃取器(7)出口与成品槽(8)相连。
专利摘要本实用新型涉及一种超净高纯级磷酸提取装置，其特征在于它包括原料槽(1)、萃取器(2)、溶剂槽(3)、脱硫槽(4)、过滤器(5)、洗涤器(6)、反萃取器(7)、成品槽(8)和碳酸钡溶液槽(9)；所述原料槽(1)和溶剂槽(3)出口分别与萃取器(2)进口相连，所述萃取器(2)出口与脱硫槽(4)进口相连，所述脱硫槽(4)进口上还连接有碳酸钡溶液槽(9)，所述脱硫槽(4)出口与过滤器(5)进口相连，所述过滤器(5)出口与洗涤器(6)进口相连，所述洗涤器(6)出口与反萃取器(7)进口相连，所述反萃取器(7)出口与成品槽(8)相连。本实用新型超净高纯级磷酸提取装置，能降低磷酸中的金属杂质和硫含量、且可满足微电子领域使用要求。生成的超净高纯级磷酸可达到MOS标准。
文档编号C01B25/234GK201770482SQ201020281608
公开日2011年3月23日 申请日期2010年8月2日 优先权日2010年8月2日
发明者戈士勇 申请人:江阴市润玛电子材料有限公司