1.一种超亲水性清洁二氧化硅减反射膜，其特征在于，该二氧化硅减反射膜为多孔膜结构，孔径在5-8nm之间，膜层为溶胶凝胶法酸性膜，表面富含羟基，静态水接触角小于5°，膜层厚度为100-200nm，折射率在1.2-1.4之间。
2.一种权利要求1所述的超亲水性自清洁二氧化硅减反射膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)以正硅酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇为原料制备二氧化硅颗粒胶液A；
(2)将二氧化硅颗粒胶液A陈化后进行回流处理去除碱催化剂；
(3)以经回流处理后的二氧化硅颗粒胶液A、正硅酸乙酯、去离子水、酸催化剂、无水乙醇为原料制备胶液B；
(4)将清洗洁净的玻璃基片从溶胶B中提拉镀膜并进行退火；
(5)将退火制备的膜层在低浓度盐酸中浸泡，浸泡完成后用去离子水清洗去除残留盐酸；
(6)将膜层在水蒸气下放置。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)为：将去离子水、碱催化剂、无水乙醇进行搅拌反应2h后将正硅酸乙酯加入，搅拌1-24h后陈化3-4天之间得到二氧化硅颗粒胶液A。
4.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中正硅酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇摩尔比为1∶(1-10)∶(0.005-0.05)∶(10-70)。
5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)为：将回流处理后的二氧化硅颗粒胶液A、去离子水、酸催化剂、无水乙醇进行搅拌反应2h后将正硅酸乙酯加入，持续搅拌1-24h后得到胶液B。
6.根据权利要求2或5所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中正硅酸乙酯、去离子水、酸催化剂、无水乙醇摩尔比为1∶(1-10)∶(0.005-0.2)∶(10-70)。
7.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：在步骤(1)和步骤(3)中正硅酸乙酯的加入量相同。
8.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述碱催化剂为氢氧化钾、氢氧化钠和氨水中的一种。
9.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述酸催化剂为醋酸、盐酸和硝酸中的一种。
10.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于；所述的低浓度盐酸浸泡时间为1-5h，盐酸浓度为1-3mol/L，所述的水蒸气放置时间为1-5h。
11.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(4)中提拉速度为5-40cm/min，退火温度范围为250℃-600℃，时间为5-60min。
12.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述玻璃基片为平板玻璃或管状玻璃。