基板支撑结构以及退火炉的制作方法

本实用新型涉及半导体设备技术领域，特别是涉及一种基板支撑结构以及退火炉。

背景技术：

在平板显示的制备中，需要使用退火炉对薄膜沉积或离子注入后的玻璃基板进行退火工艺，以达到改善晶体结构、消除薄膜缺陷等工艺目的。退火工艺一般设定在真空、或惰性气体的腔室中进行，温度设定350～500℃，处理时间30min～1h。其中，玻璃基板由支撑件撑起在退火炉的腔室内，并通过加热器的热辐射进行工艺。

在现有技术中，退火炉中的支撑件由石英、陶瓷等材料制得，为顶部打磨、直径5～10mm的柱状结构。当进行退火工艺时，机械手放置玻璃基板到支撑件上，基板颤动造成基板背部与支撑件顶部摩擦，导致基板背部划伤；当工艺腔室中通入惰性气体、有气流产生时，也将造成基板、支撑件相对位置变化，导致基板背部划伤；另外，基板玻璃在退火工艺中各位置区域的下垂量有所不同，会加剧局部区域与支撑件顶部摩擦，导致基板背部划伤。

为避免对产品有效区造成不良影响，在现有技术中支撑件布置在玻璃基板的边缘位置；但基板的边缘位置上通常布置对位Mark(标记)，当背部划伤时，造成玻璃基板在后续工艺中对位不良；并且，如果玻璃基板的背部划伤，也常带来玻璃基板边缘裂纹、缺角，甚至碎片的风险，对平板显示的制造造成严重的不良影响。

技术实现要素：

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种基板支撑结构，包括：

固定台以及若干用于支撑一基板的支撑件，所述支撑件固定于所述固定台上，所述支撑件包括球体以及容纳结构，所述容纳结构具有一上方开口的容纳空间，所述球体的底部放置于所述容纳空间内，所述球体在所述述容纳空间内 转动，所述球体的顶部从所述容纳空间的开口处高出所述容纳结构。

进一步的，在所述基板支撑结构中，所述支撑件阵列排列。

进一步的，在所述基板支撑结构中，所述固定台包括多个纵横交错的固定条。

进一步的，在所述基板支撑结构中，所述支撑件设置于纵向所述固定条与横向所述固定条的相交处。

进一步的，在所述基板支撑结构中，所述基板支撑结构还包括多个用于限制所述基板水平位置的限位件，所述限位件的顶部比所述支撑件的顶部高，横向所述固定条的两端分别延伸至纵向所述固定条的外侧，所述限位件位于横向所述固定条的两端；或/和，纵向所述固定条的两端分别延伸至横向所述固定条的外侧，所述限位件位于纵向所述固定条的两端。

进一步的，在所述基板支撑结构中，所述基板支撑结构还包括多个用于限制所述基板水平位置的限位件，所述限位件固定于所述固定台上，并位于若干所述支撑件的外侧，所述限位件的顶部比所述支撑件的顶部高。

进一步的，在所述基板支撑结构中，所述支撑件还包括底部结构，所述底部结构位于所述容纳结构下方，所述容纳结构通过所述底部结构固定于所述固定台上。

进一步的，在所述基板支撑结构中，所述容纳结构为镂空结构。

进一步的，在所述基板支撑结构中，所述容纳结构包括一环以及至少一支架，所述环通过所述支架固定于所述固定台上，所述环和支架形成所述容纳空间。

根据本实用新型的另一面，还提供一种退火炉，包括如上任意一项所述的基板支撑结构。

在本实用新型提供一种基板支撑结构以及退火炉中，所述基本支撑结构包括固定台以及若干用于支撑一基板的支撑件，所述支撑件固定于所述固定台上，所述支撑件包括球体以及容纳结构，所述容纳结构具有一上方开口的容纳空间，所述球体的底部放置于所述容纳空间内，所述球体在所述述容纳空间内转动，所述球体的顶部从所述容纳空间的开口处高出所述容纳结构。在使用时，基板放置于所述支撑件上。当工艺前将基板放置时，基板的颤动可以通过所述支撑件中球体的运动，避免颤动对基板的背部造成划伤；并且在工艺过程中，若通入惰性气体时，可以通过所述支撑件中球体的运动，避免气流吹动对基板的背 部造成划伤。

进一步的，在所述基板支撑结构以及退火炉中，所述支撑件阵列排列，在工艺过程中，如果基板的因受热造成区域下垂量不同，可以通过所述支撑件的阵列排列缓解。

进一步的，在所述基板支撑结构以及退火炉中，所述容纳结构为镂空结构，可以避免产尘，并易于对长期使用中产生的微粒进行清洁。

进一步的，在所述基板支撑结构以及退火炉中，所述基板支撑结构还包括多个限位件，所述限位件的顶部比所述支撑件的顶部高，如果由于所述球体的运动引起了基板偏移，可以通过所述限位件对所述基板的位置进行控制。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的基板支撑结构的俯视图；

图2为图1沿AA’线的剖面图；

图3为本实用新型一实施例中支撑件的示意图；

图4为本实用新型一实施例中环与球体的示意图。

具体实施方式

下面将结合示意图对本实用新型的基板支撑结构以及退火炉进行更详细的描述，其中表示了本实用新型的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型，而仍然实现本实用新型的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本实用新型的限制。

在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本实用新型。根据下面说明，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

本实用新型的核心思想在于，本实用新型提供一种基板支撑结构，包括固定台以及若干用于支撑一基板的支撑件，所述支撑件固定于所述固定台上，所述支撑件包括球体以及容纳结构，所述容纳结构具有一上方开口的容纳空间，所述球体的底部放置于所述容纳空间内，所述球体在所述述容纳空间内转动，所述球体的顶部从所述容纳空间的开口处高出所述容纳结构。在使用时，基板放置于所述支撑件上。当工艺前将基板放置时，基板的颤动可以通过所述支撑 件中球体的运动，避免对基板的背部造成划伤；并且在工艺过程中，若通入惰性气体时，可以通过所述支撑件中球体的运动，避免对基板的背部造成划伤。

根据上述核心思想，本发明还提供一种，包括所述基板支撑结构的退火炉。

以下请参阅图1至图4具体说明本实用新型的基板支撑结构以及退火炉，在本实施例中，所述基板支撑结构设置于退火炉内，当基板(例如玻璃基板)在薄膜沉积或离子注入后进行退火工艺时，所述基板支撑结构用于撑起所述基板。

如图1和图2所示，所述基板支撑结构1包括固定台110以及固定于所述固定台110上的若干支撑件120，基板140放置于所述支撑件120上。较佳的，所述固定台110包括多个纵横交错的固定条，如图1所示，所述固定台110包括多个横向所述固定条111以及多个纵向所述固定条112，多个横向所述固定条111分别与多个纵向所述固定条112交错排列，形成“井”字形，“井”字形的所述固定台110有利于热量的传播。在本实用新型的其它实施例中，所述固定台110并不限于包括多个纵横交错的固定条，所述固定台110还可以为一板形结构，只要可以支撑固定所述支撑件120，亦在本实用新型的思想范围之内。

较佳的，所述支撑件120阵列排列，在退火工艺过程中，如果所述基板140的因受热造成区域下垂量不同，可以通过所述支撑件120的阵列排列缓解。在本实施例中，所述支撑件120设置于纵向所述固定条112与横向所述固定条111的相交处。

如图3所示，所述支撑件120包括球体121以及容纳结构122，所述容纳结构122具有一上方开口的容纳空间120a，所述球体121的底部放置于所述容纳空间120a内，所述球体121在所述述容纳空间120a内转动，所述球体121的顶部从所述容纳空间120a的开口处高出所述容纳结构122，在使用时，将所述基板140放置于所述基板支撑结构1上，所述球体121的顶部支撑所述基板140。当退火工艺前将所述基板140放置时，所述基板140的颤动可以通过所述支撑件120中球体121的运动，避免颤动对所述基板140的背部造成划伤；并且，在退火工艺过程中，若通入惰性气体时，可以通过所述支撑件120中球体121的运动，避免气流吹动对所述基板140的背部造成划伤。

较佳的，所述球体121为硬质光滑球体，例如所述球体121为石英球体或陶瓷球体，可以避免所述球体在转动时对所述基板140的背部造成划伤，所述球体121的直径为5mm～10mm。在本实施例中，所述支撑件120还包括底部结 构123，所述底部结构123位于所述容纳结构122下方，所述容纳结构122通过所述底部结构123固定于所述固定台110上。

较佳的，所述容纳结构122为镂空结构，可以避免产尘，并易于对长期使用中产生的微粒进行清洁。在本实施例中，如图3所示，所述容纳结构122包括一环1221以及至少一支架1222，所述环1221通过所述支架1222固定于所述底部结构123上，所述环1221和支架1222形成所述容纳空间120a。如图4所示，所述环1221的内径D2比所述球体121的直径D1略大，优选的，所述环1221的内径D2比所述球体121的直径D1大0.1mm～2mm，例如0.5mm、1mm、1.5mm等，可以使得所述球体121在所述容纳空间120a内自由转动，且并不会对所述基板140的背部造成划伤。

较佳的，如图1和图2所示，所述基板支撑结构1还包括多个限位件130，所述限位件130固定于所述固定台110上，并位于若干所述支撑件120的外侧，所述限位件130的顶部比所述支撑件120的顶部高，优选的，所述限位件130的顶部比所述支撑件120的顶部高出的高度H1为2mm～50mm，例如5mm、10mm、20mm、30mm、40mm等，以保证所述限位件130的顶部可以高出所述基板140的顶部，从而可以对所述基板140的位置进行限制。较佳的，所述限位件130的顶部为弧形，以避免对所述基板140造成损伤。

当所述基板140放置于所述支撑件120上时，所述限位件130距所述基板140的边缘的间隔W1为2mm～8mm，如果由于所述球体121的运动引起了所述基板140的偏移，可以通过所述限位件130对所述基板140的位置进行控制。

在本实施例中，如图1所示，横向所述固定条111的两端分别延伸至纵向所述固定条112的外侧，所述限位件130位于横向所述固定条111的两端。此外，在本实用新型的其他实施例中，还可以纵向所述固定条112的两端分别延伸至横向所述固定条111的外侧，所述限位件130位于纵向所述固定条112的两端，根据本实用新型的上述描述，此为本领域的普通技术人员可以理解的，在此不做赘述。

本实用新型的较佳实施例如上所述，但本实用新型并不限于上述公开的范围，例如：

在本实用新型的其它实施例中，所述容纳结构并不限于为镂空结构，例如，所述容纳结构可以为柱形结构，所述柱形结构的上部有一凹槽，所述凹槽形成所述容纳空间，所述球体放置于所述凹槽内，亦可以实现避免颤动或气流吹动 对所述基板140的背部造成划伤，亦在本实用新型的思想范围之内；

此外，所述镂空结构并不限于包括所述环和支架，所述镂空结构还可以为具有镂空侧壁的所述柱形结构，根据本实用新型的上述描述，此为本领域的普通技术人员可以理解的，在此不做赘述；

另外，所述固定台并不限于包括多个横向所述固定条以及多个纵向所述固定条，所述固定台还可以为一个板状固定台，所述板状固定台的长度大于所述基板的长度，和/或所述板状固定台的长度大于所述基板的宽度，所述限位件固定于所述固定台上，并位于若干所述支撑件的外侧，所述限位件的顶部比所述支撑件的顶部高，以可以对所述基板的位置进行控制，亦在本发明的思想范围之内。

并且，本实用新型的上述实施例是针对在退火工艺时，退火炉中设置可以支撑所述基板的所述基板支撑结构，在本实用新型的其它实施例中，也可将本发明用于其它的工艺中，其具体实施步骤与思路和本实用新型的上述实施例相似，在本实用新型实施例的启示下，这一应用的延伸对本领域普通技术人员而言是易于理解和实现的，在此不再赘述。

综上，本实用新型提供一种基板支撑结构，包括固定台以及若干用于支撑一基板的支撑件，所述支撑件固定于所述固定台上，所述支撑件包括球体以及容纳结构，所述容纳结构具有一上方开口的容纳空间，所述球体的底部放置于所述容纳空间内，所述球体在所述述容纳空间内转动，所述球体的顶部从所述容纳空间的开口处高出所述容纳结构。在使用时，基板放置于所述支撑件上。当工艺前将基板放置时，基板的颤动可以通过所述支撑件中球体的运动，避免对基板的背部造成划伤；并且在工艺过程中，若通入惰性气体时，可以通过所述支撑件中球体的运动，避免对基板的背部造成划伤。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。