1.一种CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置，其特征在于：包括有中空的伸缩套杆，所述伸缩套杆的端部安装有支撑台，所述支撑台的外周边分布有间隔设置的支撑杆，所述支撑杆的端部分别安装有清洁刷头，所述清洁刷头包括有弧形刷头、锥形刷头、平面刷头，所述支撑台的中部安装有与伸缩套杆内孔连通且可转动的中空细杆，所述中空细杆以及伸缩套杆之间贯穿一个细长的软管，所述软管的头部设有多个圆形喷孔。
2.根据权利要求1所述的CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置，其特征在于：所述的清洁刷头分别用一种带有弹性的材料制成，其大小可以让无尘纸摊开后能够包住刷头表面。
3.根据权利要求1所述的CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置，其特征在于：所述的支撑台为圆形结构，其外周边均布有三个支撑杆，其中一个支撑杆的端部安装有弧形刷头，另一个支撑杆的端部安装有锥形刷头，最后一个支撑杆安装有平面刷头。
4.根据权利要求1所述的CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置，其特征在于：所述的弧形刷头和平面刷头上分别设有用于绑扎固定无尘纸的凹槽。