本实用新型涉及石墨烯制取领域，特别是一种石墨烯制取设备。
背景技术：
石墨烯是一种由碳原子以sp2杂化方式形成的蜂窝状平面薄膜，是一种只有一个原子层厚度的准二维材料，所以又叫做单原子层石墨。由于其十分良好的强度、柔韧、导电、导热、光学特性，石墨烯材料在物理学、材料学、电子信息、航天航空等领域都得到了广泛的应用。比较主流的方法有外延生长法、化学气相沉淀CVD法和氧化石墨还原法等。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种石墨烯制取设备。
本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：一种石墨烯制取设备。包括反应仓；所述反应仓底部安装加热器；所述加热器上方设置底板；所述反应仓左下角设置有机气体输入口；所述反应仓右下角设置惰性气体输入口；所述反应仓顶端设置气体出口；所述反应仓侧板设置真空泵；所述反应仓左上侧设置射频器A；所述反应仓侧板设置温度计；所述反应仓右上侧设置射频器B。所述气体出口与惰性气体输入口连接管道；所述管道右侧上部设置出口；所述管道右侧下部设置入口。所述有机气体输入口（1）设置有阀门A；所述出口设置阀门B；所述入口设置阀门C。
本实用新型具有以下优点：
1、结构简单，操作方便。
2、所需温度低，制备石墨烯比表面积大。
附图说明
图1 为本实用新型的结构示意图；
图中：1-有机气体输入口，2-阀门A，3-底板，4-真空泵，5-射频器，6-反应仓，7-管道，8-阀门B，9-射频器，10-阀门C，11-惰性气体输入口，12-加热器，13-气体出口，14-温度计，15-气体出口，16-气体入口。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的描述，但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。
如图1所示，一种石墨烯制取设备，它包括反应仓6；所述反应仓6底部安装加热器12；所述加热器12上方设置底板3；所述反应仓6左下角设置有机气体输入口1；所述反应仓6右下角设置惰性气体输入口11；所述反应仓6顶端设置气体出口13；所述反应仓6侧板设置真空泵4；所述反应仓6左上侧设置射频器A5；所述反应仓6侧板设置温度计14；所述反应仓6右上侧设置射频器B9。所述气体出口13与惰性气体输入口11连接管道7；所述管道7右侧上部设置出口15；所述管道右侧下部设置入口16。所述有机气体输入口1设置有阀门A2；所述出口15设置阀门B8；所述入口16设置阀门C16。
本实用新型的工作过程如下：关闭阀门A、阀门B、阀门C，打开真空泵，将反应仓内的空气抽出。关闭阀门A，打开阀门B、阀门C，通入惰性气体，当检测到气体输出口的气体为惰性气体后，关闭阀门B和阀门C。打开加热器，加热反应仓内温度到400-500摄氏度。打开射频器A和射频器B，激发反应仓气体产生等离子体。打开阀门A，通入有机气体，同时打开阀门C继续通入惰性气体。