1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层、第一氧化锌铝层、第一金属镍铬层、金属银层、第二金属镍铬层、第二氧化锌铝层和第二氮化硅层组成，所述第一氮化硅层的厚度大于等于第二氮化硅层的厚度，所述第一氧化锌铝层的厚度小于等于第二氧化锌铝层的厚度，所述第一金属镍铬层的厚度大于等于第二金属镍铬层的厚度。
2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度大于第二氮化硅层的厚度，所述第一氧化锌铝层的厚度小于第二氧化锌铝层的厚度，所述第一金属镍铬层的厚度大于第二金属镍铬层的厚度。
3.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度与第二氮化硅层的厚度相同，所述第一氧化锌铝层的厚度与第二氧化锌铝层的厚度相同，所述第一金属镍铬层的厚度与第二金属镍铬层的厚度相同。
4.根据权利要求3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片的厚度为5-10mm。
5.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为40-50nm，所述第二氮化硅层的厚度35-40nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为15-22nm，所述第二氧化锌铝层的厚度为23-30nm，所述第一金属镍铬层的厚度为2-3nm，所述第二金属镍铬层的厚度为0.5-2nm。
6.根据权利要求5所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为45nm，所述第二氮化硅层的厚度40nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为20nm，所述第二氧化锌铝层的厚度为25nm，所述第一金属镍铬层的厚度为2nm，所述第二金属镍铬层的厚度为1nm。
7.根据权利要求5所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为40nm，所述第二氮化硅层的厚度40nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为20nm，所述第二氧化锌铝层的厚度为25nm，所述第一金属镍铬层的厚度为2nm，所述第二金属镍铬层的厚度为2nm。
8.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述金属银层的厚度为10-20nm。
9.一种低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1、选择5-10mm厚度的玻璃基片，按预设尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；
S2、将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa，线速度设置为2-4m/min；
S3、将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为100-120KW，在玻璃基片上溅射厚度为40-50nm的第一氮化硅层；
S4、设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为20-24KW，在玻璃基片上溅射厚度为15-22nm的第一氧化锌铝层；
S5、设置第三真空磁控溅射镀膜设备的功率为2-3KW，在玻璃基片上溅射厚度为2-3nm的第一金属镍铬层；
S6、设置第四真空磁控溅射镀膜设备的功率为4-4.5KW，在玻璃基片上溅射厚度为10-20nm的金属银层；
S7、设置第五真空磁控溅射镀膜设备的功率为2-3KW，在玻璃基片上溅射厚度为0.5-2nm的第二金属镍铬层；
S8、设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为20-24KW，在玻璃基片上溅射厚度为23-30nm的第二氧化锌铝层；
S9、设置第七高真空磁控溅射镀膜设备的功率为100-120KW，在玻璃基片上溅射厚度为35-40nm的第二氮化硅层；即得低辐射镀膜玻璃。
10.根据权利要求9所述的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述S3中第一氮化硅层的厚度为45nm，所述S4中第一氧化锌铝层的厚度为20nm，所述S5中第一金属镍铬层的厚度为2nm，所述S7中第二金属镍铬层的厚度为1nm，所述S8中第二氧化锌铝层的厚度为25nm，所述S9中第二氮化硅层的厚度40nm。