选定部分上。根据一个例子，调节机制16可包括检流计，其与反射表面15操作性地相连，从而可以通过检流计使得反射表面15沿着相对于玻璃带44的轴转动。例如，反射表面15可安装在转轴18上，通过检流计马达对其进行驱动并使其绕着轴18a转动，如双箭头19所示。
[0032]如图1的实施方式所示，反射设备14相对于下拉玻璃成型设备20定位，从而使得可以在玻璃带的至少一个预选定部分的厚度变得固定之前，将激光束13从反射设备14的反射表面15导向到所述处于粘性状态的玻璃带的至少一个预选定部分上。在图1的实施方式中，将反射激光束17导向到与成形楔形件22的根部34明显相邻的玻璃基材，在该位置熔融玻璃的分开的流已经会聚形成处于粘性状态的玻璃带44，但是在该位置玻璃带的厚度还没有固定。但是，无需将反射激光束17导向到与根部34明显相邻的玻璃带44，并且可以将反射激光束17导向到玻璃带处于粘性状态的任意位置的玻璃带。通过增加温度并且降低玻璃基材的预选定部分处于粘性状态且其厚度还未固定的位置处的玻璃基材的预选定部分的粘度，在例如玻璃基材的预选定部分处存在的热机械和其他作用力的影响下，玻璃基材的预选定部分会倾向于流动，从而使得玻璃基材的预选定部分的厚度会变得在该玻璃基材的预选定部分处是基本均匀的。
[0033]本领域技术人员应理解的是，图1所示的下拉玻璃成型设备20通常装纳在外壳(未示出)中，以控制玻璃带44的热环境。在牵拉辊46的位置处也会提供外壳(未示出)，也是为了控制玻璃带的热环境。但是，控制设备20的位置可略低于用于下拉玻璃成型设备20的外壳并且高于用于牵拉辊46的外壳。在任意情况下，激光产生器12和反射设备14相对于基材或者玻璃带44排列，从而将通过激光产生器12产生并发射并通过反射设备14的反射表面15反射的激光束13反射到玻璃带44的至少一个预选定部分上，位置是玻璃带处于粘性状态。
[0034]基于上文所述，应理解的是，根据一个方面，提供了对基材(例如玻璃带44)的至少一个预选定部分的厚度进行控制的方法。该方法可包括产生激光束，将激光束导向到处于粘性状态的基材的至少一个预选定部分上，其中所述基材的至少一个预选定部分的厚度不是固定的。激光束会具有充足的能量，以增加温度并使得处于粘性状态的基材的至少一个预选定部分的粘度降低至足以改变所述基材的至少一个预选定部分的厚度。因此，可以使得所述基材的至少一个预选定部分获得所需的厚度。
[0035]根据另一个方面，将激光束导向处于粘性状态的基材的至少一个预选定部分上的步骤包括:将激光束从产生了激光束的激光束产生器导向反射表面，激光束从所述反射表面反射到所述处于粘性状态的基材的至少一个预选定部分。在这两个方面中，激光束可以被导向到处于粘性状态的基材的多个预选定部分上，并且所述基材的多个预选定部分可以排列在基材的整个宽度上，如图1所示，例如相对于玻璃带44。此外，如下文详述，在一个示例性实施方式中，可以对激光束在处于粘性状态的基材的多个预选定部分的每一个上的停留时间进行选择性控制。在所有这些方面的例子中，基材可以包括下拉玻璃成型过程中产生的玻璃带，例如玻璃带44。
[0036]图2包括显示与控制设备10合作的操作设备的一个方面的框图，其中具有箭头的实线表示激光束，虚线表示电子控制信号。激光功率控制单元50对激光产生器12的操作进行控制，使得在激光产生器12产生的激光束13的波长和功率会包括预选定的值。此外，激光功率控制单元50可控制激光产生器12产生激光束13期间的时间间隔。进而，提供控制电脑52对激光功率控制单元50的操作进行适当控制，从而激光功率控制单元50会使得激光产生器12在预选定的时间间隔期间产生具有预选定的波长和功率特性的激光束13。同时，控制电脑52与反射设备14操作性地相连，从而控制调节机制16的运行，并且在采用检流计的具体例子中，控制检流计的马达。因此，控制电脑52能够相对于通过反射表面接收的激光束13以及待控制厚度的处于粘性状态的玻璃基材的预选定部分的位置，调节反射表面15的姿势和位置。
[0037]基于上文参考图1和2所述的方面、实施方式和例子，应理解的是，根据一个示例性实施方式，调节机制16可配置成对于预选定的时间段，相对于接收的激光束13以及反射设备14的反射表面15处的激光束的反射，将反射设备14的反射表面15调节成多个不同的姿势。作为结果，可以对于各个预选定的时间段，将激光束13导向到玻璃基材的宽度上的处于粘性状态的玻璃带44的多个预选定部分上，如图1的反射激光束17所示，从而对各个预选定部分的玻璃基材的厚度进行控制。更具体地，参见图2所示的方面，可以对控制电脑52进行编程，从而使得调节机制16以如下方式控制反射表面15的姿势:对于预选定的时间段，将反射激光束17导向到玻璃带44的预选定部分上，该预选定的时间段可以发生变化，例如基于经验或者任意其他的玻璃带的预选定部分的厚度所需要控制的变化程度所确定。
[0038]可以在各种情况下发生与基材(例如玻璃带44)的生产相关的厚度的不均匀性。例如，可以在基材的单个局部化部分中存在不均匀性，并且该不均匀性可相对于基材的相邻部分的厚度存在或者相对于基材的单个局部化分布自身存在。在任意情况下，仅需要使得反射设备14将激光束13以合适的能量水平和波长反射到处于粘性状态的基材的该单个部分，目的是使得所述基材的单个部分的厚度到达最终生产的基材中所需的厚度。这是通过对电脑52进行编程，使得反射设备14的调节机制16控制调节机制16的反射表面15的姿势和位置，并使得功率控制单元50控制通过激光产生器12产生的激光束13的能量水平和波长。又例如，基材中可以存在两个或更多个具有厚度不均匀性的不同部分。在该情况下，可以对电脑52进行编程，从而使得反射设备14的调节机制16控制反射表面15的姿势和位置，以使得反射束17持续地与基材中存在不均匀性的两个或更多个部分接触。此外，对电脑进行编程以使得功率控制单元50控制通过激光产生器12产生的激光束13的能量水平和波长，从而使得这两个或更多个部分的厚度发生变化，以使得它们分别具有最终生产的基材中所需的厚度。此外，可以对电脑52进行编程，以通过调节机制16的操作，使得反射束17在基材的两个或更多个不均匀部分停留所需的时间段，其足以使得各个部分的粘度下降从而可以对不均匀部分的厚度进行合适的变化。又例如，基材中存在的厚度不均匀性可以位于整个基材上，包括存在于玻璃带44的侧边缘48的任意珠粒。同样地，可以对电脑52进行适当地编程，以通过功率控制单元50的控制，使得激光产生器12产生具有合适强度和波长的激光束13，并通过反射设备14的方式，使得激光束13连续地来回扫过基材，同时在基材上要进行厚度校正的部分停留使得基材的这些部分的粘度降低至导致基材的这些部分获得基材产生时的各自所需厚度所需的时间段。
[0039]可以以各种方式完成对电脑52的适当编程所需的信息和数据的建立。例如，可以在已经生产的基材上进行厚度测量痕迹，目的是鉴定基材中存在