] 本例中，作为透明基体，采用使用实施了化学强化处理的玻璃基板（旭硝子株式 会社制、商品名'Dragontrail"（注册商标））并对该玻璃基板的第一主面进行了规定的磨 砂处理而得到的玻璃基板（以下记为透明基体A)。
[0125] 然后，在透明基体A的第一主面上以下述步骤形成防污膜。
[0126] 首先，将含氟有机硅化合物（信越化学株式会社制、商品名：KY-185)导入加热容 器内作为蒸镀材料。然后，通过对加热容器内利用真空泵脱气10小时以上而除去溶液中的 溶剂，从而制成含氟有机硅化合物覆膜形成用组合物。
[0127] 接下来，将装有上述含氟有机硅化合物膜形成用组合物的加热容器加热至270°C。 在达到270°C后，将其状态保持10分钟直至温度稳定为止。
[0128] 然后，对设置在真空室内的透明基体A的第一主面（经磨砂处理的面），从与装有 上述含氟有机硅化合物膜形成用组合物的加热容器连接的喷嘴供给含氟有机硅化合物膜 形成用组合物，并进行成膜。
[0129] 成膜时，在通过设置在真空室内的晶体振荡器监控器测定膜厚的同时进行成膜， 直至形成在透明基体A上的含氟有机娃化合物膜的膜厚达到10nm。
[0130] 在含氟有机硅化合物膜达到到IOnm的时刻停止从喷嘴供给原料，并从真空室取 出形成有含氟有机硅化合物膜的透明基体A。
[0131] 将取出的形成有含氟有机硅化合物膜的透明基体A以膜面向上的方式设置在热 板上，并在大气中在150°C下进行60分钟热处理。
[0132] 对于以上述方式制得的试样，进行上述表面形状测定、雾度测定及摩擦耐久性试 验。将结果示于表1。
[0133] [例 2]
[0134] 作为透明基体，采用使用实施了化学强化处理的玻璃基板（旭硝子株式会社制、 商品名'Dragontrail"（注册商标））并对该玻璃基板的第一主面进行了磨砂处理的透明 基体B，除此以外，以与例1相同的方式在透明基体B的第一主面上形成防污膜。对于制得 的带防污膜的透明基体，以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表1。
[0135] [例 3]
[0136] 作为透明基体，采用使用实施了化学强化处理的玻璃基板（旭硝子株式会社制、 商品名'Dragontrail"（注册商标））并对该玻璃基板的第一主面进行了磨砂处理的透明 基体C，除此以外，以与例1相同的方式在透明基体C的第一主面上形成防污膜。对于制得 的带防污膜的透明基体以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表1。
[0137] [例 4]
[0138] 在透明基体A上以下述方式形成低反射膜。
[0139] 首先，在导入氩气中混合有10体积％的氧气的混合气体的同时使用氧化铌靶 (AGC陶瓷公司制、商品名NBO靶）在压力0· 3Pa、频率20kHz、功率密度3. 8W/cm2、反向脉冲 宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，从而在透明基体A的第一主面上形成厚度13nm的包含 氧化银（n i obi a)的高折射率层。
[0140] 接下来，在导入氩气中混合有40体积％的氧气的混合气体的同时使用硅靶在压 力0. 3Pa、频率20kHz、功率密度3. 8W/cm2、反向脉冲宽度5微秒的条件下，在脉冲宽度5微秒 的条件下进行脉冲派射，从而在上述高折射率层上形成厚度30nm的包含氧化娃（silica) 的低折射率层。
[0141] 接下来，在导入氩气中混合有10体积％的氧气的混合气体的同时使用氧化铌靶 (AGC陶瓷公司制、商品名NBO靶）在压力0· 3Pa、频率20kHz、功率密度3. 8W/cm2、反向脉冲 宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，从而在上述低折射率层上形成厚度IlOnm的包含氧化 银（niobia)的高折射率层。
[0142] 接下来，在导入氩气中混合有40体积％的氧气的混合气体的同时使用硅靶在压 力0. 3Pa、频率20kHz、功率密度3. 8W/cm2、反向脉冲宽度5微秒的条件下，在脉冲宽度5微 秒的条件下进行脉冲溅射而形成厚度90nm的包含氧化硅（silica)的低折射率层。
[0143] 以上述方式形成了总计层叠有4层氧化铌（niobia)和氧化硅（silica)的低反射 膜。
[0144] 接下来，以与例1相同的方式在低反射膜上形成防污膜。
[0145] 对于制得的带防污膜的透明基体，以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表 1〇
[0146] [例 5]
[0147] 作为透明基体，采用使用实施了化学强化处理的玻璃基板（旭硝子株式会社制、 商品名'Dragontrail"（注册商标））并对该玻璃基板的第一主面进行了磨砂处理的透明 基体D，除此以外，以与例1相同的方式在透明基体D的第一主面上形成防污膜。对于制得 的带防污膜的透明基体以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表1。
[0148] [例 6]
[0149] 作为透明基体，采用使用实施了化学强化处理的玻璃基板（旭硝子株式会社制、 商品名'Dragontrail"（注册商标））并对该玻璃基板的第一主面进行了磨砂处理的透明 基体E，除此以外，以与例1相同的方式在透明基体E的第一主面上形成防污膜。对于制得 的带防污膜的透明基体以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表1。
[0150] [例 7]
[0151] 作为透明基体，使用与例5相同的透明基体D，除此以外，以与例4相同的方式形成 低反射膜及防污膜，对于制得的带防污膜的透明基体以与例1相同的方式进行评价。将结 果示于表1。
[0152][表 1]
[0154] 根据表1所示的结果可知，关于满足本发明规定的例1~4,在摩擦耐久性试验中 水接触角均为90°以上，与此相对，关于例5~7,水接触角为80°以下。
[0155] 防污膜具有拒水性，如上所述水接触角变小的情况表示防污膜剥离、磨损。因此， 关于例5~7,可知防污膜剥离、磨损。
[0156] 由这些结果可以确认，关于满足本发明规定的例1~4,与比较例的例5~7相比， 防污膜的耐久性变得非常高。
[0157] 另外，关于例1~4,也可以根据其雾度值确认其具有适当的防眩特性。
[0158] 以上，利用实施方式和实施例等对带防污膜的透明基体进行了说明，但是本发明 并不限定于上述实施方式和实施例等。在权利要求书中记载的本发明的要旨的范围内可以 进行各种变形、变更。
[0159] 本申请要求基于2013年1月30日向日本特许厅提出申请的日本特愿 2013-015968号的优先权，并将日本特愿2013-015968号的全部内容援引到本国际申请中。
[0160] 附图标记
[0161] 11透明基体
[0162] 12防污膜
[0163] 13低反射膜
【主权项】
1. 一种带防污膜的透明基体，其具有： 透明基体，所述透明基体具有第一主面和与所述第一主面相对的第二主面，且在所述 第一主面的表面实施了防眩加工；和 含氟有机硅化合物覆膜，所述含氟有机硅化合物覆膜为设置在所述透明基体的所述第 一主面侧的防污膜； 所述防污膜的表面粗糙度RMS为0. 05 y m以上且0. 25 y m以下，且粗糙度曲线要素的 平均长度RSm为10 y m以上且40 y m以下。2. 如权利要求1所述的带防污膜的透明基体，其中，所述带防污膜的透明基体的雾度 为2%以上且30%以下。3. 如权利要求1或2所述的带防污膜的透明基体，其中，所述透明基体为玻璃基板。4. 如权利要求1~3中任一项所述的带防污膜的透明基体，其中，在所述透明基体的所 述第一主面的表面上依次层叠有低反射膜、含氟有机硅化合物覆膜。5. 如权利要求4所述的带防污膜的透明基体，其中，所述低反射膜为氧化铌层与氧化 硅层的层叠体。6. 如权利要求4或5所述的带防污膜的透明基体，其中，所述低反射膜为层叠多个膜而 得到的层叠体，该层叠体中总计层叠有2层以上且6层以下的膜。
【专利摘要】本发明提供一种带防污膜的透明基体，其具有：透明基体，所述透明基体具有第一主面和与所述第一主面相对的第二主面，且在所述第一主面的表面实施了防眩加工；和含氟有机硅化合物覆膜，所述含氟有机硅化合物覆膜为设置在所述透明基体的所述第一主面侧的防污膜；所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下。
【IPC分类】B32B17/10, C03C17/30, C03C17/42
【公开号】CN104955783
【申请号】CN201480006778
【发明人】藤井健辅, 宫村贤郎
【申请人】旭硝子株式会社
【公开日】2015年9月30日
【申请日】2014年1月22日
【公告号】DE112014000613T5, WO2014119453A1