热塑性中间层着色和/或染色。在复合窗玻璃的情况下，基板和覆盖板优选各自具 有小于35%，特别优选小于30%的在可见光谱范围内的透射率。热塑性中间层优选具有20% 至80%，特别优选20%至70%，最特别优选20%至50%的透射率。
[0028] 该功能层对热福射，特别是红外福射具有反射性质，但在可见光谱范围内基本透 明。根据本发明，该功能层含有至少一种透明导电氧化物（TC0)。该透明导电氧化物的折光 指数优选为1. 7至2. 3。该功能层优选含有至少氣渗杂的氧化锡（Sn化:F)、铺渗杂的氧化锡 (Sn〇2:Sb)和/或氧化铜锡（IT0)，特别优选氧化铜锡（IT0)。因此，可W在本发明的涂层的 福射系数和可弯曲性方面获得特别好的结果。
[0029] 优选使用磁增强的阴极瓣射、用由氧化铜锡制成的祀沉积氧化铜锡。该祀优选含 有75重量％至95重量％氧化铜和5重量％至25重量％氧化锡W及生产相关渗合料。优 选在保护性气氛，例如氣气下进行氧化铜锡的沉积。也可W将少量氧气添加到保护性气体 中W例如改进功能层的均匀性。
[0030] 或者，该祀优选含有至少75重量％至95重量％铜和5重量％至25重量％锡。然 后优选在阴极瓣射过程中在添加氧气作为反应气体下进行氧化铜锡的沉积。
[0031]但是，该功能层还可包括其它透明导电氧化物，例如混合氧化铜/锋（IZ0)、嫁渗 杂或侣渗杂的氧化锋、魄渗杂的氧化铁、锡酸簡和/或锡酸锋。
[0032] 功能层的厚度优选为50纳米至150纳米，特别优选60纳米至140纳米，最特别优 选70纳米至130纳米。在功能层的厚度的该一范围内，一方面，获得有利的减反射作用，另 一方面，低福射系数。
[0033]光学高折射层特别实现本发明的窗玻璃的反射颜色的调节。此外，借助光学高折 射层，可W改进功能层的稳定性W及抗腐蚀性和抗氧化性。当对带有该涂层的窗玻璃施W 温度处理、弯曲工艺和/或预加应力工艺时，该特别有利。
[0034] 该光学高折射层的材料的折光指数优选为1. 7至2. 3,特别优选大于或等于功能 层的材料的折光指数。由此，实现该涂层的有利的光学性质，特别是美学颜色印象。
[0035] 该光学高折射层优选含有至少一种氧化物或氮化物，特别优选氧化鹤、氧化魄、氧 化粗、氧化错、氧化給、氧化饿、氧化铁、氮化娃、氮化错、氮化給和/或氮化侣。该光学高折 射层特别优选含有氮化娃（SIsNa)。由此，在该涂层的稳定性和光学性质方面获得特别好 的结果。氮化娃可具有渗杂剂，例如铁、错、棚、給和/或侣。氮化娃最特别优选用侣渗杂 (Si3N4:Al)或用错渗杂（Si3N4:Zr)或用棚渗杂（Si3N4:B)。该对该涂层的光学性质和福射系 数W及例如通过阴极瓣射施加光学高折射层的速度特别有利。
[0036] 优选使用磁增强的阴极瓣射、用至少含有娃的祀沉积氮化娃。用于沉积含侣渗杂 的氮化娃的层的祀优选含有80重量％至95重量％娃和5重量％至20重量％侣W及生产 相关渗合料。用于沉积含棚渗杂的氮化娃的层的祀优选含有99. 9990重量％至99. 9999重 量％娃和0. 0001重量％至0. 001重量％棚^及生产相关渗合料。用于沉积含错渗杂的氮 化娃的层的祀优选含有60重量％至90重量％娃和10重量％至40重量％错^及生产相关 渗合料。优选在阴极瓣射过程中在添加氮气作为反应气体下进行氮化娃的沉积。
[0037] 该光学高折射层的厚度优选小于20纳米，特别优选小于12纳米，最特别优选小于 10纳米，特别小于8纳米。该光学高折射层的厚度应该为至少1纳米，优选至少2纳米。在 该光学高折射层的厚度的该一范围内，获得本发明的涂层的特别有利的减反射性质。该厚 度优选为1纳米至20纳米，特别优选2纳米至12纳米，最特别优选2纳米至10纳米，特别 是2纳米至8纳米。
[003引在施加本发明的涂层后的温度处理过程中，氮化娃可W部分氧化。作为SisN4沉积 的层随之在温度处理后含有SiyNyO,，其氧含量通常为0原子％至35原子％。
[0039] 粘合层导致沉积在该粘合层上方的层在基板上的持久稳定粘合。粘合层进一步防 止从基板中扩散出的离子积聚在与功能层的边界区中，如果该基板由玻璃制成，该特别是 钢离子。此类离子会导致功能层的腐蚀和低粘合。该粘合层因此对功能层的稳定性特别有 利。
[0040] 该粘合层优选含有至少一种具有1. 5至1. 8的折光指数的材料。粘合层的材料优 选具有在基板的折光指数范围内的折光指数。粘合层可含有例如至少一种氧化物和/或 一种氮化物，优选至少一种氧化物。该粘合层特别优选含有二氧化娃（Si化）。该对沉积在 该粘合层上方的层在基板上的粘合性特别有利。二氧化娃可具有渗杂剂，例如氣、碳、氮、 棚、磯和/或侣。二氧化娃最特别优选用侣渗杂（Si〇2:Al)、用棚渗杂（Si〇2:B)或用错渗杂 (Si〇2:Zr)。该对该涂层的光学性质W及例如通过阴极瓣射施加粘合层的速度特别有利。
[0041] 优选使用磁增强的阴极瓣射、用至少含有娃的祀沉积二氧化娃。用于沉积含侣渗 杂的二氧化娃的粘合层的祀优选含有80重量％至95重量％娃和5重量％至20重量％侣W 及生产相关渗合料。用于沉积含棚渗杂的二氧化娃的粘合层的祀优选含有99. 9990重量％ 至99. 9999重量％娃和0. 0001重量％至0. 001重量％棚W及生产相关渗合料。用于沉积 含错渗杂的二氧化娃的粘合层的祀优选含有60重量％至90重量％娃和10重量％至40重 量％错^及生产相关渗合料。优选在阴极瓣射过程中在添加氧气作为反应气体下进行二氧 化娃的沉积。
[0042] 粘合层的渗杂还可改进在粘合层上方施加的层的平滑度。在本发明的窗玻璃用于 机动车行业的情况下，层的高平滑度特别有利，因为借此避免窗玻璃的不合意的粗趟表面 感。当本发明的窗玻璃是侧窗玻璃时，其可低摩擦移入密封唇口。
[004引但是，或者，该粘合层还可含有例如，氧化侣（Al203)。
[0044] 该粘合层优选具有10纳米至150纳米，特别优选15纳米至50纳米，例如大约30 纳米的厚度。该对本发明的涂层的粘合性和防止离子从基板扩散到功能层中特别有利。
[0045] 也可W在该粘合层下方布置优选具有5纳米至40纳米厚度的附加光学活性层。 例如，该粘合层可含有Si〇2,附加光学活性层可含有至少一种氧化物，如Ti〇2、Al2〇3、Ta2〇5、 Y2〇3、ZnO和/或化SnO,，或一种氮化物，如AIN或SIsNa。借助该光学活性层，有利地进一步 改进本发明的涂层的减反射性质。此外，该光学活性层能够改进透射或反射中的色值的调 -H- T。
[0046] 光学低折射层对本发明的涂层的减反射作用至关重要。此外，借助该光学低折射 层，获得反射和透射光的中性颜色印象并改进功能层的耐蚀性。
[0047] 该光学低折射层可W例如含有至少一种氧化物和/或一种氮化物。该光学低折射 层优选含有至少一种氧化物，特别优选至少二氧化娃（Si化）。该对窗玻璃的光学性质和功 能层的耐蚀性特别有利。二氧化娃可具有渗杂剂，例如氣、碳、氮、棚、磯和/或侣。二氧化 娃最特别优选用侣渗杂（Si〇2:Al)、用棚渗杂（Si〇2:B)或用错渗杂（Si〇2:Zr)。由此获得特 别好的结果。
[0048] 但是，或者，该光学低折射层可含有例如氧化侣（Al2〇3)。
[0049] 该光学低折射层优选具有40纳米至130纳米，特别优选50纳米至120纳米，最特 别优选60纳米至110纳米，特别是70纳米至100纳米的厚度。该对可见光的低反射和高 透射率W及窗玻璃的所选色彩印象的设定和功能层的耐蚀性特别有利。在该光学低折射层 的厚度的该一范围内，获得本发明的涂层的特别有利的减反射性质。
[0050] 在本发明的一个有利的实施方案中，在光学高折射层上方布置覆盖层。该覆盖层 防止本发明的涂层受损，特别是防止划伤。该覆盖层优选含有至少一种氧化物，特别优选至 少Ti〇2、Zr〇2、册〇2、佩2〇5、Ta2〇5、化