的化学组分:Si02:38%,PbO:55%, Al 203:3 %、(Na20，K2O):3%, MgO:1%，通过混合球磨制备获得的低温釉粘度为7000mpa.s’比重为1.65，所述低温釉的软化点为850°C。
[0052]其透明釉的化学组分(wt%)为:NaO:1.5% ；K0:2% ；A10:11% ；CaO:8% ；MgO:5% ；ZnO:2% ；ZrO:4% ;高温熔块:15% ;烧失量:6% ;S1为45.5%。流速为40s，比重1.75。
[0053]—种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，包括以下步骤(流程可见图2所示):
[0054]A、在成型干燥后的砖还表面布施底釉；
[0055]B、布施低温釉:在步骤A布施底釉的砖坯上布施低温釉，其中采用丝网根据砖面定设的印花设计对应其印花的位置印刷低温釉，丝网目数为120目。
[0056]C、采用定位喷墨进行印花，其中印花图案由两种图形间隔拼接而成；
[0057]D、布施透明釉:对步骤C获得的砖坯布施透明釉；
[0058]E、烧制抛光，获得成品，砖面效果如图3所示，洞面上设有纹理图案，使纹理图案给人3D的视觉效果，洞石仿真程度高，洞石的可见度为5-6m，洞石的洞口长度为5-15_，宽度为2-8mm，深度为3_6mm。
[0059]实施例2
[0060]使用与实施例1相同的砖坯、底釉以及透明釉。
[0061]其低温釉的化学组分:Si02:30%、Pb0:65%、A1203:3%、(Na20，K20): I %, MgO:I %，通过混合球磨制备获得的低温釉粘度为7500mpa.s，比重为1.75，所述低温釉的软化点为800°C。
[0062]一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，包括以下步骤(流程可见图2所示):
[0063]A、在成型干燥后的砖还表面布施底釉；
[0064]B、布施低温釉:在步骤A布施底釉的砖坯上布施低温釉，其中采用喷墨打印机根据砖面定设的印花设计对应其印花的位置喷敷低温釉，厚度为5mm。
[0065]C、采用定位喷墨进行印花，印花为仿天然大理石裂纹的纹理；
[0066]D、布施透明釉:对步骤C获得的砖坯布施透明釉；
[0067]E、烧制抛光，获得成品，洞面上设有仿天然大理石裂纹的纹理图案，使纹理图案给人3D的视觉效果，像石材面对大自然侵蚀作用下而产生的裂纹，精细逼真，洞石仿真程度高，洞石的可见度为6_7m，洞石的洞口长度为10_30mm，宽度为3_8mm，深度为3_8mm。
[0068]实施例3
[0069]使用与实施例1相同的砖坯、底釉以及透明釉。
[0070]其低温釉的化学组分:Si02:40%、PbO:55%、A1203:3.8%、(Na20，K20):1%,MgO:0.2%，通过混合球磨制备获得的低温釉粘度为9500mpa.s’比重为1.67，所述低温釉的软化点为780 °C。
[0071]—种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，包括以下步骤(流程可见图2所示):
[0072]A、在成型干燥后的砖还表面布施底釉；
[0073]B、布施低温釉:在步骤A布施底釉的砖坯上布施低温釉，其中采用丝网根据砖面定设的印花设计对应其印花的位置印刷低温釉，丝网目数为160目。
[0074]C、采用定位喷墨进行印花，印花为仿天然大理石裂纹的纹理；
[0075]D、布施透明釉:对步骤C获得的砖坯布施透明釉；
[0076]E、烧制抛光，获得成品，洞面上设有仿天然大理石裂纹的纹理图案，使纹理图案给人3D的视觉效果，像石材面对大自然侵蚀作用下而产生的裂纹，精细逼真，洞石仿真程度高，洞石的可见度为3-5m，洞石的洞口长度为10-20mm，宽度为3_5mm，深度为2_4mm。
[0077]实施例4
[0078]使用与实施例1相同的砖坯、底釉以及透明釉。
[0079]其低温釉的化学组分:Si02:30.8%、PbO:60%、A1203:8%、(Na20，K20):1%,MgO:0.2%，通过混合球磨制备获得的低温釉粘度为6500mpa.s’比重为1.73，所述低温釉的软化点为820°C。
[0080]一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，包括以下步骤(流程可见图2所示):
[0081]A、在成型干燥后的砖还表面布施底釉；
[0082]B、布施低温釉:在步骤A布施底釉的砖坯上布施低温釉，其中采用丝网根据砖面定设的印花设计对应其印花的位置印刷低温釉，丝网目数为100目。
[0083]C、采用定位喷墨进行印花，印花为仿天然石材的纹理；
[0084]D、布施透明釉:对步骤C获得的砖坯布施透明釉；
[0085]E、烧制抛光，获得成品，洞面上设有仿天然石材纹理的图案，使纹理图案给人3D的视觉效果，像由岩浆自然流动堆积形成的石材结构，精细逼真，洞石仿真程度高，洞石的可见度为4_5m，洞石的洞口长度为10_15mm，宽度为3_5mm，深度为2_5mm。
[0086]实施例5
[0087]使用与实施例1相同的砖坯和透明釉；
[0088]其低温釉的化学组分:Si02:40 %、PbO:50 %、A1203 -.7.5%, (Na20，K20):2%,MgO:0.5%，通过混合球磨制备获得的低温釉粘度为8470mpa.s’比重为1.60，所述低温釉的软化点为900 °C。
[0089]—种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，包括以下步骤:
[0090]A、在成型干燥后的砖还表面布施底釉；
[0091]B、布施低温釉:在步骤A获得的抛坯上布施低温釉，低温釉对应于砖坯表面的图案纹理采用丝网进行布施，丝网目数为120 ;
[0092]C、进行印花:采用丝网印刷进行印花，其中印花位置与低温釉布施的位置相一致，印花图案为仿天然石材纹理的印花；
[0093]D、布施透明釉:对步骤C获得的抛坯布施透明釉；
[0094]E、烧制抛光，获得成品，洞上设有仿天然石材纹理，使仿天然石材纹理给人3D的视觉效果，像由岩浆自然流动堆积形成的石材结构，精细逼真，洞石仿真程度高，洞石的可见度为5-6m，洞石的洞口长度为5-10_，宽度为3-4_，深度为2_3mm。所述低温釉的软化点为900°C，因为产生气体温度较低，约为800-1000°C，在900°C时低温釉才形成熔融层的话，在900°C前会跑走一部分的气体，使孔洞的形成变小，不利于控制孔洞的形成。
[0095]以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它【具体实施方式】，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，其特征在于:包括以下步骤: A、在成型干燥后的砖还表面布施底釉； B、布施低温釉:在步骤A印花后的砖坯上布施低温釉； C、印花处理:在步骤B获得的砖坯进行印花； D、布施透明釉:对步骤C获得的砖坯布施透明釉； E、烧制抛光，获得成品。2.根据权利要求1所述的一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，其特征在于:所述低温釉的软化点低于850°C。3.根据权利要求1所述的一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，其特征在于:所述低温釉的布施方法为丝网印制或喷墨喷釉中的一种或多种组合。4.根据权利要求1所述的一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，其特征在于:步骤B中低温釉根据砖面定设的印花设计对应其印花的位置进行印刷。5.根据权利要求1所述的一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，其特征在于:步骤B中所述低温釉的釉料包括以下组分:30-40% Si02、55-65%Pb0、3-8%Al203、l-3% (Na2O^K2O)和 0.2-1% MgO06.根据权利要求1所述的一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，其特征在于:步骤C通过定位喷墨或丝网印刷中的一种或多种组合的方式进行印花。7.根据权利要求1所述的一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，其特征在于:步骤C的印花图案由两种或两种以上图案的拼组设计而成。8.根据权利要求7所述的一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，其特征在于:步骤B中低温釉根据砖面定设的印花设计，对应其中一种或多种图案的位置进行印刷。9.根据权利要求1所述的一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法，其特征在于:步骤B中低温釉随机印刷于步骤A底釉层上。10.使用权利要求1-9所述的一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法获得的砖坯结构，其特征在于:所述砖坯结构自下而上包括底料层、底釉层、印花层和透明釉层，所述底釉层和所述印花层之间还设置低温釉层。
【专利摘要】一种仿天然洞石抛釉砖的生产方法及其获得的砖坯结构，包括以下步骤：A、在成型干燥后的砖坯表面布施底釉；B、布施低温釉：在步骤A印花后的砖坯上布施低温釉；C、印花处理：在步骤B获得的砖坯进行印花；D、布施透明釉：对步骤C获得的砖坯布施透明釉；E、烧制抛光，获得成品。本发明提出一种仿真程度高的仿洞石抛釉砖的生产方法，其色泽丰富多变，洞石效果可控性高。
【IPC分类】C04B41/89, C04B41/86
【公开号】CN105036814
【申请号】CN201510354863
【发明人】丘云灵, 金国庭, 周燕
【申请人】佛山市东鹏陶瓷有限公司, 广东东鹏控股股份有限公司, 清远纳福娜陶瓷有限公司, 丰城市东鹏陶瓷有限公司, 广东东鹏陶瓷股份有限公司
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年6月24日