膜层2上镀厚度为10-20nm的第一氧化铌膜层3，镀该膜层时，采用中频电源加旋转变压器在氩氧氛围中溅射沉积，功率为22-44KW ;
[0063](5)在第一氧化铌膜层3上镀厚度为10-20nm的氧化锌铝膜层4，镀该膜层时，采用中频电源加旋转变压器在氩氧氛围中溅射沉积，功率为22-44KW ;
[0064](6)在氧化锌铝膜层4上镀厚度为8-20nm的银膜层5，镀该膜层时，采用直流电源在氩气氛围中溅射沉积，功率为4-10KW ;
[0065](7)在银膜层5上镀厚度为l_4nm的氧化镍铬膜层6，镀该膜层时，采用直流电源在氩氧氛围中溅射沉积，功率为2.5-10KW ;
[0066](8)在氧化镍铬膜层6上镀厚度为10-20nm的氧化锌锡锑膜层7，镀该膜层时，采用中频电源加旋转变压器在氩氧氛围中溅射沉积，功率为15-30KW ;
[0067](9)在氧化锌锡锑膜层7上镀厚度为10_20nm的第二氧化铌膜层8，镀该膜层时，采用中频电源加旋转变压器在氩氧氛围中溅射沉积，功率为5-10KW ;
[0068](10)在第二氧化铌膜层8上镀厚度为20-40nm的第二氮化硅膜层9，镀该膜层时，采用中频电源加旋转变压器在氩氮氛围中溅射沉积，功率为36-72KW ;
[0069](11)在第二氮化硅膜层9上镀厚度为l_5nm的氧化钛膜层10，镀该膜层时，采用中频电源加旋转变压器在氩气氛围中溅射沉积，功率为5-25KW ;
[0070](12)预真空过渡；
[0071](13)成品检测。
[0072]镀膜完成后此玻璃的可见光透过率为89%，膜面表明辐射率0.1，无可视的针孔、划伤等缺陷。6mm浮法白玻的可见光透过率基本上在88%左右，目前市场上常规的单银低辐射镀膜玻璃采用的膜系结构中存在较高吸收系数的金属层，使得可见光透过率都在40% -80%之间，并且为了达到低辐射率的效果，金属层厚度不可能太小，因此可见光透过率很难达到80 %以上，本发明充分利用了膜层之间光的干涉原理，最大限度发挥膜层的增透功能，故获得了理想的可见光透过率和辐射率的镀膜玻璃。
[0073]实施例二:
[0074]本实施例与实施例一相同的部分不再赘述，不同的是:
[0075]第一氮化硅膜层2的厚度为27nm，第一氧化铌膜层3的厚度为13nm，氧化锌铝膜层4的厚度为13nm，银膜层5的厚度为12nm，氧化镍铬膜层6的厚度为2nm，氧化锌锡锑膜层7的厚度为12nm，第二氧化铌膜层8的厚度为12nm，第二氮化硅膜层9的厚度为26nm，氧化钛膜层10的厚度为2nm。
[0076]镀膜完成后此玻璃的可见光透过率为90 %，膜面表明辐射率0.08，无可视的针孔、划伤等缺陷。
[0077]实施例三:
[0078]本实施例与实施例一相同的部分不再赘述，不同的是:
[0079]第一氮化硅膜层2的厚度为33nm，第一氧化铌膜层3的厚度为16nm，氧化锌铝膜层4的厚度为17nm，银膜层5的厚度为16nm，氧化镍铬膜层6的厚度为3nm，氧化锌锡锑膜层7的厚度为17nm，第二氧化银膜层8的厚度为16nm，第二氮化娃膜层9的厚度为33nm，氧化钛膜层10的厚度为4nm。
[0080]镀膜完成后此玻璃的可见光透过率为90 %，膜面表明辐射率0.07，无可视的针孔、划伤等缺陷。
[0081]实施例四:
[0082]本实施例与实施例一相同的部分不再赘述，不同的是:
[0083]第一氮化硅膜层2的厚度为40nm，第一氧化铌膜层3的厚度为20nm，氧化锌铝膜层4的厚度为20nm，银膜层5的厚度为20nm，氧化镍铬膜层6的厚度为4nm，氧化锌锡锑膜层7的厚度为20nm，第二氧化铌膜层8的厚度为20nm，第二氮化硅膜层9的厚度为40nm，氧化钛膜层10的厚度为5nm。
[0084]镀膜完成后此玻璃的可见光透过率为88%，膜面表明辐射率0.1，无可视的针孔、划伤等缺陷。
[0085]此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
【主权项】
1.一种超高可见光透过率的镀膜玻璃，包括玻璃基体，其特征在于，由玻璃基体向外依次包括: 第一氮化娃膜层、 第一氧化铌膜层、 氧化锌铝膜层、 银膜层、 氧化镍铬膜层、 氧化锌锡锑膜层、 第二氧化铌膜层、 第二氮化硅膜层、 氧化钛膜层。2.根据权利要求1所述的超高可见光透过率的镀膜玻璃，其特征在于，所述氧化钛膜层的厚度为l_5nm03.根据权利要求1所述的超高可见光透过率的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氧化铌膜层和第二氧化铌膜层的厚度均为10-20nm。4.根据权利要求1所述的超高可见光透过率的镀膜玻璃，其特征在于，所述氧化锌铝膜层的厚度为10-20nmo5.根据权利要求1所述的超高可见光透过率的镀膜玻璃，其特征在于，所述银膜层的厚度为8-20nmo6.根据权利要求1所述的超高可见光透过率的镀膜玻璃，其特征在于，所述氧化镍铬膜层的厚度为l_4nm。7.根据权利要求1所述的超高可见光透过率的镀膜玻璃，其特征在于，氧化锌锡锑膜层的厚度为10-20nmo8.根据权利要求1-7任一所述的超高可见光透过率的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化娃膜层和第二氮化娃膜层的厚度均为20-40nm。9.一种制备如权利要求1-8任一所述的超高可见光透过率的镀膜玻璃的方法，其特征在于，包括以下步骤: (1)对玻璃基体进行清洗、干燥； (2)预真空过渡； (3)在玻璃基体上镀厚度为20-40nm的第一氮化硅膜层； (4)在第一氮化硅膜层上镀厚度为10-20nm的第一氧化铌膜层； (5)在第一氧化铌膜层上镀厚度为10-20nm的氧化锌铝膜层； (6)在氧化锌铝膜层上镀厚度为8-20nm的银膜层； (7)在银膜层上镀厚度为l_4nm的氧化镍铬膜层； (8)在氧化镍铬膜层上镀厚度为10-20nm的氧化锌锡锑膜层； (9)在氧化锌锡锑膜层上镀厚度为10-20nm的第二氧化铌膜层； (10)在第二氧化铌膜层上镀厚度为20-40nm的第二氮化硅膜层； (11)在第二氮化硅膜层上镀厚度为l_5nm的氧化钛膜层； (12)预真空过渡； (13)成品检测。
【专利摘要】本发明公开了一种超高可见光透过率的镀膜玻璃及其制备方法，属于镀膜玻璃技术领域，包括玻璃基体，由玻璃基体向外依次包括：第一氮化硅膜层、第一氧化铌膜层、氧化锌铝膜层、银膜层、氧化镍铬膜层、氧化锌锡锑膜层、第二氧化铌膜层、第二氮化硅膜层、氧化钛膜层，本发明的镀膜玻璃辐射率低，同时具有超高可见光透过率。
【IPC分类】C03C17/36
【公开号】CN105130208
【申请号】CN201510419727
【发明人】樊义平, 周厚祥
【申请人】青岛锦绣前程节能玻璃有限公司
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2015年7月16日