保护膜、膜层叠体及偏光板的制作方法

技术特征：

技术总结
本发明提供一种在薄层状态下透湿度低且具有自支撑性的保护膜。本发明的保护膜是由重复单元形成的保护膜，所述重复单元具有源自于作为单体的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的结构，并且，所述重复单元具有支链状烷基。

技术研发人员：村田力;铃木雅康;桑原将臣;后藤诚;村田亮;加藤昌央
受保护的技术使用者：株式会社巴川制纸所
技术研发日：2015.08.13
技术公布日：2017.08.18